公开(公告)号：US08835094B2

公开(公告)日：2014-09-16

申请号：US13235719

申请日：2011-09-19

申请人： Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Tomohiro Kobayashi ,  Takeshi Kinsho

发明人： Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Tomohiro Kobayashi ,  Takeshi Kinsho

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F18/20 ,  C08F22/18 ,  C08F220/22 ,  G03F7/20 ,  C07C69/675 ,  C08F220/30 ,  C07C69/67 ,  C07C69/708 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24

CPC分类号： C07C69/675 ,  C07C69/67 ,  C07C69/708 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/30 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： Fluoroalcohol compounds of formula (1) are useful in producing polymers which are used as the base resin to formulate radiation-sensitive resist compositions having transparency to radiation having a wavelength of up to 500 nm and improved development characteristics. R1 is hydrogen or a monovalent C1-C20 hydrocarbon group in which any constituent —CH2— moiety may be replaced by —O— or —C(═O)—, Aa is a (k1+1)-valent C1-C20 hydrocarbon or fluorinated hydrocarbon group, and k1 is 1, 2 or 3.

摘要翻译： 式（1）的氟醇化合物可用于制备用作基础树脂的聚合物，以配制具有高达500nm波长的辐射透明度和改进的显影特性的对透射性的辐射敏感性抗蚀剂组合物。 R1是氢或一价C1-C20烃基，其中任何组成的-CH 2 - 部分可以被-O-或-C（= O） - 代替，A a是（k1 + 1）价的C1-C20烃或 氟化烃基，k1为1,2或3。

公开(公告)号：US20090239179A1

公开(公告)日：2009-09-24

申请号：US12405670

申请日：2009-03-17

申请人： Takeshi Kinsho ,  Masaki Ohashi ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe

发明人： Takeshi Kinsho ,  Masaki Ohashi ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： G03F7/20 ,  C07C69/54 ,  C08F20/10

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C07C69/54 ,  C07C2601/08 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74 ,  C08F220/18 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A hydroxyl-containing monomer of formula (1) is provided wherein R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2 and R3 are monovalent C1-C15 hydrocarbon groups, or R2 and R3 may form an aliphatic ring. The monomers are useful for the synthesis of polymers which have high transparency to radiation of up to 500 nm and the effect of controlling acid diffusion so that the polymers may be used as a base resin to formulate radiation-sensitive resist compositions having a high resolution.

摘要翻译： 提供式（1）的含羟基的单体，其中R 1是H，F，甲基或三氟甲基，R 2和R 3是一价C 1 -C 15烃基，或者R 2和R 3可以形成脂族环。 单体可用于合成对高达500nm的辐射具有高透明度的聚合物，以及控制酸扩散的效果，使得聚合物可用作基础树脂以配制具有高分辨率的辐射敏感性抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US07192684B2

公开(公告)日：2007-03-20

申请号：US10671732

申请日：2003-09-29

申请人： Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa

发明人： Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa

IPC分类号： G03C1/73 ,  G03F7/039 ,  G03F7/36 ,  C08F30/08 ,  C07F7/08

CPC分类号： C08F30/08 ,  C07F7/081 ,  C07F7/0812 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： Polymerizable silicon-containing compounds of formula (1) wherein R1 is hydrogen, halogen or monovalent organic group are polymerized into polymers. A resist composition comprising the polymer as a base resin is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity and resolution at a wavelength of less than 300 nm, and high resistance to oxygen plasma etching, and thus lends itself to micropatterning for the fabrication of VLSIs

摘要翻译： 其中R 1是氢，卤素或一价有机基团的式（1）的可聚合的含硅化合物聚合成聚合物。 包含作为基础树脂的聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，在小于300nm的波长下具有优异的灵敏度和分辨率，并且具有高耐氧等离子体蚀刻性，因此适用于制造微波图案 VLSI

公开(公告)号：US07141352B2

公开(公告)日：2006-11-28

申请号：US10849197

申请日：2004-05-20

申请人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa

发明人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

CPC分类号： C07D235/06 ,  C07D235/18 ,  C07D405/06 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： Resist compositions comprising basic compounds having a benzimidazole skeleton and a polar functional group have an excellent resolution and an excellent focus margin and are useful in microfabrication using electron beams or deep-UV light.

摘要翻译： 包含具有苯并咪唑骨架和极性官能团的碱性化合物的抗蚀剂组合物具有优异的分辨率和优异的聚焦余量，并且可用于使用电子束或深紫外光的微细加工。

公开(公告)号：US07141351B2

公开(公告)日：2006-11-28

申请号：US10849186

申请日：2004-05-20

申请人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa

发明人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C07D233/54 ,  C07D405/06 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/121

摘要： Resist compositions comprising basic compounds having an imidazole skeleton and a polar functional group have an excellent resolution and an excellent focus margin and are useful in microfabrication using electron beams or deep-UV light.

摘要翻译： 包含具有咪唑骨架和极性官能团的碱性化合物的抗蚀剂组合物具有优异的分辨率和优异的聚焦余量，并且可用于使用电子束或深紫外光的微细加工。

公开(公告)号：US07029822B2

公开(公告)日：2006-04-18

申请号：US10891229

申请日：2004-07-15

申请人： Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho

发明人： Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： C07C69/753 ,  C07C69/608 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/86

摘要： Tertiary alcohol compounds of formula (1) are novel wherein R1 and R2 are C1–10 alkyl groups which may have halogen substituents, or R1 and R2 may form an aliphatic hydrocarbon ring, Y and Z are a single bond or a divalent C1–10 organic group, and k=0 or 1. Using the tertiary alcohol compounds as a monomer, polymers are obtained. A resist composition comprising the polymer as a base resin is sensitive to high-energy radiation and has excellent sensitivity, resolution, etching resistance and substrate adhesion

摘要翻译： 式（1）的叔醇化合物是新的，其中R 1和R 2是可以具有卤素取代基的C 1-10烷基，或R 1， SUP>和R 2可以形成脂族烃环，Y和Z是单键或二价C 1-10有机基团，k = 0或1.使用叔醇化合物作为单体 ，得到聚合物。 包含作为基础树脂的聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有优异的灵敏度，分辨率，耐蚀刻性和基材粘合性

公开(公告)号：US20050008968A1

公开(公告)日：2005-01-13

申请号：US10849197

申请日：2004-05-20

申请人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa

发明人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa

IPC分类号： C07D235/06 ,  C07D235/12 ,  C07D235/16 ,  C07D235/18 ,  C07D405/06 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： C07D235/06 ,  C07D235/18 ,  C07D405/06 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： Resist compositions comprising basic compounds having a benzimidazole skeleton and a polar functional group have an excellent resolution and an excellent focus margin and are useful in microfabrication using electron beams or deep-UV light.

摘要翻译： 包含具有苯并咪唑骨架和极性官能团的碱性化合物的抗蚀剂组合物具有优异的分辨率和优异的聚焦余量，并且可用于使用电子束或深紫外光的微细加工。

公开(公告)号：US08114570B2

公开(公告)日：2012-02-14

申请号：US12410357

申请日：2009-03-24

申请人： Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Masaki Ohashi

发明人： Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Masaki Ohashi

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30 ,  C07D307/00 ,  C07C309/03 ,  C07C309/19

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C25/18 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07D333/46 ,  C07D493/08 ,  C07D493/18 ,  C08K5/42 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111

摘要： Photoacid generators generate sulfonic acids of formula (1a) upon exposure to high-energy radiation. ROC(═O)R1—COOCH2CF2SO3−H+  (1a) RO is OH or C1-C20 organoxy, R1 is a divalent C1-C20 aliphatic group or forms a cyclic structure with RO. The photoacid generators are compatible with resins and can control acid diffusion and are thus suited for use in chemically amplified resist compositions.

摘要翻译： 光生酸发生剂在暴露于高能量辐射时产生式（1a）的磺酸。 ROC（= O）R1-COOCH2CF2SO3-H +（1a）RO是OH或C1-C20有机氧基，R1是二价C1-C20脂族基团或与RO形成环状结构。 光致酸产生剂与树脂相容并且可以控制酸扩散，因此适用于化学增幅抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US07276324B2

公开(公告)日：2007-10-02

申请号：US10984933

申请日：2004-11-10

申请人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Katsuya Takemura ,  Kazumi Noda ,  Katsuhiro Kobayashi

发明人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Katsuya Takemura ,  Kazumi Noda ,  Katsuhiro Kobayashi

IPC分类号： G03C1/73 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382

摘要： Chemically amplified resist compositions comprising nitrogen-containing organic compounds having an aromatic carboxylic acid ester structure have an excellent resolution and provide a precise pattern profile and are useful in microfabrication using electron beams or deep-UV light.

摘要翻译： 包含具有芳族羧酸酯结构的含氮有机化合物的化学扩增抗蚀剂组合物具有优异的分辨率并提供精确的图案轮廓，并且可用于使用电子束或深紫外光的微细加工。

公开(公告)号：US06509481B2

公开(公告)日：2003-01-21

申请号：US10117218

申请日：2002-04-08

申请人： Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe

发明人： Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： C07D31500

CPC分类号： C07D307/12 ,  C07D307/06

摘要： Tetrahydrofuran compounds of formula (1) wherein the broken line represents a single bond, a divalent organic group, or a structure in which the alicyclic structure in the form of norbornene or tetracyclo[4.4.0.12,5.17,10]dodecene and the tetrahydrofuran cyclic structure share one or two constituent carbon atoms, and k is 0 or 1 are novel and useful as monomers to form base resins for use in chemically amplified resist compositions adapted for micropatterning lithography

摘要翻译： 式（1）的四氢呋喃化合物，其中虚线表示单键，二价有机基团或其中降冰片烯或四环[4.4.0.12,5.17,10]十二碳烯形式的脂环结构和四氢呋喃环状 结构共享一个或两个组成碳原子，并且k为0或1是新颖的并且可用作形成用于化学增强抗蚀剂组合物中的基础树脂的单体，其适用于微图案光刻