公开(公告)号：US08263480B2

公开(公告)日：2012-09-11

申请号：US12708007

申请日：2010-02-18

申请人： Eun Kyung Lee ,  Byoung Lyong Choi ,  Young Kuk ,  Je Hyuk Choi ,  Hun Huy Jung

发明人： Eun Kyung Lee ,  Byoung Lyong Choi ,  Young Kuk ,  Je Hyuk Choi ,  Hun Huy Jung

IPC分类号： H01L21/203

CPC分类号： H01L29/0665 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  H01L21/02538 ,  H01L21/02543 ,  H01L21/02546 ,  H01L21/02551 ,  H01L21/02568 ,  H01L21/02603 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/02639 ,  H01L21/02642 ,  H01L21/02645 ,  H01L21/02653 ,  H01L29/0673 ,  H01L31/035281 ,  H01L33/08 ,  H01L33/20 ,  Y10S977/70 ,  Y10S977/762 ,  Y10S977/84

摘要： Methods for the site-selective growth of horizontal nanowires are provided. According to the methods, horizontal nanowires having a predetermined length and diameter can be grown site-selectively at desired sites in a direction parallel to a substrate to fabricate a device with high degree of integration. Further provided are nanowires grown by the methods and nanodevices comprising the nanowires.

摘要翻译： 提供了水平纳米线场地选择性生长的方法。 根据该方法，具有预定长度和直径的水平纳米线可以在平行于基板的方向上在所需位置选择性地生长，从而制造具有高集成度的装置。 还提供了通过包括纳米线的方法和纳米器件生长的纳米线。

公开(公告)号：US20100144126A1

公开(公告)日：2010-06-10

申请号：US12708007

申请日：2010-02-18

申请人： Eun Kyung LEE ,  Byoung Lyong CHOI ,  Young KUK ,  Je Hyuk CHOI ,  Hun Huy JUNG

发明人： Eun Kyung LEE ,  Byoung Lyong CHOI ,  Young KUK ,  Je Hyuk CHOI ,  Hun Huy JUNG

IPC分类号： H01L21/203

CPC分类号： H01L29/0665 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  H01L21/02538 ,  H01L21/02543 ,  H01L21/02546 ,  H01L21/02551 ,  H01L21/02568 ,  H01L21/02603 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/02639 ,  H01L21/02642 ,  H01L21/02645 ,  H01L21/02653 ,  H01L29/0673 ,  H01L31/035281 ,  H01L33/08 ,  H01L33/20 ,  Y10S977/70 ,  Y10S977/762 ,  Y10S977/84

摘要： Methods for the site-selective growth of horizontal nanowires are provided. According to the methods, horizontal nanowires having a predetermined length and diameter can be grown site-selectively at desired sites in a direction parallel to a substrate to fabricate a device with high degree of integration. Further provided are nanowires grown by the methods and nanodevices comprising the nanowires.

摘要翻译： 提供了水平纳米线场地选择性生长的方法。 根据该方法，具有预定长度和直径的水平纳米线可以在平行于基板的方向上在所需位置选择性地生长，从而制造具有高集成度的装置。 还提供了通过包括纳米线的方法和纳米器件生长的纳米线。

公开(公告)号：US07696097B2

公开(公告)日：2010-04-13

申请号：US12051513

申请日：2008-03-19

申请人： Eun Kyung Lee ,  Byoung Lyong Choi ,  Young Kuk ,  Je Hyuk Choi ,  Hun Huy Jung

发明人： Eun Kyung Lee ,  Byoung Lyong Choi ,  Young Kuk ,  Je Hyuk Choi ,  Hun Huy Jung

IPC分类号： H01L29/06 ,  H01L21/311

CPC分类号： H01L29/0665 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  H01L21/02538 ,  H01L21/02543 ,  H01L21/02546 ,  H01L21/02551 ,  H01L21/02568 ,  H01L21/02603 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/02639 ,  H01L21/02642 ,  H01L21/02645 ,  H01L21/02653 ,  H01L29/0673 ,  H01L31/035281 ,  H01L33/08 ,  H01L33/20 ,  Y10S977/70 ,  Y10S977/762 ,  Y10S977/84

摘要： Methods for the site-selective growth of horizontal nanowires are provided. According to the methods, horizontal nanowires having a predetermined length and diameter can be grown site-selectively at desired sites in a direction parallel to a substrate to fabricate a device with high degree of integration. Further provided are nanowires grown by the methods and nanodevices comprising the nanowires.

摘要翻译： 提供了水平纳米线场地选择性生长的方法。 根据该方法，具有预定长度和直径的水平纳米线可以在平行于基板的方向上在所需位置选择性地生长，从而制造具有高集成度的装置。 还提供了通过包括纳米线的方法和纳米器件生长的纳米线。

公开(公告)号：US20090057653A1

公开(公告)日：2009-03-05

申请号：US12051513

申请日：2008-03-19

申请人： Eun Kyung LEE ,  Byoung Lyong CHOI ,  Young KUK ,  Je Hyuk CHOI ,  Hun Huy JUNG

发明人： Eun Kyung LEE ,  Byoung Lyong CHOI ,  Young KUK ,  Je Hyuk CHOI ,  Hun Huy JUNG

IPC分类号： H01L29/06 ,  H01L21/311

CPC分类号： H01L29/0665 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  H01L21/02538 ,  H01L21/02543 ,  H01L21/02546 ,  H01L21/02551 ,  H01L21/02568 ,  H01L21/02603 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/02639 ,  H01L21/02642 ,  H01L21/02645 ,  H01L21/02653 ,  H01L29/0673 ,  H01L31/035281 ,  H01L33/08 ,  H01L33/20 ,  Y10S977/70 ,  Y10S977/762 ,  Y10S977/84

摘要： Methods for the site-selective growth of horizontal nanowires are provided. According to the methods, horizontal nanowires having a predetermined length and diameter can be grown site-selectively at desired sites in a direction parallel to a substrate to fabricate a device with high degree of integration. Further provided are nanowires grown by the methods and nanodevices comprising the nanowires.

摘要翻译： 提供了水平纳米线场地选择性生长的方法。 根据该方法，具有预定长度和直径的水平纳米线可以在平行于基板的方向上在所需位置选择性地生长，从而制造具有高集成度的装置。 还提供了通过包括纳米线的方法和纳米器件生长的纳米线。