公开(公告)号：US20100304295A1

公开(公告)日：2010-12-02

申请号：US12787004

申请日：2010-05-25

申请人： Takeshi Kinsho ,  Tomohiro Kobayashi ,  Masayoshi Sagehashi ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Takeshi Kinsho ,  Tomohiro Kobayashi ,  Masayoshi Sagehashi ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： G03F7/20 ,  C07C69/533 ,  C08F220/00 ,  C08F232/08 ,  G03F7/004

CPC分类号： C07C69/54 ,  C07C69/753 ,  C07C2602/42 ,  C07C2602/50 ,  C07C2603/94 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

摘要： An acid-labile ester monomer of spirocyclic structure has formula (1) wherein Z is a monovalent group having a polymerizable double bond, X is a divalent group which forms a cyclopentane, cyclohexane or norbornane ring, R2 is H or monovalent hydrocarbon, R3 and R4 are H or monovalent hydrocarbon, or R3 and R4, taken together, stand for a divalent group which forms a cyclopentane or cyclohexane ring, and n is 1 or 2. A polymer obtained from the acid-labile ester monomer has so high reactivity in acid-catalyzed elimination reaction that the polymer may be used to formulate a resist composition having high resolution.

摘要翻译： 螺环结构的酸不稳定酯单体具有式（1）其中Z是具有可聚合双键的一价基团，X是形成环戊烷，环己烷或降冰片烷环的二价基团，R 2是H或一价烃，R 3和 R 4为H或一价烃，或者R 3和R 4一起代表形成环戊烷或环己烷环的二价基团，n为1或2.由酸不稳定酯单体获得的聚合物具有如此高的反应性 酸催化的消除反应，聚合物可用于配制具有高分辨率的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US06794111B2

公开(公告)日：2004-09-21

申请号：US10126877

申请日：2002-04-22

申请人： Tsunehiro Nishi ,  Takeshi Kinsho ,  Seiichiro Tachibana ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Tomohiro Kobayashi

发明人： Tsunehiro Nishi ,  Takeshi Kinsho ,  Seiichiro Tachibana ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Tomohiro Kobayashi

IPC分类号： G03C1492

CPC分类号： G03F7/0395 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A polymer comprising recurring units of formula (1-1) or (1-2) wherein R1, R2, R3 and R4 are H or alkyl, or R1 and R2, and R3 and R4 taken together may form a ring with each pair being alkylene, and k is 0 or 1 and having a Mw of 1,000-500,000 is novel. A resist composition comprising the polymer as a base resin is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity, resolution, etching resistance, and minimized swell and lends itself to micropatterning with electron beams or deep-UV.

摘要翻译： 包含式（1-1）或（1-2）的重复单元的聚合物，其中R 1，R 2，R 3和R 4是H或烷基，或R 1和R 2 R 3和R 4一起可以形成一个环，每一对是亚烷基，并且k是0或1，并且具有1,000-500,000的Mw是新的。 包含作为基础树脂的聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有优异的灵敏度，分辨率，耐腐蚀性和最小化的溶胀，并且使其自身具有电子束或深UV的微图形化。

公开(公告)号：US20070111140A1

公开(公告)日：2007-05-17

申请号：US11580962

申请日：2006-10-16

申请人： Jun Hatakeyama ,  Koji Hasegawa ,  Youichi Ohsawa ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Jun Hatakeyama ,  Koji Hasegawa ,  Youichi Ohsawa ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： There is disclosed a resist composition which shows high sensitivity and high resolution on exposure to high energy beam, provides reduced Line Edge Roughness because swelling at the time of development is reduced, provides minor amounts of residue after development, has excellent dry etching resistance, and can also be used suitably for the liquid immersion lithography; and a patterning process using the resist composition. There can be provided a resist composition which comprises, at least, a polymer including repeating units represented by the following general formulae (a) and (b).

摘要翻译： 公开了一种抗蚀剂组合物，其在高能量束暴露时显示出高灵敏度和高分辨率，由于在显影时的膨胀减小，提供降低的线边缘粗糙度，在显影后提供少量残留物，具有优异的耐干蚀刻性，以及 也可以适用于液浸光刻; 以及使用抗蚀剂组合物的图案化工艺。 可以提供一种抗蚀剂组合物，其至少包含由以下通式（a）和（b）表示的重复单元的聚合物。

公开(公告)号：US20060147836A1

公开(公告)日：2006-07-06

申请号：US11305118

申请日：2005-12-19

申请人： Jun Hatakeyama ,  Youichi Ohsawa ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Jun Hatakeyama ,  Youichi Ohsawa ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： G03C1/76

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： There is disclosed a resist composition which comprises, at least, a polymer in which a sulfonium salt having a polymerizable unsaturated bond, a (meth)acrylate having a lactone or a hydroxyl group as an adhesion group, and a (meth)acrylate having an ester substituted with an acid labile group are copolymerized. There can be provided a resist composition with high resolution which has high sensitivity and high resolution to high energy beam, especially to ArF excimer laser, F2 excimer laser, EUV, X-ray, EB, etc., has reduced line edge roughness, and comprises a polymeric acid generator which has insolubility in water, and sufficient thermal stability and preservation stability.

摘要翻译： 公开了一种抗蚀剂组合物，其至少包含其中具有可聚合不饱和键的锍盐，具有内酯或羟基的（甲基）丙烯酸酯作为粘合基团的聚合物和（甲基）丙烯酸酯具有 由酸不稳定基团取代的酯被共聚。 可以提供具有高分辨率的抗蚀剂组合物，其对高能量束具有高灵敏度和高分辨率，特别是对于ArF准分子激光器，F 2/2准分子激光器，EUV，X射线，EB等。 降低了线边缘粗糙度，并且包括在水中具有不溶性，并具有足够的热稳定性和保存稳定性的聚合酸产生剂。

公开(公告)号：US07459261B2

公开(公告)日：2008-12-02

申请号：US11305118

申请日：2005-12-19

申请人： Jun Hatakeyama ,  Youichi Ohsawa ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Jun Hatakeyama ,  Youichi Ohsawa ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： There is disclosed a resist composition which comprises, at least, a polymer in which a sulfonium salt having a polymerizable unsaturated bond, a (meth)acrylate having a lactone or a hydroxyl group as an adhesion group, and a (meth)acrylate having an ester substituted with an acid labile group are copolymerized. There can be provided a resist composition with high resolution which has high sensitivity and high resolution to high energy beam, especially to ArF excimer laser, F2 excimer laser, EUV, X-ray, EB, etc., has reduced line edge roughness, and comprises a polymeric acid generator which has insolubility in water, and sufficient thermal stability and preservation stability.

摘要翻译： 公开了一种抗蚀剂组合物，其至少包含其中具有可聚合不饱和键的锍盐，具有内酯或羟基的（甲基）丙烯酸酯作为粘合基团的聚合物和（甲基）丙烯酸酯具有 由酸不稳定基团取代的酯被共聚。 可以提供具有高分辨率的抗蚀剂组合物，其对高能量束具有高灵敏度和高分辨率，特别是对于ArF准分子激光器，F2准分子激光器，EUV，X射线，EB等，具有降低的线边缘粗糙度，以及 包括在水中具有不溶性和足够的热稳定性和保存稳定性的聚合酸产生剂。

公开(公告)号：US07629106B2

公开(公告)日：2009-12-08

申请号：US11580962

申请日：2006-10-16

申请人： Jun Hatakeyama ,  Koji Hasegawa ,  Youichi Ohsawa ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Jun Hatakeyama ,  Koji Hasegawa ,  Youichi Ohsawa ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： There is disclosed a resist composition which shows high sensitivity and high resolution on exposure to high energy beam, provides reduced Line Edge Roughness because swelling at the time of development is reduced, provides minor amounts of residue after development, has excellent dry etching resistance, and can also be used suitably for the liquid immersion lithography; and a patterning process using the resist composition. There can be provided a resist composition which comprises, at least, a polymer including repeating units represented by the following general formulae (a) and (b).

摘要翻译： 公开了一种抗蚀剂组合物，其在高能量束暴露时显示出高灵敏度和高分辨率，由于在显影时的膨胀减小，提供降低的线边缘粗糙度，在显影后提供少量残留物，具有优异的耐干蚀刻性，以及 也可以适用于液浸光刻; 以及使用抗蚀剂组合物的图案化工艺。 可以提供一种抗蚀剂组合物，其至少包含由以下通式（a）和（b）表示的重复单元的聚合物。

公开(公告)号：US20120119171A1

公开(公告)日：2012-05-17

申请号：US13108534

申请日：2011-05-16

申请人： Masaki OHASHI ,  Takeshi Kinsho ,  Kazumi Noda ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Masaki OHASHI ,  Takeshi Kinsho ,  Kazumi Noda ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： F21V9/04 ,  C07D403/06 ,  C07D403/08

CPC分类号： C07D403/06 ,  C07D209/08 ,  C07D209/90 ,  C07D403/08 ,  C09B23/0008 ,  C09B23/0016 ,  C09B23/0025 ,  C09B23/0033 ,  C09B23/0041 ,  C09B23/086 ,  G02B5/223

摘要： A near-infrared absorbing dye has an anion of formula (1) wherein A1 is H or CF3, R0 is OH or —OC(═O)—R′, and R′ is a monovalent hydrocarbon group. The dye has excellent solvent solubility as well as good optical properties and heat resistance, offering the advantages of easy coating and effective working during film formation. The dye free of heavy metal in its structure is advantageously used in the process of fabricating semiconductor devices.

摘要翻译： 近红外吸收染料具有式（1）的阴离子，其中A1是H或CF3，R0是OH或-OC（= O）-R'，R'是一价烃基。 该染料具有优异的溶剂溶解性以及良好的光学性能和耐热性，提供了容易涂布和成膜期间有效加工的优点。 在其结构中不含重金属的染料有利地用于制造半导体器件的工艺中。

公开(公告)号：US20110262862A1

公开(公告)日：2011-10-27

申请号：US13091287

申请日：2011-04-21

申请人： Masaki OHASHI ,  Seiichiro Tachibana ,  Kazumi Noda ,  Shozo Shirai ,  Takeshi Kinsho ,  Wu-Song Huang ,  Dario L. Goldfarb ,  Wai-Kin Li ,  Martin Glodde

发明人： Masaki OHASHI ,  Seiichiro Tachibana ,  Kazumi Noda ,  Shozo Shirai ,  Takeshi Kinsho ,  Wu-Song Huang ,  Dario L. Goldfarb ,  Wai-Kin Li ,  Martin Glodde

IPC分类号： G03F7/004 ,  G02B5/22

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G02B5/208 ,  G02B5/22 ,  G03F7/091 ,  G03F7/11

摘要： A composition comprising (A) a near-infrared absorbing dye of formula (1), (B) a polymer, and (C) a solvent is used to form a near-infrared absorptive layer. In formula (1), R1 and R2 are a monovalent hydrocarbon group which may contain a heteroatom, k is 0 to 5, m is 0 or 1, n is 1 or 2, Z is oxygen, sulfur or C(R′)(R″), R′ and R″ are hydrogen or a monovalent hydrocarbon group which may contain a heteroatom, and X− is an anion.

摘要翻译： 包含（A）式（1）的近红外吸收染料，（B）聚合物和（C）溶剂的组合物用于形成近红外吸收层。 式（1）中，R 1和R 2是可以含有杂原子的一价烃基，k为0〜5，m为0或1，n为1或2，Z为氧，硫或C（R'）（ R“），R'和R”是氢或可以含有杂原子的一价烃基，X-是阴离子。

公开(公告)号：US09069245B2

公开(公告)日：2015-06-30

申请号：US13091287

申请日：2011-04-21

申请人： Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Kazumi Noda ,  Shozo Shirai ,  Takeshi Kinsho ,  Wu-Song Huang ,  Dario L. Goldfarb ,  Wai-Kin Li ,  Martin Glodde

发明人： Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Kazumi Noda ,  Shozo Shirai ,  Takeshi Kinsho ,  Wu-Song Huang ,  Dario L. Goldfarb ,  Wai-Kin Li ,  Martin Glodde

IPC分类号： G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03F7/004 ,  G02B5/20 ,  G02B5/22

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G02B5/208 ,  G02B5/22 ,  G03F7/091 ,  G03F7/11

摘要： A composition comprising (A) a near-infrared absorbing dye of formula (1), (B) a polymer, and (C) a solvent is used to form a near-infrared absorptive layer. In formula (1), R1 and R2 are a monovalent hydrocarbon group which may contain a heteroatom, k is 0 to 5, m is 0 or 1, n is 1 or 2, Z is oxygen, sulfur or C(R′)(R″), R′ and R″ are hydrogen or a monovalent hydrocarbon group which may contain a heteroatom, and X− is an anion.

摘要翻译： 包含（A）式（1）的近红外吸收染料，（B）聚合物和（C）溶剂的组合物用于形成近红外吸收层。 式（1）中，R 1和R 2是可以含有杂原子的一价烃基，k为0〜5，m为0或1，n为1或2，Z为氧，硫或C（R'）（ R“），R'和R”是氢或可以含有杂原子的一价烃基，X-是阴离子。

公开(公告)号：US08722307B2

公开(公告)日：2014-05-13

申请号：US13118013

申请日：2011-05-27

申请人： Seiichiro Tachibana ,  Kazumi Noda ,  Masaki Ohashi ,  Takeshi Kinsho ,  Wu-Song Huang ,  Dario L. Goldfarb ,  Wai-Kin Li ,  Martin Glodde

发明人： Seiichiro Tachibana ,  Kazumi Noda ,  Masaki Ohashi ,  Takeshi Kinsho ,  Wu-Song Huang ,  Dario L. Goldfarb ,  Wai-Kin Li ,  Martin Glodde

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/11

CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/091

摘要： A composition comprising a polymer comprising repeat units selected from formulae (1) to (4), an aromatic ring-containing polymer, a near-infrared absorbing dye, and a solvent is used to form a near-infrared absorptive film. R1, R7, R9, and R14 are H, methyl, fluorine or trifluoromethyl, R2 to R6 are H, F, trifluoromethyl, —C(CF3)2OR16, alkyl or alkoxy, at least one of R2 to R6 being F or a fluorinated group, R16, R8 and R13 are H or a monovalent organic group, L1 is a single bond or —C(═O)O—, m is 0 or 1, L2 is a di- or trivalent hydrocarbon group, n is 1 or 2, R10 to R12 are H, hydroxyl, halogen or a monovalent organic group, and R15 is a fluorinated C2-C15 hydrocarbon group.

摘要翻译： 包含含有选自式（1）至（4）的重复单元，含芳族环的聚合物，近红外吸收染料和溶剂的聚合物的组合物用于形成近红外吸收膜。 R1，R7，R9和R14是H，甲基，氟或三氟甲基，R2至R6是H，F，三氟甲基，-C（CF3）2OR16，烷基或烷氧基，R2至R6中的至少一个为F或氟化 基团R 16，R 8和R 13为H或一价有机基团，L 1为单键或-C（= O）O-，m为0或1，L 2为二价或三价烃基，n为1或 2，R 10〜R 12为H，羟基，卤素或一价有机基团，R 15为氟代C 2 -C 15烃基。