公开(公告)号：US20050208419A1

公开(公告)日：2005-09-22

申请号：US11077012

申请日：2005-03-11

申请人： Haruki Inabe ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

发明人： Haruki Inabe ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03C1/492

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  Y10S430/108

摘要： A positive resist composition for immersion exposure comprises: (A) a resin containing at least one repeating unit having a fluorine atom and increasing a solubility of the resin in an alkali developer by an action of an acid; and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with one of an actinic ray and radiation.

摘要翻译： 用于浸渍曝光的正型抗蚀剂组合物包括：（A）含有至少一个具有氟原子的重复单元的树脂，并通过酸的作用增加树脂在碱性显影剂中的溶解度; 和（B）能够在用光化射线和辐射之一照射时能够产生酸的化合物。

公开(公告)号：US08968973B2

公开(公告)日：2015-03-03

申请号：US12533019

申请日：2009-07-31

申请人： Shinichi Kanna ,  Kazuya Oota ,  Yosuke Murakami

发明人： Shinichi Kanna ,  Kazuya Oota ,  Yosuke Murakami

IPC分类号： G02B5/20

CPC分类号： G03F7/0007 ,  G02B5/201 ,  G03F7/40

摘要： A method of producing a color filter includes (a) forming a colored pattern on a substrate by exposing and developing a colored curable composition containing a dye, a polymerizable monomer and an organic solvent, (b) forming a transparent protective film on the colored pattern, and (c) irradiating at least the transparent protective film with light after forming the transparent protective film on the colored pattern.

摘要翻译： 制造滤色器的方法包括：（a）通过曝光和显影含有染料，可聚合单体和有机溶剂的着色可固化组合物在基底上形成着色图案，（b）在着色图案上形成透明保护膜 ，（c）在着色图案上形成透明保护膜之后，至少用透明保护膜照射光。

公开(公告)号：US08908293B2

公开(公告)日：2014-12-09

申请号：US13510669

申请日：2010-11-17

申请人： Yoichi Maruyama ,  Yuzo Nagata ,  Hiroyuki Einaga ,  Shinichi Kanna

发明人： Yoichi Maruyama ,  Yuzo Nagata ,  Hiroyuki Einaga ,  Shinichi Kanna

IPC分类号： G02B1/00 ,  G02B1/04 ,  B01F17/00 ,  C08F290/06 ,  G03F7/00 ,  G03F7/031 ,  G03F7/033 ,  C08K3/22 ,  G02B3/00

CPC分类号： G02B1/04 ,  B01F17/0007 ,  B01F17/0028 ,  C08F290/06 ,  C08K3/22 ,  C08K2003/2241 ,  G02B3/0012 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/031 ,  G03F7/033 ,  C08L33/14

摘要： A photosensitive resin composition which can form a pattern attaining high resolution and having a high refractive index and a high transmittance is provided. The photosensitive resin composition includes a dispersion composition including (A) titanium dioxide particles having an average primary particle diameter of from 1 nm to 100 nm, (B) a graft copolymer that has a graft chain having a number of atoms other than hydrogen atoms in a range of from 40 to 10,000 and (C) a solvent, and (D) a polymerizable compound, and (E) a polymerization initiator.

摘要翻译： 提供了可以形成高分辨率并且具有高折射率和高透射率的图案的感光性树脂组合物。 感光性树脂组合物包含：（A）平均一次粒径为1nm〜100nm的二氧化钛粒子的分散组合物，（B）具有氢原子数以外的接枝链的接枝共聚物 范围为40〜10000，（C）溶剂，（D）聚合性化合物，（E）聚合引发剂。

公开(公告)号：US08778235B2

公开(公告)日：2014-07-15

申请号：US13498885

申请日：2010-09-28

申请人： Junichi Ito ,  Masaru Yoshikawa ,  Yuki Mizukawa ,  Kenta Ushijima ,  Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe ,  Yoshihiko Fujie ,  Akiyoshi Goto ,  Yushi Kaneko ,  Hiroaki Idei

发明人： Junichi Ito ,  Masaru Yoshikawa ,  Yuki Mizukawa ,  Kenta Ushijima ,  Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe ,  Yoshihiko Fujie ,  Akiyoshi Goto ,  Yushi Kaneko ,  Hiroaki Idei

IPC分类号： G02B5/23 ,  C08F2/50 ,  C09K11/06 ,  C08F220/60 ,  C08F220/36 ,  C09B69/10 ,  H05B33/12 ,  G03F7/00 ,  G03F7/105 ,  C09B57/10 ,  G02B5/22 ,  G03F1/00 ,  G02F1/1335 ,  H01L27/32 ,  G03F7/033 ,  G03F7/027

CPC分类号： C08F2/50 ,  C08F220/36 ,  C08F220/60 ,  C09B23/04 ,  C09B57/10 ,  C09B69/108 ,  C09K11/06 ,  C09K2211/1408 ,  C09K2211/188 ,  G02B5/22 ,  G02F1/133516 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/105 ,  H01L27/322 ,  H05B33/12

摘要： A colorant multimer includes, as a partial structure of a colorant moiety, a dipyrromethene metal complex compound or tautomer thereof obtained from: (i) a dipyrromethene compound represented by the following Formula (M); and (ii) a metal or a metal compound: wherein in Formula (M), R4, R5, R6, R7, R8, R9, and R10 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent.

摘要翻译： 着色剂多聚体包括作为着色剂部分的部分结构的二吡咯亚甲基金属络合物或其互变异构体，其由以下物质获得：（i）由下式（M）表示的二吡咯亚甲基化合物; 和（ii）金属或金属化合物：其中在式（M）中，R 4，R 5，R 6，R 7，R 8，R 9和R 10各自独立地表示氢原子或一价取代基。

公开(公告)号：US08741508B2

公开(公告)日：2014-06-03

申请号：US13259166

申请日：2010-06-10

申请人： Yoshihiko Fujie ,  Shinichi Kanna ,  Kazuya Oota ,  Yoshiharu Yabuki ,  Hiroaki Idei ,  Yasuhiro Ishiwata

发明人： Yoshihiko Fujie ,  Shinichi Kanna ,  Kazuya Oota ,  Yoshiharu Yabuki ,  Hiroaki Idei ,  Yasuhiro Ishiwata

IPC分类号： G02B5/20

CPC分类号： C08K5/47 ,  C09B29/3691 ,  C09B56/16 ,  C09B69/106 ,  C09D11/32 ,  G02B5/201 ,  G02B5/223 ,  G02B5/23 ,  G03F7/0007

摘要： A colored curable composition including: at least one selected from the group consisting of a compound represented by the following Formula (1a) and a tautomer thereof; and at least one polymerizable compound, wherein R11, R12, R13, R14, R15, and R16 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent; and R11 and R12, and R15 and R16 independently may bond to each other in each pair to form a ring.

摘要翻译： 一种着色固化性组合物，包括：选自由下式（1a）表示的化合物及其互变异构体的至少一种; 和至少一种可聚合化合物，其中R11，R12，R13，R14，R15和R16各自独立地表示氢原子或一价取代基; R11和R12，R15和R16各自独立地可以在每一对中彼此键合形成环。

公开(公告)号：US08507194B2

公开(公告)日：2013-08-13

申请号：US12871969

申请日：2010-08-31

申请人： Hideaki Tsubaki ,  Shinichi Kanna

发明人： Hideaki Tsubaki ,  Shinichi Kanna

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

摘要： A pattern forming method, including: (A) coating a substrate with a positive resist composition of which solubility in a positive developer increases and solubility in a negative developer decreases upon irradiation with actinic rays or radiation, so as to form a resist film; (B) exposing the resist film; and (D) developing the resist film with a negative developer; a positive resist composition for multiple development used in the method; a developer for use in the method; and a rinsing solution for negative development used in the method.

公开(公告)号：US08507193B2

公开(公告)日：2013-08-13

申请号：US12145270

申请日：2008-06-24

申请人： Hideaki Tsubaki ,  Shinichi Kanna

发明人： Hideaki Tsubaki ,  Shinichi Kanna

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

摘要： A pattern forming method, including: (A) coating a substrate with a positive resist composition of which solubility in a positive developer increases and solubility in a negative developer decreases upon irradiation with actinic rays or radiation, so as to form a resist film; (B) exposing the resist film; and (D) developing the resist film with a negative developer; a positive resist composition for multiple development used in the method; a developer for use in the method; and a rinsing solution for negative development used in the method.

公开(公告)号：US08227183B2

公开(公告)日：2012-07-24

申请号：US11964454

申请日：2007-12-26

申请人： Hideaki Tsubaki ,  Shinichi Kanna

发明人： Hideaki Tsubaki ,  Shinichi Kanna

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/2024 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40 ,  Y10T428/24802

摘要： A pattern forming method, including: (A) coating a substrate with a positive resist composition of which solubility in a positive developer increases and solubility in a negative developer decreases upon irradiation with actinic rays or radiation, so as to form a resist film; (B) exposing the resist film; and (D) developing the resist film with a negative developer; a positive resist composition for multiple development used in the method; a developer for use in the method; and a rinsing solution for negative development used in the method.

摘要翻译： 一种图案形成方法，包括：（A）用正性显影剂中的溶解度增加的正性抗蚀剂组合物涂覆基材，并且在用光化学辐射或辐射照射时，在负极显影剂中的溶解度降低，以形成抗蚀剂膜; （B）曝光抗蚀膜; 和（D）用负极显影剂显影抗蚀膜; 该方法中使用的用于多重显影的正性抗蚀剂组合物; 用于该方法的开发人员; 以及用于该方法的负显影用冲洗液。

公开(公告)号：US07906268B2

公开(公告)日：2011-03-15

申请号：US11077012

申请日：2005-03-11

申请人： Haruki Inabe ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

发明人： Haruki Inabe ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  Y10S430/108

摘要： A positive resist composition for immersion exposure comprises: (A) a resin containing at least one repeating unit having a fluorine atom and increasing a solubility of the resin in an alkali developer by an action of an acid; and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with one of an actinic ray and radiation.

摘要翻译： 用于浸渍曝光的正型抗蚀剂组合物包括：（A）含有至少一个具有氟原子的重复单元的树脂，并通过酸的作用增加树脂在碱性显影剂中的溶解度; 和（B）能够在用光化射线和辐射之一照射时能够产生酸的化合物。

公开(公告)号：US07892722B2

公开(公告)日：2011-02-22

申请号：US11129488

申请日：2005-05-16

申请人： Haruki Inabe ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

发明人： Haruki Inabe ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

IPC分类号： G03F1/00

CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/168 ,  G03F7/70341

摘要： A pattern forming method includes (a) a step of forming a resist film on a substrate, (b) a pre-wet step of spreading a pre-wet solution on the resist film and after a fixed time, removing the pre-wet solution, and (c) a step of subjecting the resist film on the substrate to exposure through an immersion liquid.

摘要翻译： 图案形成方法包括（a）在基板上形成抗蚀剂膜的步骤，（b）将预湿溶液铺展在抗蚀剂膜上的预湿步骤，并且在固定时间之后，除去预湿溶液 ，和（c）使基板上的抗蚀剂膜经过浸没液体曝光的步骤。