公开(公告)号：US20050270504A1

公开(公告)日：2005-12-08

申请号：US11142964

申请日：2005-06-01

申请人： Atsushi Takagi ,  Hideki Ina ,  Koichi Sentoku ,  Hiroshi Morohoshi

发明人： Atsushi Takagi ,  Hideki Ina ,  Koichi Sentoku ,  Hiroshi Morohoshi

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/68 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/706

摘要： A measurement method for measuring a distortion of a projection optical system that projects a pattern, used by an exposure apparatus that exposes the reticle pattern onto an object to be exposed, the measurement method includes the steps of a first exposing step for exposing a mark pattern onto the object to be exposed, the mark pattern having a mark on or near an optical axis of the projection optical system and a mark beside the optical axis, and being arranged at a position of the reticle, a second exposing step for only exposing a mark on or near the optical axis of the projection optical system in the mark pattern, measuring step for measuring a shape of the mark formed on the object to be exposed via the first and second exposing steps, and calculating step for calculating the distortion of the projection optical system from the shape of the mark measured by the measuring step.

摘要翻译： 一种测量方法，用于测量投影光学系统的变形，所述投影光学系统将曝光所述掩模版图案的曝光装置所使用的图案投影到待曝光的物体上，所述测量方法包括以下步骤：第一曝光步骤，用于曝光标记图案 在待曝光的物体上，标记图案在投影光学系统的光轴上或其附近具有标记，并且在光轴旁边具有标记，并且被布置在光罩的位置处，第二曝光步骤仅用于曝光 在标记图案中的投影光学系统的光轴上或附近标记的测量步骤，用于测量经由第一和第二曝光步骤在待曝光的物体上形成的标记的形状的测量步骤，以及用于计算第 投影光学系统从由测量步骤测量的标记的形状。

公开(公告)号：US20050211918A1

公开(公告)日：2005-09-29

申请号：US11132260

申请日：2005-05-19

申请人： Satoru Oishi ,  Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Koichi Sentoku

发明人： Satoru Oishi ,  Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Koichi Sentoku

IPC分类号： G02B17/08 ,  G03F1/22 ,  G03F1/24 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/68 ,  G01J1/00 ,  A61N5/00 ,  G01N21/00

CPC分类号： G03F9/7065 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70283 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7015 ,  G03F9/7088

摘要： An alignment apparatus for aligning a reflective reticle includes a light source for emitting alignment light, an optical alignment mark provided on the reticle, and a reference mark provided on a reticle stage that holds the reticle. A detecting unit detects the alignment light reflected from the alignment mark and the reference mark, and the reticle is aligned on the basis of the result of detection by the detection unit.

摘要翻译： 用于对准反射标线的对准装置包括用于发射对准光的光源，设置在光罩上的光学对准标记，以及设置在保持光罩的标线片台上的参考标记。 检测单元检测从对准标记和参考标记反射的对准光，并且基于检测单元的检测结果对准标线。

公开(公告)号：US06529625B2

公开(公告)日：2003-03-04

申请号：US09083962

申请日：1998-05-26

申请人： Koichi Sentoku ,  Hideki Ina

发明人： Koichi Sentoku ,  Hideki Ina

IPC分类号： G06K900

CPC分类号： H01L21/682 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7085 ,  G03F9/7015 ,  G03F9/7038 ,  G03F9/7088

摘要： A position detecting method and a position detecting device which make it possible to detect with high accuracy by an image processing method the relative positions of two objects spaced apart in the optical axis direction of a detection optical system, and a semiconductor device manufacturing method using the position detecting method and the position detecting device. In detecting the relative positions of a first object (e.g., a mask) and a second object (e.g., a wafer), there is provided a third object equipped with separate reference alignment marks, and optical images of the reference alignment marks on the third object and optical images of the position detecting marks on the first and second objects are detected by an image pickup device, thereby detecting positional deviation between the first and second objects.

摘要翻译： 一种位置检测方法和位置检测装置，其使得可以通过图像处理方法以高精度检测在检测光学系统的光轴方向上间隔开的两个物体的相对位置和使用该检测光学系统的半导体器件制造方法 位置检测方法和位置检测装置。 在检测第一物体（例如，掩模）和第二物体（例如，晶片）的相对位置时，提供了具有单独的参考对准标记的第三物体，以及在第三物体上的参考对准标记的光学图像 通过图像拾取装置检测第一和第二物体上的位置检测标记的物体和光学图像，从而检测第一和第二物体之间的位置偏差。

公开(公告)号：US20090108483A1

公开(公告)日：2009-04-30

申请号：US11719878

申请日：2007-04-18

申请人： Nobuhito Suehira ,  Junichi Seki ,  Hideki Ina ,  Koichi Sentoku

发明人： Nobuhito Suehira ,  Junichi Seki ,  Hideki Ina ,  Koichi Sentoku

IPC分类号： G03F9/00 ,  G01B11/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F9/00 ,  G03F9/703 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7088

摘要： In an alignment method for effecting alignment between two plate-like objects, a first plate-like object provided with a first alignment mark and a second plate-like object provide with a second alignment mark are disposed opposite to each other. A first area and a second area are provided at mutually nonoverlapping positions in an image pickup area for being observed through an image pickup device. Images of the first and second alignment marks are picked up by the image pickup device from a direction substantially perpendicular to an in-plane direction of the first and second plate-like objects. Alignment control is effected by using first information about a deviation of the first alignment mark from a predetermined position in the first area and second information about a deviation of the second alignment mark from a predetermined position in the second area.

摘要翻译： 在用于实现两个板状物体之间的对准的对准方法中，设置有第一对准标记的第一板状物体和提供有彼此相对设置的第二对准标记的第二板状物体。 第一区域和第二区域设置在图像拾取区域中的相互非重叠位置，以便通过图像拾取装置观察。 第一和第二对准标记的图像由图像拾取装置从基本上垂直于第一和第二板状物体的面内方向的方向拾取。 通过使用关于第一对准标记与第一区域中的预定位置的偏差的第一信息和关于第二对准标记与第二区域中的预定位置的偏差的第二信息来实现对准控制。

公开(公告)号：US07173716B2

公开(公告)日：2007-02-06

申请号：US11132260

申请日：2005-05-19

申请人： Satoru Oishi ,  Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Koichi Sentoku

发明人： Satoru Oishi ,  Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Koichi Sentoku

IPC分类号： G01B11/14 ,  G01B11/00

CPC分类号： G03F9/7065 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70283 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7015 ,  G03F9/7088

摘要： An alignment apparatus for aligning a reflective reticle includes a light source for emitting alignment light, an optical alignment mark provided on the reticle, and a reference mark provided on a reticle stage that holds the reticle. A detecting unit detects the alignment light reflected from the alignment mark and the reference mark, and the reticle is aligned on the basis of the result of detection by the detection unit.

摘要翻译： 用于对准反射标线的对准装置包括用于发射对准光的光源，设置在光罩上的光学对准标记，以及设置在保持光罩的标线片台上的参考标记。 检测单元检测从对准标记和参考标记反射的对准光，并且基于检测单元的检测结果对准标线。

公开(公告)号：US06992780B2

公开(公告)日：2006-01-31

申请号：US10150154

申请日：2002-05-20

申请人： Koichi Sentoku ,  Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Satoru Oishi

发明人： Koichi Sentoku ,  Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Satoru Oishi

IPC分类号： G01B11/14 ,  G03B27/42 ,  G01N21/86

CPC分类号： G03F9/7015 ,  G03F7/70233 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7065 ,  G03F9/7088

摘要： A method of detecting relative position of a reflecting-type reticle and a substrate with the reticle having an alignment mark thereon. The method includes a holding step of holding the reticle on a reticle stage which has a reference mark, and a detection step of detecting position of the alignment mark on the reticle based on alignment light reflected from the alignment mark and detecting relative position between the reference mark on the reticle stage and the alignment mark.

摘要翻译： 一种检测反射型掩模版和基板的相对位置的方法，其中掩模版具有对准标记。 该方法包括：将掩模版保持在具有参考标记的标线片台上;以及检测步骤，基于从对准标记反射的对准光检测标线上的对准标记的位置，并检测基准标记之间的相对位置 标记在标线台和对准标记上。

公开(公告)号：US08845317B2

公开(公告)日：2014-09-30

申请号：US11719878

申请日：2007-04-18

申请人： Nobuhito Suehira ,  Junichi Seki ,  Hideki Ina ,  Koichi Sentoku

发明人： Nobuhito Suehira ,  Junichi Seki ,  Hideki Ina ,  Koichi Sentoku

IPC分类号： G01B11/00 ,  B29C43/58 ,  B82Y10/00 ,  G03F9/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F9/00 ,  G03F9/703 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7088

摘要： An imprint apparatus for performing alignment between a mold and a substrate and imprinting a pattern of the mold to a layer of the substrate. A holder holds the mold. A stage holds the substrate opposite to the mold held by the holder. A microscope, including an image pickup device, detects a first alignment mark formed in the mold, via a first image pickup area of the image pickup device, and detects a second alignment mark formed in the substrate, via a second image pickup area of the image pickup device. The first and second image pickup areas do not overlap with each other. A contrast of signals obtained by the image pickup device is adjusted with respect to each of the first and second image pickup areas, and the alignment is performed by changing relative positions of the holder and the stage based on first information about a deviation of the detected first alignment mark from a predetermined position in the first image pickup area and second information about a deviation of the detected second alignment mark from a predetermined position in the second image pickup area.

摘要翻译： 一种用于在模具和基板之间进行对准并将模具的图案压印到基板的层的压印装置。 持有人持有模具。 阶段保持与由保持器保持的模具相对的基板。 包括图像拾取装置的显微镜经由图像拾取装置的第一图像拾取区域检测在模具中形成的第一对准标记，并且经由第二图像拾取区域检测形成在基板中的第二对准标记 图像拾取装置。 第一和第二摄像区域彼此不重叠。 基于图像拾取装置获得的信号的对比度相对于第一和第二图像拾取区域中的每一个被调整，并且通过基于关于检测到的偏移的第一信息来改变保持器和台的相对位置来执行对准 第一对准标记从第一图像拾取区域中的预定位置开始，以及关于所检测到的第二对准标记与第二图像拾取区域中的预定位置的偏差的第二信息。

公开(公告)号：US07884935B2

公开(公告)日：2011-02-08

申请号：US11736696

申请日：2007-04-18

申请人： Nobuhito Suehira ,  Junichi Seki ,  Hideki Ina ,  Koichi Sentoku

发明人： Nobuhito Suehira ,  Junichi Seki ,  Hideki Ina ,  Koichi Sentoku

IPC分类号： G01B11/00 ,  G01B15/00 ,  G01N21/86 ,  G01V8/00 ,  B41F1/34 ,  B41F21/12 ,  B41F21/14 ,  B41L1/02 ,  B29C45/76 ,  B29C35/08 ,  B29C35/12 ,  B29C47/92 ,  B29C47/96 ,  B29B13/00 ,  B29B15/00 ,  B28B17/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B41M3/00 ,  B41M2205/26 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F9/00 ,  G03F9/7015 ,  G03F9/7042 ,  G03F9/7088

摘要： A pattern transfer apparatus transfers an imprint pattern formed on a mold, provided with an alignment mark, to a resin material on a substrate, provided with an alignment mark. A first image pickup device obtains an image of an object positioned at a first object position. A second image pickup device obtains an image of an object positioned at a second object position. The second object position is more distant from the alignment mark of the mold than the first object position. An optical system forms an image of an object positioned at the first object position and an image of an object positioned at the second object position. Alignment is performed based on first and second information obtained about positions of images of an alignment mark of a reference substrate and an alignment mark of the substrate, to transfer the imprinting pattern to the resin material.

摘要翻译： 图案转印装置将形成在具有对准标记的模具上的印模图案转印到具有对准标记的基板上的树脂材料上。 第一图像拾取装置获取位于第一对象位置的对象的图像。 第二图像拾取装置获取位于第二对象位置的对象的图像。 第二物体位置比第一物体位置更远离模具的对准标记。 光学系统形成位于第一物体位置的物体的图像和位于第二物体位置的物体的图像。 基于获得的关于参考基板的对准标记的图像的位置和基板的对准标记获得的第一和第二信息进行对准，以将印刷图案转印到树脂材料上。

公开(公告)号：US07670729B2

公开(公告)日：2010-03-02

申请号：US11142964

申请日：2005-06-01

申请人： Atsushi Takagi ,  Hideki Ina ,  Koichi Sentoku ,  Hiroshi Morohoshi

发明人： Atsushi Takagi ,  Hideki Ina ,  Koichi Sentoku ,  Hiroshi Morohoshi

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： G03F7/706

摘要： A measurement method for measuring a distortion of a projection optical system that projects a pattern, used by an exposure apparatus that exposes the reticle pattern onto an object to be exposed, the measurement method includes the steps of a first exposing step for exposing a mark pattern onto the object to be exposed, the mark pattern having a mark on or near an optical axis of the projection optical system and a mark beside the optical axis, and being arranged at a position of the reticle, a second exposing step for only exposing a mark on or near the optical axis of the projection optical system in the mark pattern, measuring step for measuring a shape of the mark formed on the object to be exposed via the first and second exposing steps, and calculating step for calculating the distortion of the projection optical system from the shape of the mark measured by the measuring step.

摘要翻译： 一种测量方法，用于测量投影光学系统的变形，所述投影光学系统将曝光所述掩模版图案的曝光装置所使用的图案投影到待曝光的物体上，所述测量方法包括以下步骤：第一曝光步骤，用于曝光标记图案 在待曝光的物体上，标记图案在投影光学系统的光轴上或其附近具有标记，并且在光轴旁边具有标记，并且被布置在光罩的位置，第二曝光步骤仅用于曝光 在标记图案中的投影光学系统的光轴上或附近标记的测量步骤，用于测量经由第一和第二曝光步骤在待曝光的物体上形成的标记的形状的测量步骤，以及用于计算第 投影光学系统从由测量步骤测量的标记的形状。

公开(公告)号：US20080073604A1

公开(公告)日：2008-03-27

申请号：US11851006

申请日：2007-09-06

申请人： Nobuhito Suehira ,  Junichi Seki ,  Hideki Ina ,  Koichi Sentoku

发明人： Nobuhito Suehira ,  Junichi Seki ,  Hideki Ina ,  Koichi Sentoku

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G03F9/7088 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7042 ,  G06K9/325

摘要： An imprint apparatus, comprising a first holder for holding a mold having an imprint pattern; a second holder for holding a workpiece to which the imprint pattern is transferred; a first illumination system for irradiating a mark for determining a position of the mold and a mark for determining a position of the workpiece with light; a first and second optical systems for imaging the marks for the mold and workpiece at a first and second observation points respectively; an imaging optical system; a first and second image pick-up devices for observing the marks for the mold and workpiece respectively; and at least one of a first drive mechanism for moving the first image pick-up device while following movement of the first observation point and a second drive mechanism for moving the second image pick-up device while following movement of the second observation point.

摘要翻译： 一种压印装置，包括用于保持具有印记图案的模具的第一保持器; 用于保持印刷图案被转印到的工件的第二保持器; 用于照射用于确定模具的位置的标记的第一照明系统和用于用光确定工件的位置的标记; 第一和第二光学系统，用于分别在第一和第二观察点成像用于模具和工件的标记; 成像光学系统; 分别用于观察模具和工件的标记的第一和第二图像拾取装置; 以及用于在跟随第一观察点的移动的同时移动第一图像拾取装置的第一驱动机构和用于在第二观察点的移动之前移动第二图像拾取装置的第二驱动机构中的至少一个。