公开(公告)号：US20110141447A1

公开(公告)日：2011-06-16

申请号：US13019587

申请日：2011-02-02

申请人： Marc Wilhelmus Maria VAN DER WIJST ,  Engelbertus Antonius Fransiscus VAN DER PASCH ,  Koen Jacobus Johannes Maria ZAAL

发明人： Marc Wilhelmus Maria VAN DER WIJST ,  Engelbertus Antonius Fransiscus VAN DER PASCH ,  Koen Jacobus Johannes Maria ZAAL

IPC分类号： G03B27/54 ,  G01B11/14

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70783

摘要： An encoder-type measurement system is configured to measure a position dependent signal of a movable object, the measurement system including at least one sensor mountable on the movable object a sensor target object mountable on a substantially stationary frame, and a mounting device configured to mount the sensor target object on the substantially stationary frame. The measurement system further includes a compensation device configured to compensate movements and/or deformations of the sensor target object with respect to the substantially stationary frame. The compensation device may include a passive or an active damping device and/or a feedback position control system. In an alternative embodiment, the compensation device includes a gripping device which fixes the position of the sensor target object during a high accuracy movement of the movable object.

摘要翻译： 编码器型测量系统被配置为测量可移动物体的位置相关信号，所述测量系统包括可安装在可移动物体上的至少一个传感器，可安装在基本上固定的框架上的传感器目标物体，以及安装装置， 传感器目标物体在基本上固定的框架上。 测量系统还包括补偿装置，其被配置为补偿传感器目标物体相对于基本上静止的框架的运动和/或变形。 补偿装置可以包括无源或主动阻尼装置和/或反馈位置控制系统。 在替代实施例中，补偿装置包括夹持装置，其在可移动物体的高精度运动期间固定传感器目标物体的位置。

公开(公告)号：US07903866B2

公开(公告)日：2011-03-08

申请号：US11730190

申请日：2007-03-29

申请人： Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Koen Jacobus Johannes Maria Zaal

发明人： Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Koen Jacobus Johannes Maria Zaal

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70783

摘要： An encoder-type measurement system is configured to measure a position dependent signal of a movable object, the measurement system including at least one sensor mountable on the movable object a sensor target object mountable on a substantially stationary frame, and a mounting device configured to mount the sensor target object on the substantially stationary frame. The measurement system further includes a compensation device configured to compensate movements and/or deformations of the sensor target object with respect to the substantially stationary frame. The compensation device may include a passive or an active damping device and/or a feedback position control system. In an alternative embodiment, the compensation device includes a gripping device which fixes the position of the sensor target object during a high accuracy movement of the movable object.

摘要翻译： 编码器型测量系统被配置为测量可移动物体的位置相关信号，所述测量系统包括可安装在可移动物体上的至少一个传感器，可安装在基本上固定的框架上的传感器目标物体，以及安装装置， 传感器目标物体在基本上固定的框架上。 测量系统还包括补偿装置，其被配置为补偿传感器目标物体相对于基本上静止的框架的运动和/或变形。 补偿装置可以包括无源或主动阻尼装置和/或反馈位置控制系统。 在替代实施例中，补偿装置包括夹持装置，其在可移动物体的高精度运动期间固定传感器目标物体的位置。

公开(公告)号：US07804584B2

公开(公告)日：2010-09-28

申请号：US12262647

申请日：2008-10-31

申请人： Petrus Rutgerus Bartray ,  Wilhelmus Josephus Box ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Engelbertus Antonius Franciscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Marc Johannes Martinus Engels

发明人： Petrus Rutgerus Bartray ,  Wilhelmus Josephus Box ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Engelbertus Antonius Franciscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Marc Johannes Martinus Engels

IPC分类号： G03B27/32 ,  G03B27/42 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F7/70716 ,  G03F7/70775

摘要： Methods of manufacturing an integrated circuit by a lithographic apparatus are disclosed. The methods include patterning a radiation beam with a patterning device, projecting the patterned beam onto a substrate using a projection system, and determining the position of the patterning device. In one example, the patterning device's position relative to the projection system is determined by measuring the position of the patterning device's support structure. In another example, the position can be determined by measuring a position of the patterning device relative to its support and by measuring a position of the support. In another example, a Z-position of the patterning device is determined by directing at least one beam of radiation onto a part of the patterning device located outside a pattern area. This can be done by directing a pair of laser beams from sensors on the projection system to reflecting strips on the patterning device.

摘要翻译： 公开了通过光刻设备制造集成电路的方法。 所述方法包括用图案形成装置图案化辐射束，使用投影系统将图案化的光束投射到衬底上，并且确定图案形成装置的位置。 在一个示例中，图案形成装置相对于投影系统的位置通过测量图案形成装置的支撑结构的位置来确定。 在另一示例中，位置可以通过测量图案形成装置相对于其支撑件的位置并通过测量支撑件的位置来确定。 在另一示例中，通过将至少一束辐射引导到位于图案区域外的图案形成装置的一部分来确定图案形成装置的Z位置。 这可以通过将一对激光束从投影系统上的传感器引导到图案形成装置上的反射条来实现。

公开(公告)号：US20100157264A1

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：US12627118

申请日：2009-11-30

申请人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst

发明人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/54 ,  G03B27/32

CPC分类号： F16F15/002 ,  G03F7/709

摘要： A method for damping an object in two or more degrees of freedom, including measuring a position quantity at each of the two or more measurement locations; extracting from the measured position quantities a measurement signal for each dynamic mode; feeding the measurement signal of a dynamic mode to a controller unit associated with the respective dynamic mode, the controller unit providing for each dynamic mode an output signal on the basis of the respective measurement signal; and providing a control signal to each of the two or more actuators, the control signal for each actuator being based on output signals of one or more controller units.

摘要翻译： 一种用于在两个或多个自由度中阻尼物体的方法，包括测量两个或更多个测量位置中的每一个处的位置量; 从测量位置数量提取每个动态模式的测量信号; 将动态模式的测量信号馈送到与相应动态模式相关联的控制器单元，所述控制器单元基于相应的测量信号为每个动态模式提供输出信号; 并且向所述两个或更多个致动器中的每一个提供控制信号，每个致动器的控制信号基于一个或多个控制器单元的输出信号。

公开(公告)号：US20090207393A1

公开(公告)日：2009-08-20

申请号：US12268622

申请日：2008-11-11

申请人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Joost De Pee ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon ,  Stijn Boschker

发明人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Joost De Pee ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon ,  Stijn Boschker

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/709 ,  F16F7/1005 ,  F16F15/02

摘要： An active damping system assembly is configured to dampen a vibration of at least part of a structure. The assembly includes a plurality of active dampers each including a sensor configured to measure a position quantity of an interface mass mounted on the structure; and an actuator configured to exert a force on the interface mass in dependency of a signal provided by the sensor, wherein each of the plurality of active damping systems is connected to the interface mass. The structure may be a projection system of a lithographic apparatus.

摘要翻译： 主动阻尼系统组件被配置为抑制结构的至少一部分的振动。 组件包括多个有源阻尼器，每个活动阻尼器包括被配置为测量安装在结构上的接口质量的位置量的传感器; 以及致动器，其被配置为根据由传感器提供的信号对接口质量施加力，其中多个主动阻尼系统中的每一个连接到界面质量块。 该结构可以是光刻设备的投影系统。

公开(公告)号：US20090122284A1

公开(公告)日：2009-05-14

申请号：US12249399

申请日：2008-10-10

申请人： Hans Butler ,  Erik Roelof Loopstra ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Joost De Pee ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon ,  Stijn Boschker

发明人： Hans Butler ,  Erik Roelof Loopstra ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Joost De Pee ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon ,  Stijn Boschker

IPC分类号： G03B27/42 ,  F16F7/10

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70883

摘要： A lithographic apparatus includes a projection system to project a patterned radiation beam onto a substrate, and a damping system to dampen a vibration of at least part of the projection system, the damping system including an interface damping mass and an active damping subsystem to dampen a vibration of at least part of the interface damping mass, the interface damping mass connected to the projection system, and the active damping subsystem connected to the interface damping mass, the active damping subsystem including a sensor to measure a position quantity of the interface damping mass and an actuator to exert a force on the interface damping mass based on a signal provided by the sensor. The damping system further includes an interface damping device connected to the interface damping mass and configured to damp a movement of the interface damping mass at an eigenfrequency of the interface damping mass.

摘要翻译： 光刻设备包括将图案化的辐射束投影到衬底上的投影系统和用于抑制至少部分投影系统的振动的阻尼系统，所述阻尼系统包括界面阻尼块和主动阻尼子系统，以阻尼 界面阻尼块的至少一部分的振动，连接到投影系统的界面阻尼质量以及连接到界面阻尼块的主动阻尼子系统，主动阻尼子系统包括测量接口阻尼块的位置量的传感器 以及致动器，其基于由传感器提供的信号对接口阻尼质量施加力。 阻尼系统还包括连接到界面阻尼块的接口阻尼装置，并且被配置为在接口阻尼块的本征频率处阻尼接口阻尼块的运动。

公开(公告)号：US20080218722A1

公开(公告)日：2008-09-11

申请号：US12081975

申请日：2008-04-24

申请人： Marc Wilhelmus Maria VAN DER WIJST ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus FRANKEN ,  Erik Roelof LOOPSTRA ,  Marius RAVENSBERGEN

发明人： Marc Wilhelmus Maria VAN DER WIJST ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus FRANKEN ,  Erik Roelof LOOPSTRA ,  Marius RAVENSBERGEN

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70266 ,  G03F7/70825

摘要： A lithographic apparatus is disclosed having a deformable lens element through which a patterned radiation beam is arranged to pass before reaching a substrate and having a deformable lens actuator configured to transmit a combination of a force substantially parallel to the optical axis of the projection system and a localized torque about an axis substantially perpendicular to the optical axis independently at a plurality of sub-regions on the deformable lens element.

公开(公告)号：US06788386B2

公开(公告)日：2004-09-07

申请号：US10322777

申请日：2002-12-19

申请人： Hendrikus Herman Marie Cox ,  Frank Auer ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Bastiaan Stephanus Hendrikus Jansen ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken

发明人： Hendrikus Herman Marie Cox ,  Frank Auer ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Bastiaan Stephanus Hendrikus Jansen ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken

IPC分类号： G03B2742

CPC分类号： G03F7/70141 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/709

摘要： A reaction mass and an actuator are used to reduce unwanted vibrations of an optical element in the projection system of a lithographic projection apparatus. The reaction mass may be mechanically connected only to the optical element or may be compliantly mounted to the projection system frame.

摘要翻译： 反应物质和致动器用于减少光刻投影装置的投影系统中的光学元件的不必要的振动。 反应物质可以仅机械连接到光学元件，或者可以顺应地安装到投影系统框架。

公开(公告)号：US09378722B2

公开(公告)日：2016-06-28

申请号：US12331870

申请日：2008-12-10

申请人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van der Wijst ,  Johan Hendrik Geerke ,  Peter Paul Hempenius ,  Youssef Karel Maria De Vos ,  Joost De Pee ,  Clementius Andreas Johannes Beijers ,  Nicolaas Bernardus Roozen ,  Erwin Antonius Henricus Fransiscus Van den Boogaert ,  Marco Hendrikus Hermanus Oude Nijhuis ,  Francois Xavier Debiesme

发明人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van der Wijst ,  Johan Hendrik Geerke ,  Peter Paul Hempenius ,  Youssef Karel Maria De Vos ,  Joost De Pee ,  Clementius Andreas Johannes Beijers ,  Nicolaas Bernardus Roozen ,  Erwin Antonius Henricus Fransiscus Van den Boogaert ,  Marco Hendrikus Hermanus Oude Nijhuis ,  Francois Xavier Debiesme

IPC分类号： G10K11/178 ,  G03B27/42 ,  G03F7/20

CPC分类号： G10K11/178 ,  G03B27/42 ,  G03F7/709 ,  G10K2210/129

摘要： A lithographic apparatus is arranged to transfer a pattern from a patterning device onto a substrate. The lithographic apparatus includes an acoustical sensor to measure a first acoustic vibration in a sensor measurement area in the lithographic apparatus. An actuator is provided to generate a second acoustic vibration in at least an area of the lithographic apparatus. Further, a control device is provided having a sensor input to receive a sensor signal of the acoustical sensor and an actuator output to provide an actuator drive signal to the actuator. The control device is arranged to drive the actuator so as to let the second acoustic vibration at least partly compensate in the area the first acoustic vibration.

摘要翻译： 光刻设备被布置成将图案从图案形成装置转印到基底上。 光刻设备包括用于测量光刻设备中传感器测量区域中的第一声振动的声学传感器。 提供致动器以在光刻设备的至少一个区域中产生第二声振动。 此外，提供了具有传感器输入以接收声学传感器的传感器信号和致动器输出以向致动器提供致动器驱动信号的控制装置。 控制装置被布置成驱动致动器，以使得第二声振动在该区域中至少部分地补偿第一声振动。

公开(公告)号：US08553199B2

公开(公告)日：2013-10-08

申请号：US12268801

申请日：2008-11-11

申请人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Johan Hendrik Geerke ,  Joost De Pee ,  Clementius Andreas Johannes Beijers ,  Marco Hendrikus Hermanus Oude Nijhuis ,  Francois Xavier Debiesme

发明人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Johan Hendrik Geerke ,  Joost De Pee ,  Clementius Andreas Johannes Beijers ,  Marco Hendrikus Hermanus Oude Nijhuis ,  Francois Xavier Debiesme

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/709

摘要： A vibration damping arrangement for a lithographic apparatus includes a sensor arranged to, in use, detect a vibration of a projection system. An actuator is arranged to, in use, exert a force on a control unit of the projection system to convert an output signal of the sensor to an actuator input signal such that, during operation, the vibration of the projection system is mitigated by controlling the actuator by the input signal to exert the force to the projection system.

摘要翻译： 用于光刻设备的减振装置包括布置成在使用中检测投影系统的振动的传感器。 致动器被布置成在使用中在投影系统的控制单元上施加力以将传感器的输出信号转换为致动器输入信号，使得在操作期间通过控制投影系统来减轻投影系统的振动 致动器通过输入信号向投影系统施加力。