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    REACTOR AND METHOD FOR PRODUCTION OF SILICON
    1.
    发明申请
    REACTOR AND METHOD FOR PRODUCTION OF SILICON 审中-公开
    用于生产硅的反应器和方法

    公开(公告)号：US20120251427A1

    公开(公告)日：2012-10-04

    申请号：US13508604

    申请日：2010-11-25

    申请人： Josef Filtvedt ,  Werner O. Filtvedt ,  Arve Holt

    发明人： Josef Filtvedt ,  Werner O. Filtvedt ,  Arve Holt

    IPC分类号： B01J19/00 ,  C23C16/24 ,  B01J19/28

    摘要： Reactor for production of silicon, comprising a reactor volume, distinctive in that the reactor comprises or is operatively arranged to at least one means for setting a silicon-containing reaction gas for chemical vapor deposition (CVD) into rotation inside the reactor volume. Method for production of silicon.

    摘要翻译： 用于生产硅的反应器包括反应器体积，其特征在于反应器包括或可操作地布置在至少一种用于将用于化学气相沉积（CVD）的含硅反应气体设置为在反应器体积内旋转的装置。 生产硅的方法

    Gas distribution arrangement for a fluidized bed
    2.
    发明授权
    Gas distribution arrangement for a fluidized bed 有权
    流化床的气体分配布置

    公开(公告)号：US09440210B2

    公开(公告)日：2016-09-13

    申请号：US14116939

    申请日：2012-05-11

    申请人： Werner Filtvedt ,  Arve Holt

    发明人： Werner Filtvedt ,  Arve Holt

    IPC分类号： C01B33/02 ,  B01J8/18 ,  B01J8/44 ,  C01B33/027 ,  C01B33/107 ,  B05B1/00 ,  C01B33/029

    CPC分类号： B01J8/1872 ,  B01J8/1827 ,  B01J8/44 ,  B01J2219/00252 ,  B05B1/005 ,  C01B33/027 ,  C01B33/029 ,  C01B33/107

    摘要： Embodiments provide a gas distribution arrangement, a device for handling a chemical reaction comprising such a gas distribution arrangement and a method of providing a chemical reaction chamber with a gas. The distribution arrangement comprises a distribution plate for separating a chemical reaction chamber from a gas inlet area and having a first side arranged to face the chemical reaction chamber and a second side arranged to face the gas inlet area and comprising a set of through holes stretching between the first and the second side, where the first side of the plate comprises a first material surrounding the holes and having a first thermal conductivity, and the plate also comprises a second material forming a base structure also surrounding the holes and having a second thermal conductivity.

    摘要翻译： 实施例提供了气体分配装置，用于处理包括这种气体分配装置的化学反应的装置以及向化学反应室提供气体的方法。 分配装置包括分配板，用于将化学反应室与气体入口区分离，并且具有布置成面向化学反应室的第一侧和布置成面对气体入口区域的第二侧，并且包括一组通孔， 第一侧和第二侧，其中板的第一侧包括围绕孔并具有第一导热性的第一材料，并且该板还包括形成还围绕孔并具有第二导热性的基底结构的第二材料 。

    Gas Distribution Arrangement for a Fluidized Bed
    3.
    发明申请
    Gas Distribution Arrangement for a Fluidized Bed 有权
    流化床的气体分布布置

    公开(公告)号：US20140127116A1

    公开(公告)日：2014-05-08

    申请号：US14116939

    申请日：2012-05-11

    申请人： Werner Filtvedt ,  Arve Holt

    发明人： Werner Filtvedt ,  Arve Holt

    IPC分类号： B01J8/18 ,  C01B33/027 ,  B05B1/00

    CPC分类号： B01J8/1872 ,  B01J8/1827 ,  B01J8/44 ,  B01J2219/00252 ,  B05B1/005 ,  C01B33/027 ,  C01B33/029 ,  C01B33/107

    摘要： Embodiments provide a gas distribution arrangement, a device for handling a chemical reaction comprising such a gas distribution arrangement and a method of providing a chemical reaction chamber with a gas. The distribution arrangement comprises a distribution plate for separating a chemical reaction chamber from a gas inlet area and having a first side arranged to face the chemical reaction chamber and a second side arranged to face the gas inlet area and comprising a set of through holes stretching between the first and the second side, where the first side of the plate comprises a first material surrounding the holes and having a first thermal conductivity, and the plate also comprises a second material forming a base structure also surrounding the holes and having a second thermal conductivity.

    摘要翻译： 实施例提供了气体分配装置，用于处理包括这种气体分配装置的化学反应的装置以及向化学反应室提供气体的方法。 分配装置包括分配板，用于将化学反应室与气体入口区分离，并且具有布置成面向化学反应室的第一侧和布置成面对气体入口区域的第二侧，并且包括一组通孔， 第一侧和第二侧，其中板的第一侧包括围绕孔并具有第一导热性的第一材料，并且该板还包括形成还围绕孔并具有第二导热性的基底结构的第二材料 。

    METHOD AND DEVICE
    4.
    发明申请
    METHOD AND DEVICE 审中-公开
    方法和装置

    公开(公告)号：US20130089490A1

    公开(公告)日：2013-04-11

    申请号：US13649673

    申请日：2012-10-11

    申请人： Wener FILTVEDT ,  Arve Holt

    发明人： Wener FILTVEDT ,  Arve Holt

    IPC分类号： C01B33/027 ,  B01J19/00 ,  B82Y40/00 ,  B82Y30/00

    CPC分类号： B01J19/2415 ,  B01J4/004 ,  B01J19/002 ,  B01J19/2475 ,  B01J2219/00252 ,  C01B33/027 ,  C01B33/029

    摘要： Method for producing nano- to micro-scale particles of a material by homogeneous thermal decomposition or reduction of a reactant gas (12) containing the material, whereby the method comprises the steps of supplying the reactant gas (12) to a reaction chamber (16) of a reactor via at least one inlet, and a) heating the reactant gas (12) to a temperature sufficient for thermal decomposition or reduction of the reactant gas (12) to take place inside the reaction chamber (16), or b) confining a temperature dependent reaction or reaction sequence involving a plurality of reactants inside the reaction chamber (16). The method comprises the step of supplying a primary gas (22) through a porous membrane (20) constituting at least part of at least one wall of the reaction chamber (16) to provide a protective inert gas boundary to minimize or prevent the deposition of the material on the porous membrane (20).

    摘要翻译： 通过均质热分解或还原含有该材料的反应气体（12）来生产材料的纳米级微粒子的方法，由此该方法包括以下步骤：将反应气体（12）供应到反应室（16） ），以及a）将所述反应气体（12）加热至足以使所述反应气体（12）热分解或还原以在所述反应室（16）内进行的温度，或b） 限制在反应室（16）内包含多个反应物的温度依赖性反应或反应顺序。 该方法包括通过构成反应室（16）的至少一个壁的至少一部分壁的多孔膜（20）供应初级气体（22）的步骤，以提供保护性的惰性气体边界以最小化或防止沉积 多孔膜（20）上的材料。