公开(公告)号：US08323536B2

公开(公告)日：2012-12-04

申请号：US13108534

申请日：2011-05-16

申请人： Masaki Ohashi ,  Takeshi Kinsho ,  Kazumi Noda ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Masaki Ohashi ,  Takeshi Kinsho ,  Kazumi Noda ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： F21V9/04 ,  F21V9/06 ,  G02B5/22 ,  G02B5/26 ,  G03C1/00 ,  G03F7/00

CPC分类号： C07D403/06 ,  C07D209/08 ,  C07D209/90 ,  C07D403/08 ,  C09B23/0008 ,  C09B23/0016 ,  C09B23/0025 ,  C09B23/0033 ,  C09B23/0041 ,  C09B23/086 ,  G02B5/223

摘要： A near-infrared absorbing dye has an anion of formula (1) wherein A1 is H or CF3, R0 is OH or —OC(═O)—R′, and R′ is a monovalent hydrocarbon group. The dye has excellent solvent solubility as well as good optical properties and heat resistance, offering the advantages of easy coating and effective working during film formation. The dye free of heavy metal in its structure is advantageously used in the process of fabricating semiconductor devices.

摘要翻译： 近红外吸收染料具有式（1）的阴离子，其中A1是H或CF3，R0是OH或-OC（= O）-R'，R'是一价烃基。 该染料具有优异的溶剂溶解性以及良好的光学性能和耐热性，提供了容易涂布和成膜期间有效加工的优点。 在其结构中不含重金属的染料有利地用于制造半导体器件的工艺中。

公开(公告)号：US20110262863A1

公开(公告)日：2011-10-27

申请号：US13091290

申请日：2011-04-21

申请人： Seiichiro TACHIBANA ,  Masaki Ohashi ,  Kazumi Noda ,  Shozo Shirai ,  Takeshi Kinsho ,  Wu-Song Huang ,  Dario L. Goldfarb ,  Wai-Kin Li ,  Martin Glodde

发明人： Seiichiro TACHIBANA ,  Masaki Ohashi ,  Kazumi Noda ,  Shozo Shirai ,  Takeshi Kinsho ,  Wu-Song Huang ,  Dario L. Goldfarb ,  Wai-Kin Li ,  Martin Glodde

IPC分类号： G03F7/004 ,  F21V9/04

CPC分类号： G03F7/091

摘要： A near-infrared absorptive layer is formed from a composition comprising (A) an acenaphthylene polymer, (B) a near-infrared absorbing dye, and (C) a solvent. When a multilayer film comprising the near-infrared absorptive layer and a photoresist layer is used in optical lithography, the detection accuracy of optical auto-focusing is improved, allowing the optical lithography to produce a definite projection image with an improved contrast and succeeding in forming a better photoresist pattern.

摘要翻译： 由（A）苊烯聚合物，（B）近红外吸收染料和（C）溶剂组成的组合物形成近红外吸收层。 当在光学光刻中使用包含近红外吸收层和光致抗蚀剂层的多层膜时，光学自动聚焦的检测精度得到改善，允许光学光刻产生具有改善的对比度并成功地形成的确定的投影图像 更好的光刻胶图案。

公开(公告)号：US20100151381A1

公开(公告)日：2010-06-17

申请号：US12636546

申请日：2009-12-11

申请人： Seiichiro TACHIBANA ,  Kazumi Noda ,  Takeru Watanabe ,  Jun Hatakeyama ,  Takeshi Kinsho

发明人： Seiichiro TACHIBANA ,  Kazumi Noda ,  Takeru Watanabe ,  Jun Hatakeyama ,  Takeshi Kinsho

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08L31/02 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/091 ,  C09D133/16 ,  C08L2666/02

摘要： A composition comprising (A) a fluorinated polymer having k=0.01-0.4 and n=1.4-2.1 and (B) an aromatic ring-bearing polymer having k=0.3-1.2 is used to form an antireflective coating. The ARC-forming composition can be deposited by the same process as prior art ARCs. The resulting ARC is effective in preventing reflection of exposure light in photolithography and has an acceptable dry etching rate.

摘要翻译： 包含（A）具有k = 0.01-0.4和n = 1.4-2.1的氟化聚合物和（B）具有k = 0.3-1.2的含芳环的聚合物的组合物用于形成抗反射涂层。 ARC形成组合物可以通过与现有技术ARC相同的方法沉积。 所得到的ARC有效地防止曝光光在光刻中的反射并且具有可接受的干蚀刻速率。

公开(公告)号：US20080227037A1

公开(公告)日：2008-09-18

申请号：US12071806

申请日：2008-02-26

申请人： Jun Hatakeyama ,  Kazumi Noda ,  Seiichiro Tachibana ,  Takeshi Kinsho ,  Tsutomu Ogihara

发明人： Jun Hatakeyama ,  Kazumi Noda ,  Seiichiro Tachibana ,  Takeshi Kinsho ,  Tsutomu Ogihara

IPC分类号： G03F7/26 ,  G03F5/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/0046

摘要： A resist lower layer film composition, wherein an etching speed is fast, thus an etching time period can be shortened to minimize a film thickness loss of a resist pattern and a deformation of the pattern during etching, therefore, a pattern can be transferred with high accuracy and an excellent pattern can be formed on a substrate is provided.The resist lower layer film composition comprising at least a polymer having a repeating unit represented by the following general formula (1).

摘要翻译： 一种抗蚀剂下层膜组合物，其中蚀刻速度快，因此可以缩短蚀刻时间周期，以最小化抗蚀剂图案的膜厚度损失和蚀刻期间图案的变形，因此，图案可以高转印 可以在基板上形成精度和极好的图案。 所述抗蚀剂下层膜组合物至少含有具有下述通式（1）表示的重复单元的聚合物。