公开(公告)号：US07512303B2

公开(公告)日：2009-03-31

申请号：US11769070

申请日：2007-06-27

申请人： Benjamin F. Catching ,  Donald M. Friedrich ,  Charles A. Hulse ,  Marc K. Von Gunten ,  Jason Reed ,  Karl Kissa ,  Glen Drake ,  Julia Duncan ,  William J. Minford ,  Hiren V. Shah ,  Jerry Zieba ,  Jason Jiazhan Xu

发明人： Benjamin F. Catching ,  Donald M. Friedrich ,  Charles A. Hulse ,  Marc K. Von Gunten ,  Jason Reed ,  Karl Kissa ,  Glen Drake ,  Julia Duncan ,  William J. Minford ,  Hiren V. Shah ,  Jerry Zieba ,  Jason Jiazhan Xu

IPC分类号： G02B6/10

CPC分类号： G02F1/377 ,  G02B6/13 ,  G02B6/1342 ,  G02B2006/1204 ,  G02B2006/12097 ,  G02F2201/06 ,  G02F2201/07

摘要： The invention relates to a wafer scale process for the manufacture of optical waveguide devices, and particularly for the manufacture of ridge waveguide devices, and the improved waveguides made thereby. The present invention has found a process for achieving sub-micron control of an optical waveguiding layer thickness by providing a dimensionally stable wafer assembly into which adhesive can be introduced without altering the planar relationship between a carrier wafer and an optically transmissive wafer in wafer scale manufacture. This process permits wafer scale manufacture of optical waveguide devices including thin optically transmissive layers. A pattern of spacer pedestals is created by a deposition and etch back, or by a surface etch process to precisely reference surface information from a master surface to a carrier wafer to a thin optically transmissive wafer. The tolerance achievable in accordance with this process provides consistent yield across the wafer.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于制造光波导器件的晶片刻度工艺，特别涉及脊波导器件的制造以及由此制成的改进的波导。 本发明已经发现了一种通过提供尺寸稳定的晶片组件来实现光学波导层厚度的亚微米控制的方法，其中可以引入粘合剂而不改变晶片规模制造中的载体晶片和光学透射晶片之间的平面关系 。 该方法允许晶圆级制造包括薄光学透射层的光波导器件。 通过沉积和回蚀，或通过表面蚀刻工艺来产生间隔基座的图案，以将表面信息从主表面精确地参考到载体晶片到薄的光学透射晶片。 根据该方法可实现的公差提供了跨晶片的一致产率。

公开(公告)号：US20080085089A1

公开(公告)日：2008-04-10

申请号：US11769070

申请日：2007-06-27

申请人： Benjamin Catching ,  Donald Friedrich ,  Charles Hulse ,  Marc Von Gunten ,  Jason Reed ,  Karl Kissa ,  Glen Drake ,  Julia Duncan ,  William Minford ,  Hiren Shah ,  Jerry Zieba ,  Jason Xu

发明人： Benjamin Catching ,  Donald Friedrich ,  Charles Hulse ,  Marc Von Gunten ,  Jason Reed ,  Karl Kissa ,  Glen Drake ,  Julia Duncan ,  William Minford ,  Hiren Shah ,  Jerry Zieba ,  Jason Xu

IPC分类号： G02B6/10 ,  B29D11/00

CPC分类号： G02F1/377 ,  G02B6/13 ,  G02B6/1342 ,  G02B2006/1204 ,  G02B2006/12097 ,  G02F2201/06 ,  G02F2201/07

摘要： The invention relates to a wafer scale process for the manufacture of optical waveguide devices, and particularly for the manufacture of ridge waveguide devices, and the improved waveguides made thereby. The present invention has found a process for achieving sub-micron control of an optical waveguiding layer thickness by providing a dimensionally stable wafer assembly into which adhesive can be introduced without altering the planar relationship between a carrier wafer and an optically transmissive wafer in wafer scale manufacture. This process permits wafer scale manufacture of optical waveguide devices including thin optically transmissive layers. A pattern of spacer pedestals is created by a deposition and etch back, or by a surface etch process to precisely reference surface information from a master surface to a carrier wafer to a thin optically transmissive wafer. The tolerance achievable in accordance with this process provides consistent yield across the wafer.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于制造光波导器件的晶片刻度工艺，特别涉及脊波导器件的制造以及由此制成的改进的波导。 本发明已经发现了一种通过提供尺寸稳定的晶片组件来实现光学波导层厚度的亚微米控制的方法，其中可以引入粘合剂而不改变晶片规模制造中的载体晶片和光学透射晶片之间的平面关系 。 该方法允许晶圆级制造包括薄光学透射层的光波导器件。 通过沉积和回蚀，或通过表面蚀刻工艺来产生间隔基座的图案，以将表面信息从主表面精确地参考到载体晶片到薄的光学透射晶片。 根据该方法可实现的公差提供了跨晶片的一致产率。

公开(公告)号：US20140131578A1

公开(公告)日：2014-05-15

申请号：US14079280

申请日：2013-11-13

申请人： Curtis R. Hruska ,  Charles A. Hulse ,  Brett J. Bryars ,  Marc K. Von Gunten ,  Christopher G. Pederson ,  Nada A. O'Brien ,  Jerry Zieba

发明人： Curtis R. Hruska ,  Charles A. Hulse ,  Brett J. Bryars ,  Marc K. Von Gunten ,  Christopher G. Pederson ,  Nada A. O'Brien ,  Jerry Zieba

IPC分类号： G01N21/35

CPC分类号： G01N21/35 ,  G01J3/0205 ,  G01J3/0272 ,  G01J3/10 ,  G01J3/26 ,  G01J3/42 ,  G01J5/08 ,  G01J2003/1234 ,  G01N21/359 ,  G01N2201/0221 ,  G01N2201/061 ,  G01N2201/068

摘要： A portable spectrometer device includes an illumination source for directing at a sample, and a tapered light pipe (TLP) for capturing light interacting with the sample at a first focal ratio and for delivering the light at a second focal ratio lower than the first focal ratio. A linearly variable filter (LVF) separates the captured light into a spectrum of constituent wavelength signals; and a detector array, including a plurality of pixels, each of the plurality of pixels disposed to receive at least a portion of a plurality of the constituent wavelength signals provides a power reading for each constituent wavelength. Preferably, the TLP is lensed at one end, and recessed in a protective boot with stepped inner walls. The gap between the TLP and LVF is minimized to further enhance resolution and robustness.

摘要翻译： 便携式光谱仪装置包括用于引导样品的照明源和用于以第一焦距比捕获与样品相互作用的光的锥形光管（TLP），并且以比第一焦距比低的第二焦距传送光 。 线性可变滤波器（LVF）将捕获的光分离成波长信号的频谱; 以及包括多个像素的检测器阵列，所述多个像素中的每一个被设置为接收多个所述组成波长信号的至少一部分，为每个构成波长提供功率读数。 优选地，TLP在一端镜片，并且凹陷在具有阶梯状内壁的保护靴中。 TLP和LVF之间的差距被最小化以进一步提高分辨率和鲁棒性。

公开(公告)号：US06204953B1

公开(公告)日：2001-03-20

申请号：US09434037

申请日：1999-11-04

申请人： Jerry Zieba ,  Curtis Ross Hruska ,  Steven P. Sapers ,  Michael J. Cumbo ,  Nada A. O'Brien

发明人： Jerry Zieba ,  Curtis Ross Hruska ,  Steven P. Sapers ,  Michael J. Cumbo ,  Nada A. O'Brien

IPC分类号： G02F115

CPC分类号： G02F1/161 ,  G02F1/153 ,  G02F2001/1536 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/31507 ,  Y10T428/31721

摘要： Polymeric coating materials used to protect electrochromic devices from environmental and mechanical damage are provided. The protective polymeric coating materials are physically, chemically and optically compatible with the electrochromic cell layers of electrochromic devices. The polymeric coating materials are polymers having generic polymer back-bones selected from the group of polyimides, polybenzimidazoles, polybenzothiazoles, polybenzoxazoles, poly(phenylene ethers), polyquinolines, polycarbonates, and polysulfones.

摘要翻译： 提供了用于保护电致变色器件免受环境和机械损伤的聚合物涂层材料。 保护性聚合物涂层材料在物理，化学和光学上与电致变色器件的电致变色元件层相容。 聚合物涂层材料是具有选自聚酰亚胺，聚苯并咪唑，聚苯并噻唑，聚苯并恶唑，聚（亚苯基醚），聚喹啉，聚碳酸酯和聚砜的通用聚合物背骨的聚合物。

公开(公告)号：US5995271A

公开(公告)日：1999-11-30

申请号：US946604

申请日：1997-10-07

申请人： Jerry Zieba ,  Curtis Ross Hruska ,  Steven P. Sapers ,  Michael J. Cumbo ,  Nada A. O'Brien

发明人： Jerry Zieba ,  Curtis Ross Hruska ,  Steven P. Sapers ,  Michael J. Cumbo ,  Nada A. O'Brien

IPC分类号： G02F1/153 ,  G02F1/161 ,  G02F1/15

CPC分类号： G02F1/161 ,  G02F1/153 ,  G02F2001/1536 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/31507 ,  Y10T428/31721

摘要： The present invention is directed to a polymeric coating material used to protect electrochromic devices from environmental and mechanical damage. The protective polymeric coating material in the present invention are physically, chemically and optically compatible with the electrochromic cell layers. The polymeric coating materials in the present invention are polymers having generic polymer back-bones selected from the group consisting of polyimides, polybenzimidazoles, polybenzothiazoles, polybenzoxazoles, poly(phenylene ethers), polyquinolines, polycarbonates and polysulfones.

摘要翻译： 本发明涉及用于保护电致变色装置免受环境和机械损伤的聚合物涂层材料。 本发明中的保护性聚合物涂层材料在物理，化学和光学上与电致变色细胞层相容。 本发明中的聚合物涂层材料是具有选自聚酰亚胺，聚苯并咪唑，聚苯并噻唑，聚苯并恶唑，聚（亚苯基醚），聚喹啉，聚碳酸酯和聚砜的通用聚合物背骨的聚合物。

公开(公告)号：US20080226844A1

公开(公告)日：2008-09-18

申请号：US12045510

申请日：2008-03-10

申请人： David M. Shemo ,  Scott McEldowney ,  Jerry Zieba

发明人： David M. Shemo ,  Scott McEldowney ,  Jerry Zieba

IPC分类号： G02B27/00 ,  C09K19/00

CPC分类号： G03F7/70566 ,  G02B5/3016 ,  G02B5/3083 ,  G02F2413/09 ,  G03F7/70966 ,  Y10T428/10

摘要： The invention provides a space-variant liquid-crystal (LC) photo-aligned waveplate having a vortex optic axis pattern, and an apparatus and method for fabricating thereof. The method in it preferred embodiment includes exposing a substrate coated with a photo-alignable material such as LPP to linearly polarized UV radiation through a wedge-shaped aperture, while rotating two of the aperture, the substrate and the polarization of the UV light, so that an exposure area performs a full rotation about a center point on the substrate, at angular velocities selected so as to form a vortex alignment pattern of a pre-defined order. An LC material is then deposited on the substrate in direct contact with the photo-alignable material so that the LC director is aligned according to the photo-induced vortex alignment pattern. The method enables to fabricate vortex waveplate of any pre-defined vortex order.

摘要翻译： 本发明提供一种具有涡旋光轴图案的空间变异液晶（LC）光取向波片及其制造方法。 在其优选实施例中的方法包括将通过楔形孔的光可对准材料（例如LPP）涂覆的线性偏振UV辐射同时旋转孔径，衬底和UV光的偏振两者，使得 曝光区域以选定的角速度围绕基板上的中心点执行完全旋转，以便形成预定顺序的涡流对准图案。 然后将LC材料沉积在与光可校准材料直接接触的基板上，使得LC导向器根据光诱导的涡流对准图案对准。 该方法能够制造任何预定义的涡流顺序的涡流波片。

公开(公告)号：US07626661B2

公开(公告)日：2009-12-01

申请号：US11006379

申请日：2004-12-07

申请人： Jerry Zieba ,  Thomas Mayer ,  David M. Shemo ,  Markus Duelli ,  Kim Leong Tan ,  Karen Denise Hendrix ,  Klaus Schmitt

发明人： Jerry Zieba ,  Thomas Mayer ,  David M. Shemo ,  Markus Duelli ,  Kim Leong Tan ,  Karen Denise Hendrix ,  Klaus Schmitt

IPC分类号： G02F1/1335

CPC分类号： G02B5/3083 ,  G02B5/3016 ,  G02F1/133634 ,  G02F2201/38

摘要： The invention relates to a polarization compensating element (PCE) for a liquid crystal, e.g. liquid crystal on silicon (LCoS), display system manufactured using a linearly photo-polymerizable polymer (LPP) for orienting a photo-polymerizable liquid crystal polymer (LCP) film. To decrease the reflection, polarization conversion, and interference events in an LPP/LCP assembly the ΔN birefringence value of the LCP material is minimized. Dielectric coatings are added at various locations throughout the assembly for minimizing the amount of reflection, polarization conversion, and interference effects and for suppressing spatial retardance ripples.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于液晶的偏振补偿元件（PCE），例如， 硅液晶（LCoS），使用用于取向光聚合性液晶聚合物（LCP）膜的线性光聚合性聚合物（LPP）制造的显示系统。 为了减少LPP / LCP组件中的反射，偏振转换和干涉事件，LCP材料的DeltaN双折射值被最小化。 在整个组件中的各个位置添加介电涂层，以最小化反射量，极化转换和干涉效应以及抑制空间延迟波纹。

公开(公告)号：US20080049321A1

公开(公告)日：2008-02-28

申请号：US11844428

申请日：2007-08-24

申请人： Scott McEldowney ,  Jerry Zieba ,  Michael Newell

发明人： Scott McEldowney ,  Jerry Zieba ,  Michael Newell

IPC分类号： G02B5/30

CPC分类号： G02B5/3083 ,  G01J3/0224

摘要： The present invention relates to a passive depolarizer for use in an optical system having an image plane. The passive depolarizer includes a patterned half wave plate incorporating a monolithic layer of birefringent material. The monolithic layer includes a plurality of regions having fast axes with at least four different orientations. Accordingly, a polarized beam of light launched into the patterned half wave plate is substantially depolarized at the image plane.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于具有图像平面的光学系统的无源去偏振器。 无源去极化器包括结合有双折射材料的单片层的图案化半波片。 单片层包括具有至少四个不同取向的快轴的多个区域。 因此，发射到图案化的半波片中的偏振光束在图像平面基本上被去极化。

公开(公告)号：US20060204766A1

公开(公告)日：2006-09-14

申请号：US11079722

申请日：2005-03-14

申请人： Jerry Zieba ,  Thomas Mayer ,  Heather Aldridge ,  Fred Milligen ,  Donald Beams ,  Brad Duffy

发明人： Jerry Zieba ,  Thomas Mayer ,  Heather Aldridge ,  Fred Milligen ,  Donald Beams ,  Brad Duffy

IPC分类号： B32B9/04

CPC分类号： C23C14/12 ,  C08G65/336 ,  C09D171/02

摘要： An anti-moisture and soil-repellent coating and a method of preparing the same includes a fluorinated alkyl ether polymer having a functionalized silane that is applied to a non-oxide surface. Advantageously, the instant invention provides a durable anti-moisture and soil-repellant coating for relatively inert surfaces, such as MgF2, without the need for a primer layer.

摘要翻译： 防潮和防污涂层及其制备方法包括具有施加到非氧化物表面的官能化硅烷的氟化烷基醚聚合物。 有利地，本发明为不需要底漆层的相对惰性的表面提供耐久和防污染的涂层，例如MgF 2 N 2。

公开(公告)号：US20050128380A1

公开(公告)日：2005-06-16

申请号：US11006379

申请日：2004-12-07

申请人： Jerry Zieba ,  Thomas Mayer ,  David Shemo ,  Markus Duelli ,  Kim Tan ,  Karen Hendrix

发明人： Jerry Zieba ,  Thomas Mayer ,  David Shemo ,  Markus Duelli ,  Kim Tan ,  Karen Hendrix

IPC分类号： G02B5/30 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/13363

CPC分类号： G02B5/3083 ,  G02B5/3016 ,  G02F1/133634 ,  G02F2201/38

摘要： The invention relates to a polarization compensating element (PCE) for a liquid crystal, e.g. liquid crystal on silicon (LCoS), display system manufactured using a linearly photo-polymerizable polymer (LPP) for orienting a photo-polymerizable liquid crystal polymer (LCP) film. To decrease the reflection, polarization conversion, and interference events in an LPP/LCP assembly the ΔN birefringence value of the LCP material is minimized. Dielectric coatings are added at various locations throughout the assembly for minimizing the amount of reflection, polarization conversion, and interference effects and for suppressing spatial retardance ripples.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于液晶的偏振补偿元件（PCE），例如， 硅液晶（LCoS），使用用于取向光聚合性液晶聚合物（LCP）膜的线性光聚合性聚合物（LPP）制造的显示系统。 为了减少LPP / LCP组件中的反射，偏振转换和干涉事件，LCP材料的DeltaN双折射值被最小化。 在整个组件中的各个位置添加介电涂层，以最小化反射量，极化转换和干涉效应以及抑制空间延迟波纹。