公开(公告)号：US07821033B2

公开(公告)日：2010-10-26

申请号：US11706860

申请日：2007-02-15

申请人： Stefan Sedlmaier ,  Anton Mauder ,  Armin Willmeroth ,  Franz Hirler

发明人： Stefan Sedlmaier ,  Anton Mauder ,  Armin Willmeroth ,  Franz Hirler

IPC分类号： H01L29/78 ,  H01L21/336

CPC分类号： H01L29/7813 ,  H01L29/0653 ,  H01L29/165 ,  H01L29/407 ,  H01L29/66734 ,  H01L29/7804

摘要： A semiconductor component is disclosed herein comprising a drift zone and a drift control zone. The drift control zone is arranged adjacent to the drift zone and is dielectrically insulated from the drift zone by a dielectric layer. The drift control zone includes at least one first semiconductor layer and one second semiconductor layer. The first semiconductor layer has a higher charge carrier mobility than the second semiconductor layer.

摘要翻译： 本文公开了一种半导体元件，其包括漂移区和漂移控制区。 漂移控制区域布置成与漂移区相邻，并且通过介电层与漂移区介电绝缘。 漂移控制区包括至少一个第一半导体层和一个第二半导体层。 第一半导体层具有比第二半导体层更高的电荷载流子迁移率。

公开(公告)号：US20100078713A1

公开(公告)日：2010-04-01

申请号：US12241828

申请日：2008-09-30

申请人： Anton Mauder ,  Stefan Sedlmaier ,  Ralf Erichsen ,  Hans Weber ,  Oliver Haeberlen ,  Franz Hirler

发明人： Anton Mauder ,  Stefan Sedlmaier ,  Ralf Erichsen ,  Hans Weber ,  Oliver Haeberlen ,  Franz Hirler

IPC分类号： H01L29/78 ,  H01L21/336

CPC分类号： H01L29/7813 ,  H01L21/76224 ,  H01L27/0629 ,  H01L29/0646 ,  H01L29/0653 ,  H01L29/0878 ,  H01L29/407 ,  H01L29/66734 ,  H01L29/7804

摘要： A method for producing a semiconductor structure and a semiconductor component are described.

摘要翻译： 对半导体结构体及半导体部件的制造方法进行说明。

公开(公告)号：US20100078710A1

公开(公告)日：2010-04-01

申请号：US11874591

申请日：2007-10-18

申请人： Armin Willmeroth ,  Anton Mauder ,  Franz Hirler ,  Stefan Sedlmaier

发明人： Armin Willmeroth ,  Anton Mauder ,  Franz Hirler ,  Stefan Sedlmaier

IPC分类号： H01L29/78

CPC分类号： H01L29/7813 ,  H01L29/0634 ,  H01L29/0653 ,  H01L29/0878 ,  H01L29/1095 ,  H01L29/407 ,  H01L29/41766 ,  H01L29/7804

摘要： A semiconductor component has a drift zone and a drift control zone, a drift control zone dielectric, which is arranged in sections between the drift zone and the drift control zone, and has a first and a second connection zone, which are doped complementarily with respect to one another and which form a pn junction between the drift control zone and a section of the drift zone.

摘要翻译： 半导体部件具有漂移区和漂移控制区，漂移控制区电介质，其布置在漂移区和漂移控制区之间的部分中，并且具有第一和第二连接区，其相互掺杂互补 并且在漂移控制区域和漂移区段的一部分之间形成pn结。

公开(公告)号：US07459365B2

公开(公告)日：2008-12-02

申请号：US11540922

申请日：2006-09-29

申请人： Michael Rüb ,  Herbert Schäfer ,  Armin Willmeroth ,  Anton Mauder ,  Stefan Sedlmaier ,  Roland Rupp ,  Manfred Pippan ,  Hans Weber ,  Frank Pfirsch ,  Franz Hirler ,  Hans-Joachim Schulze

发明人： Michael Rüb ,  Herbert Schäfer ,  Armin Willmeroth ,  Anton Mauder ,  Stefan Sedlmaier ,  Roland Rupp ,  Manfred Pippan ,  Hans Weber ,  Frank Pfirsch ,  Franz Hirler ,  Hans-Joachim Schulze

IPC分类号： H01L21/336

CPC分类号： H01L29/7813 ,  H01L21/76224 ,  H01L29/0653 ,  H01L29/165 ,  H01L29/66734 ,  H01L29/7804 ,  H01L29/7849

摘要： The fabrication of a semiconductor component having a semiconductor body in which is arranged a very thin dielectric layer having sections which run in the vertical direction and which extend very deeply into the semiconductor body is disclosed. In one method a trench is formed in a drift zone region proceeding from the front side of a semiconductor body, a sacrificial layer is produced on at least a portion of the sidewalls of the trench and at least a portion of the trench is filled with a semiconductor material which is chosen such that the quotient of the net dopant charge of the semiconductor material in the trench and the total area of the sacrificial layer on the sidewalls of the trench between the semiconductor material and the drift zone region is less than the breakdown charge of the semiconductor material, and the sacrificial layer is replaced with a dielectric.

摘要翻译： 公开了具有半导体主体的半导体部件的制造，其中布置有具有在垂直方向上延伸并且非常深地延伸到半导体本体中的截面的非常薄的电介质层。 在一种方法中，在从半导体主体的前侧开始的漂移区域中形成沟槽，在沟槽的至少一部分侧壁上产生牺牲层，并且沟槽的至少一部分填充有 半导体材料被选择为使得沟槽中的半导体材料的净掺杂剂电荷的商和半导体材料和漂移区域之间的沟槽的侧壁上的牺牲层的总面积小于击穿电荷 的半导体材料，并且牺牲层被电介质代替。

公开(公告)号：US20120153386A1

公开(公告)日：2012-06-21

申请号：US13330205

申请日：2011-12-19

申请人： Franz Hirler ,  Ralf Siemieniec ,  Christian Geissler ,  Oliver Blank ,  Maximilian Roesch

发明人： Franz Hirler ,  Ralf Siemieniec ,  Christian Geissler ,  Oliver Blank ,  Maximilian Roesch

IPC分类号： H01L27/088

CPC分类号： H01L29/7397 ,  H01L29/0615 ,  H01L29/0623 ,  H01L29/0653 ,  H01L29/0661 ,  H01L29/0696 ,  H01L29/0878 ,  H01L29/1045 ,  H01L29/105 ,  H01L29/1095 ,  H01L29/404 ,  H01L29/407 ,  H01L29/42376 ,  H01L29/66674 ,  H01L29/66734 ,  H01L29/7801 ,  H01L29/7802 ,  H01L29/7811 ,  H01L29/7813 ,  H01L29/861 ,  H01L29/872

摘要： A semiconductor component is disclosed. One embodiment includes a semiconductor body including a first semiconductor layer having at least one active component zone, a cell array with a plurality of trenches, and at least one cell array edge zone. The cell array edge zone is only arranged in an edge region of the cell array, adjoining at least one trench of the cell array, and being at least partially arranged below the at least one trench in the cell array.

摘要翻译： 公开了半导体部件。 一个实施例包括半导体本体，其包括具有至少一个有源分量区的第一半导体层，具有多个沟槽的单元阵列和至少一个单元阵列边缘区。 单元阵列边缘区域仅布置在单元阵列的边缘区域中，邻接单元阵列的至少一个沟槽，并且至少部分地布置在单元阵列中的至少一个沟槽的下方。

公开(公告)号：US08362551B2

公开(公告)日：2013-01-29

申请号：US13270253

申请日：2011-10-11

申请人： Franz Hirler ,  Walter Rieger ,  Andrew Wood ,  Mathias Born ,  Ralf Siemieniec ,  Jan Ropohl ,  Martin Poelzl ,  Oliver Blank ,  Uli Hiller ,  Oliver Haeberlein ,  Rudolf Zelsacher ,  Maximilian Roesch ,  Joachim Krumrey

发明人： Franz Hirler ,  Walter Rieger ,  Andrew Wood ,  Mathias Born ,  Ralf Siemieniec ,  Jan Ropohl ,  Martin Poelzl ,  Oliver Blank ,  Uli Hiller ,  Oliver Haeberlein ,  Rudolf Zelsacher ,  Maximilian Roesch ,  Joachim Krumrey

IPC分类号： H01L29/76 ,  H01L29/94 ,  H01L31/062 ,  H01L31/113 ,  H01L31/119

CPC分类号： H01L29/7813 ,  H01L29/407 ,  H01L29/42376 ,  H01L29/456 ,  H01L29/66727 ,  H01L29/66734 ,  H01L29/7811

摘要： In one embodiment, a field effect transistor has a semiconductor body, a drift region of a first conductivity type and a gate electrode. At least one trench extends into the drift region. A field plate is arranged at least in a portion of the at least one trench. A dielectric material at least partially surrounds both the gate electrode and the field plate. The field plate includes a first semiconducting material.

摘要翻译： 在一个实施例中，场效应晶体管具有半导体本体，第一导电类型的漂移区和栅电极。 至少一个沟槽延伸到漂移区域中。 至少在所述至少一个沟槽的一部分中布置场板。 绝缘材料至少部分地围绕栅电极和场板两者。 场板包括第一半导体材料。

公开(公告)号：US20100117144A1

公开(公告)日：2010-05-13

申请号：US12268182

申请日：2008-11-10

申请人： Franz Hirler ,  Walter Rieger ,  Andrew Wood ,  Mathias Born ,  Ralf Siemieniec ,  Jan Ropohl ,  Martin Poelzl ,  Oliver Blank ,  Uli Hiller ,  Oliver Haeberlen ,  Rudolf Zelsacher ,  Maximilian Roesch ,  Joachim Krumrey

发明人： Franz Hirler ,  Walter Rieger ,  Andrew Wood ,  Mathias Born ,  Ralf Siemieniec ,  Jan Ropohl ,  Martin Poelzl ,  Oliver Blank ,  Uli Hiller ,  Oliver Haeberlen ,  Rudolf Zelsacher ,  Maximilian Roesch ,  Joachim Krumrey

IPC分类号： H01L29/78 ,  H01L21/336

CPC分类号： H01L29/7813 ,  H01L29/407 ,  H01L29/42376 ,  H01L29/456 ,  H01L29/66727 ,  H01L29/66734 ,  H01L29/7811

摘要： In one embodiment, a field effect transistor has a semiconductor body, a drift region of a first conductivity type and a gate electrode. At least one trench extends into the drift region. A field plate is arranged at least in a portion of the at least one trench. A dielectric material at least partially surrounds both the gate electrode and the field plate. The field plate includes a first semiconducting material.

摘要翻译： 在一个实施例中，场效应晶体管具有半导体本体，第一导电类型的漂移区和栅电极。 至少一个沟槽延伸到漂移区域中。 至少在所述至少一个沟槽的一部分中布置场板。 绝缘材料至少部分地围绕栅电极和场板两者。 场板包括第一半导体材料。

公开(公告)号：US09252251B2

公开(公告)日：2016-02-02

申请号：US13330205

申请日：2011-12-19

申请人： Franz Hirler ,  Ralf Siemieniec ,  Christian Geissler ,  Oliver Blank ,  Maximilian Roesch

发明人： Franz Hirler ,  Ralf Siemieniec ,  Christian Geissler ,  Oliver Blank ,  Maximilian Roesch

IPC分类号： H01L29/739 ,  H01L29/66 ,  H01L29/78 ,  H01L29/861 ,  H01L29/872 ,  H01L29/06 ,  H01L29/40 ,  H01L29/423

CPC分类号： H01L29/7397 ,  H01L29/0615 ,  H01L29/0623 ,  H01L29/0653 ,  H01L29/0661 ,  H01L29/0696 ,  H01L29/0878 ,  H01L29/1045 ,  H01L29/105 ,  H01L29/1095 ,  H01L29/404 ,  H01L29/407 ,  H01L29/42376 ,  H01L29/66674 ,  H01L29/66734 ,  H01L29/7801 ,  H01L29/7802 ,  H01L29/7811 ,  H01L29/7813 ,  H01L29/861 ,  H01L29/872

摘要： A semiconductor component is disclosed. One embodiment includes a semiconductor body including a first semiconductor layer having at least one active component zone, a cell array with a plurality of trenches, and at least one cell array edge zone. The cell array edge zone is only arranged in an edge region of the cell array, adjoining at least one trench of the cell array, and being at least partially arranged below the at least one trench in the cell array.

摘要翻译： 公开了半导体部件。 一个实施例包括半导体本体，其包括具有至少一个有源分量区的第一半导体层，具有多个沟槽的单元阵列和至少一个单元阵列边缘区。 单元阵列边缘区域仅布置在单元阵列的边缘区域中，邻接单元阵列的至少一个沟槽，并且至少部分地布置在单元阵列中的至少一个沟槽的下方。

公开(公告)号：US08044459B2

公开(公告)日：2011-10-25

申请号：US12268182

申请日：2008-11-10

申请人： Franz Hirler ,  Walter Rieger ,  Andrew Wood ,  Mathias Born ,  Ralf Siemieniec ,  Jan Ropohl ,  Martin Poelzl ,  Oliver Blank ,  Uli Hiller ,  Oliver Haeberlen ,  Rudolf Zelsacher ,  Maximilian Roesch ,  Joachim Krumrey

发明人： Franz Hirler ,  Walter Rieger ,  Andrew Wood ,  Mathias Born ,  Ralf Siemieniec ,  Jan Ropohl ,  Martin Poelzl ,  Oliver Blank ,  Uli Hiller ,  Oliver Haeberlen ,  Rudolf Zelsacher ,  Maximilian Roesch ,  Joachim Krumrey

IPC分类号： H01L29/76 ,  H01L29/94 ,  H01L31/062 ,  H01L31/113 ,  H01L31/119

CPC分类号： H01L29/7813 ,  H01L29/407 ,  H01L29/42376 ,  H01L29/456 ,  H01L29/66727 ,  H01L29/66734 ,  H01L29/7811

摘要： In one embodiment, a field effect transistor has a semiconductor body, a drift region of a first conductivity type and a gate electrode. At least one trench extends into the drift region. A field plate is arranged at least in a portion of the at least one trench. A dielectric material at least partially surrounds both the gate electrode and the field plate. The field plate includes a first semiconducting material.

摘要翻译： 在一个实施例中，场效应晶体管具有半导体本体，第一导电类型的漂移区和栅电极。 至少一个沟槽延伸到漂移区域中。 至少在所述至少一个沟槽的一部分中布置场板。 绝缘材料至少部分地围绕栅电极和场板两者。 场板包括第一半导体材料。

公开(公告)号：US20120025303A1

公开(公告)日：2012-02-02

申请号：US13270253

申请日：2011-10-11

申请人： Franz Hirler ,  Walter Rieger ,  Andrew Wood ,  Mathias Born ,  Ralf Siemieniec ,  Jan Ropohl ,  Martin Poelzl ,  Oliver Blank ,  Uli Hiller ,  Oliver Haeberlen ,  Rudolf Zelsacher ,  Maximilian Roesch ,  Joachim Krumrey

发明人： Franz Hirler ,  Walter Rieger ,  Andrew Wood ,  Mathias Born ,  Ralf Siemieniec ,  Jan Ropohl ,  Martin Poelzl ,  Oliver Blank ,  Uli Hiller ,  Oliver Haeberlen ,  Rudolf Zelsacher ,  Maximilian Roesch ,  Joachim Krumrey

IPC分类号： H01L29/78 ,  H01L21/31

CPC分类号： H01L29/7813 ,  H01L29/407 ,  H01L29/42376 ,  H01L29/456 ,  H01L29/66727 ,  H01L29/66734 ,  H01L29/7811

摘要： In one embodiment, a field effect transistor has a semiconductor body, a drift region of a first conductivity type and a gate electrode. At least one trench extends into the drift region. A field plate is arranged at least in a portion of the at least one trench. A dielectric material at least partially surrounds both the gate electrode and the field plate. The field plate includes a first semiconducting material.

摘要翻译： 在一个实施例中，场效应晶体管具有半导体本体，第一导电类型的漂移区和栅电极。 至少一个沟槽延伸到漂移区域中。 至少在所述至少一个沟槽的一部分中布置场板。 绝缘材料至少部分地围绕栅电极和场板两者。 场板包括第一半导体材料。