公开(公告)号：US07791732B2

公开(公告)日：2010-09-07

申请号：US11203418

申请日：2005-08-15

申请人： Arie Jeffrey Maria Den Boef ,  Arno Jan Bleeker ,  Youri Johannes Laurentius Maria Van Dommelen ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Paul Frank Luehrmann ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Maurits Van Der Schaar ,  Cedric Desire Grouwstra ,  Markus Gerardus Martinus Van Kraaij

发明人： Arie Jeffrey Maria Den Boef ,  Arno Jan Bleeker ,  Youri Johannes Laurentius Maria Van Dommelen ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Paul Frank Luehrmann ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Maurits Van Der Schaar ,  Cedric Desire Grouwstra ,  Markus Gerardus Martinus Van Kraaij

IPC分类号： G01B9/02 ,  G01J3/45 ,  G01N21/00

CPC分类号： G01N21/8806 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/7065 ,  G03F9/7034

摘要： An apparatus and method to determine a property of a substrate by measuring, in the pupil plane of a high numerical aperture lens, an angle-resolved spectrum as a result of radiation being reflected off the substrate. The property may be angle and wavelength dependent and may include the intensity of TM- and TE-polarized radiation and their relative phase difference.

摘要翻译： 通过在高数值孔径透镜的光瞳平面中测量作为辐射的结果的角度分辨光谱从衬底反射来确定衬底的性质的装置和方法。 该属性可以是角度和波长相关的，并且可以包括TM和TE偏振辐射的强度及其相对相位差。

公开(公告)号：US08054467B2

公开(公告)日：2011-11-08

申请号：US12805852

申请日：2010-08-20

申请人： Arie Jeffrey Maria Den Boef ,  Arno Jan Bleeker ,  Youri Johannes Laurentius Maria Van Dommelen ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Paul Frank Luehrmann ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Maurits Van Der Schaar ,  Cedric Desire Grouwstra ,  Markus Gerardus Martinus Van Kraaij

发明人： Arie Jeffrey Maria Den Boef ,  Arno Jan Bleeker ,  Youri Johannes Laurentius Maria Van Dommelen ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Paul Frank Luehrmann ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Maurits Van Der Schaar ,  Cedric Desire Grouwstra ,  Markus Gerardus Martinus Van Kraaij

IPC分类号： G01J3/45

CPC分类号： G01N21/8806 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/7065 ,  G03F9/7034

摘要： An apparatus and method to determine a property of a substrate by measuring, in the pupil plane of a high numerical aperture lens, an angle-resolved spectrum as a result of radiation being reflected off the substrate. The property may be angle and wavelength dependent and may include the intensity of TM- and TE-polarized radiation and their relative phase difference.

摘要翻译： 通过在高数值孔径透镜的光瞳平面中测量作为辐射的结果的角度分辨光谱从衬底反射来确定衬底的性质的装置和方法。 该属性可以是角度和波长相关的，并且可以包括TM和TE偏振辐射的强度及其相对相位差。

公开(公告)号：US07619737B2

公开(公告)日：2009-11-17

申请号：US11656004

申请日：2007-01-22

申请人： Everhardus Cornelis Mos ,  Maurits Van Der Schaar

发明人： Everhardus Cornelis Mos ,  Maurits Van Der Schaar

IPC分类号： G01B11/00

CPC分类号： H01L21/0274 ,  G01N21/4738 ,  G03F7/70633 ,  H01L23/544 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： Radiation is projected onto a plurality of targets on a substrate. By assuming that the overlay error derivable from asymmetry varies smoothly across the substrate, the number of targets measured can be reduced. This may result in a smaller area of the scribe lane being used by targets for each layer of the substrate.

摘要翻译： 辐射被投影到基板上的多个靶上。 通过假设由不对称性导出的重叠误差在衬底上平滑地变化，可以减少所测量的目标数量。 这可能导致划线的较小区域被基板每层的目标使用。

公开(公告)号：US07558643B2

公开(公告)日：2009-07-07

申请号：US11007578

申请日：2004-12-09

申请人： Maurits Van Der Schaar ,  Jeroen Huijbregtse ,  Sicco Ian Schets ,  Bart Luc Swinnen

发明人： Maurits Van Der Schaar ,  Jeroen Huijbregtse ,  Sicco Ian Schets ,  Bart Luc Swinnen

IPC分类号： G06F19/00

CPC分类号： G03F9/7092

摘要： A method according to one embodiment of the invention relates to determining at least one parameter of a model that provides information about a position of an object. The object may include a plurality of alignment marks of which desired positions are known. The method includes measuring a plurality of positional parameters for each alignment mark. Based on the measured plurality of positional parameters, which are weighted with weighing coefficients, at least one parameter of the model of the object is determined. The numerical value of each weighing coefficient is determined together with the at least one parameter of the model.

摘要翻译： 根据本发明的一个实施例的方法涉及确定提供关于对象的位置的信息的模型的至少一个参数。 物体可以包括多个对准标记，其中期望的位置是已知的。 该方法包括测量每个对准标记的多个位置参数。 基于所测量的多个位置参数，其被称重系数加权，确定对象的模型的至少一个参数。 每个称重系数的数值与模型的至少一个参数一起确定。

公开(公告)号：US08553230B2

公开(公告)日：2013-10-08

申请号：US13249566

申请日：2011-09-30

申请人： Arie Jeffrey Maria Den Boef ,  Arno Jan Bleeker ,  Youri Johannes Laurentius Maria Van Dommelen ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Paul Frank Luehrmann ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Maurits Van Der Schaar ,  Cedric Desire Grouwstra ,  Markus Gerardus Martinus Van Kraaij

发明人： Arie Jeffrey Maria Den Boef ,  Arno Jan Bleeker ,  Youri Johannes Laurentius Maria Van Dommelen ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Paul Frank Luehrmann ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Maurits Van Der Schaar ,  Cedric Desire Grouwstra ,  Markus Gerardus Martinus Van Kraaij

IPC分类号： G01B9/02

CPC分类号： G01N21/8806 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/7065 ,  G03F9/7034

摘要： An apparatus and method to determine a property of a substrate by measuring, in the pupil plane of a high numerical aperture lens, an angle-resolved spectrum as a result of radiation being reflected off the substrate. The property may be angle and wavelength dependent and may include the intensity of TM- and TE-polarized radiation and their relative phase difference.

摘要翻译： 通过在高数值孔径透镜的光瞳平面中测量作为辐射的结果的角度分辨光谱从衬底反射来确定衬底的性质的装置和方法。 该属性可以是角度和波长相关的，并且可以包括TM和TE偏振辐射的强度及其相对相位差。

公开(公告)号：US20130059240A1

公开(公告)日：2013-03-07

申请号：US13401882

申请日：2012-02-22

申请人： Maurits Van Der Schaar ,  Patrick Warnaar ,  Kaustuve Bhattacharyya ,  Hendrik Jan Hidde Smilde ,  Michael Kubis

发明人： Maurits Van Der Schaar ,  Patrick Warnaar ,  Kaustuve Bhattacharyya ,  Hendrik Jan Hidde Smilde ,  Michael Kubis

IPC分类号： G01B11/14 ,  G03F7/20 ,  G03B27/00

CPC分类号： G03F9/7042 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70683 ,  H01L23/544 ,  H01L23/58 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A pattern from a patterning device is applied to a substrate by a lithographic apparatus. The applied pattern includes product features and metrology targets. The metrology targets include large targets and small targets which are for measuring overlay. Some of the smaller targets are distributed at locations between the larger targets, while other small targets are placed at the same locations as a large target. By comparing values measured using a small target and large target at the same location, parameter values measured using all the small targets can be corrected for better accuracy. The large targets can be located primarily within scribe lanes while the small targets are distributed within product areas.

摘要翻译： 来自图案形成装置的图案通过光刻装置施加到基板。 应用模式包括产品功能和计量目标。 测量目标包括大目标和小目标，用于测量覆盖。 一些较小的目标分布在较大目标之间的位置，而其他小目标则放置在与大目标相同的位置。 通过比较在相同位置使用小目标和大目标测量的值，可以校正使用所有小目标测量的参数值以获得更高的精度。 大型目标主要位于划线范围内，而小目标则分布在产品区域内。

公开(公告)号：US20110292365A1

公开(公告)日：2011-12-01

申请号：US13132011

申请日：2009-12-01

申请人： Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Maurits Van Der Schaar

发明人： Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Maurits Van Der Schaar

IPC分类号： G03B27/54 ,  G01N21/00

CPC分类号： G03F7/70633 ,  G01N21/4785 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70625

摘要： Disclosed are methods, apparatuses, and lithographic systems for calibrating an inspection apparatus. Radiation is projected onto a pattern in a target position of a substrate. By making a plurality of measurements of the pattern and comparing the measured first or higher diffraction orders of radiation reflected from the pattern of different measurements, a residual error indicative of the error in a scatterometer may be calculated. This error is an error in measurements of substrate parameters caused by irregularities of the scatterometer. The residual error may manifest itself as an asymmetry in the diffraction spectra.

摘要翻译： 公开了用于校准检查装置的方法，装置和光刻系统。 辐射被投影到基板的目标位置的图案上。 通过对图案进行多次测量并比较从不同测量图案反射的辐射的测量的第一或更高的衍射级数，可以计算指示散射仪中的误差的残差。 该误差是由散射仪的不规则引起的衬底参数的测量误差。 残余误差可能表现为衍射光谱中的不对称性。

公开(公告)号：US20110255066A1

公开(公告)日：2011-10-20

申请号：US12996211

申请日：2009-06-04

申请人： Andreas Fuchs ,  Maurits Van Der Schaar

发明人： Andreas Fuchs ,  Maurits Van Der Schaar

IPC分类号： G03B27/74 ,  G03B27/32 ,  G01B11/14

CPC分类号： G03F7/70633

摘要： An apparatus measures properties, such as overlay error, of a substrate divided into a plurality of fields. The apparatus includes a radiation source configured to direct radiation onto a first target of each field of the substrate. Each first target (T4G) has at least a first grating and a second grating having respective predetermined offsets, the predetermined offset (+d) of the first grating being in a direction opposite the predetermined offset (−d) of the second grating. A detector is configured to detect the radiation reflected from each first target and to obtain an asymmetry value for each first target from the detected radiation. Further, a module is configured to determine an overlay value for each first target based on at least the obtained asymmetry value and the predetermined offsets and determine a polynomial fit across a plurality of first targets of a corresponding plurality of fields of the substrate for a relationship between the obtained asymmetry value and determined overlay value of each first target.

摘要翻译： 一种装置测量分成多个场的衬底的性质，例如覆盖误差。 该装置包括被配置为将辐射引导到衬底的每个场的第一靶上的辐射源。 每个第一目标（T4G）具有至少第一光栅和具有相应预定偏移的第二光栅，第一光栅的预定偏移（+ d）在与第二光栅的预定偏移（-d）相反的方向上。 检测器被配置为检测从每个第一目标反射的辐射，并且从检测到的辐射获得每个第一目标的不对称值。 此外，模块被配置为基于至少所获得的不对称值和预定偏移来确定每个第一目标的覆盖值，并且确定跨越衬底的相应多个场的多个第一目标的多项式拟合，以获得关系 在获得的不对称值和确定的每个第一目标的覆盖值之间。

公开(公告)号：US20110141444A1

公开(公告)日：2011-06-16

申请号：US12933481

申请日：2009-04-08

申请人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Maurits Van Der Schaar ,  Leonardus Henricus Marie Verstappen ,  Scott Anderson Middlebrooks ,  Andreas Fuchs

发明人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Maurits Van Der Schaar ,  Leonardus Henricus Marie Verstappen ,  Scott Anderson Middlebrooks ,  Andreas Fuchs

IPC分类号： G03B27/54 ,  G01N21/55

CPC分类号： G03F7/70616 ,  G01N21/47 ,  G01N21/9501

摘要： A scatterometer configured to measure a property of a substrate, includes a radiation source configured to provide a radiation beam; and a detector configured to detect a spectrum of the radiation beam reflected from a target (30) on the surface of the substrate (W) and to produce a measurement signal representative of the spectrum. The apparatus includes a beam shaper (51, 53) interposed in the radiation path between the radiation source and the detector, the beam shaper being configured to adjust the cross section of the beam dependent on the shape and/or size of the target.

摘要翻译： 配置成测量衬底性质的散射仪包括被配置为提供辐射束的辐射源; 以及检测器，其被配置为检测从所述基板（W）的表面上的目标（30）反射的所述辐射束的光谱，并产生表示所述光谱的测量信号。 该装置包括插入在辐射源和检测器之间的辐射路径中的光束整形器（51,53），光束整形器被配置为根据目标的形状和/或尺寸来调节光束的横截面。

公开(公告)号：US20100092881A1

公开(公告)日：2010-04-15

申请号：US12516909

申请日：2007-12-03

申请人： Everhardus Cornelis MOS ,  Maurits Van Der Schaar ,  Hubertus Johannes Gertrudus Simon

发明人： Everhardus Cornelis MOS ,  Maurits Van Der Schaar ,  Hubertus Johannes Gertrudus Simon

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/42 ,  G01B11/00

CPC分类号： G03F7/70725 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70458 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70783

摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam, a support for a patterning device, a substrate table for a substrate, a projection system, and a control system. The patterning device is capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam. The projection system is configured to project the patterned radiation beam as an image onto a target portion of the substrate along a scan path. The scan path is defined by a trajectory in a scanning direction of an exposure field of the lithographic apparatus. The control system is coupled to the support, the substrate table and the projection system for controlling an action of the support, the substrate table and the projection system, respectively. The control system is configured to correct a local distortion of the image in a region along the scan path by a temporal adjustment of the image in that region, hereby reducing the intra-field overlay errors.

摘要翻译： 光刻设备包括配置成调节辐射束的照明系统，图案形成装置的支撑件，用于衬底的衬底台，投影系统和控制系统。 图案形成装置能够在其横截面中赋予辐射束图案以形成图案化的辐射束。 投影系统被配置为沿着扫描路径将图案化的辐射束作为图像投影到基板的目标部分上。 扫描路径由光刻设备的曝光场的扫描方向上的轨迹限定。 控制系统耦合到支撑件，基板台和投影系统，用于分别控制支撑件，基板台和投影系统的作用。 控制系统被配置为通过在该区域中的图像的时间调整来校正沿着扫描路径的区域中的图像的局部失真，从而减少了场内重叠误差。