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1.发明申请公开(公告)号：US20100038827A1
公开(公告)日：2010-02-18
申请号：US12576030
申请日：2009-10-08
申请人： Pawan Kumar Nimmakayala , Tom H. Rafferty , Alireza Aghili , Byung-Jin Choi , Philip D. Schumaker , Daniel A. Babbs , Van Nguyen Truskett
发明人： Pawan Kumar Nimmakayala , Tom H. Rafferty , Alireza Aghili , Byung-Jin Choi , Philip D. Schumaker , Daniel A. Babbs , Van Nguyen Truskett
CPC分类号： G01B11/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F9/00 , G03F9/7003 , G03F9/7042 , G03F9/7049
摘要： The present invention features a method to determine relative spatial parameters between two coordinate systems, which may be a mold and a region of a substrate in which mold is employed to generate a pattern. The method includes sensing relative alignment between the two coordinate systems at multiple points and determines relative spatial parameters therebetween. The relative spatial parameters include a relative area and a relative shape.
摘要翻译： 本发明的特征在于确定两个坐标系之间的相对空间参数的方法，该坐标系可以是模具和其中模具用于产生图案的基板的区域。 该方法包括在多个点处检测两个坐标系之间的相对对准并且确定它们之间的相对空间参数。 相对空间参数包括相对面积和相对形状。
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公开(公告)号：US20090169662A1
公开(公告)日：2009-07-02
申请号：US12389673
申请日：2009-02-20
IPC分类号： B29C47/92
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F9/00 , G03F9/7042 , G03F9/7088
摘要： An imprint lithography system operable for imprinting a pattern into a material deposited between an imprint mold and a substrate, the system including, inter alia, a first set of imaging units positioned at a first angle relative to normal of the substrate; and a second set of imaging units positioned at a second angle relative to normal of the substrate, wherein the first and second angles are not equal to each other.
摘要翻译： 压印光刻系统，其可操作用于将图案压印到沉积在压印模具和衬底之间的材料中，所述系统尤其包括相对于衬底法线以第一角度定位的第一组成像单元; 以及第二组成像单元，其相对于基板的法线定位成第二角度，其中第一和第二角度彼此不相等。
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公开(公告)号：US20070231421A1
公开(公告)日：2007-10-04
申请号：US11694644
申请日：2007-03-30
IPC分类号： B29C35/08
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F9/00 , G03F9/7042 , G03F9/7088
摘要： A imprint lithography system operable for imprinting a pattern into a material deposited between an imprint mold and a substrate, the system including, inter alia, a first set of imaging units positioned at a first angle relative to normal of the substrate; and a second set of imaging units positioned at a second angle relative to normal of the substrate, wherein the first and second angles are not equal to each other.
摘要翻译： 压印光刻系统，其可操作用于将图案压印到沉积在压印模具和衬底之间的材料中，该系统尤其包括相对于衬底法线定位成第一角度的第一组成像单元; 以及第二组成像单元，其相对于基板的法线定位成第二角度，其中第一和第二角度彼此不相等。
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公开(公告)号：US08432548B2
公开(公告)日：2013-04-30
申请号：US12606274
申请日：2009-10-27
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F9/7046 , G03F9/7084 , G03F9/7088
摘要： Systems and methods for alignment of template and substrate at the edge of substrate are described.
摘要翻译： 描述了在衬底边缘处对准模板和衬底的系统和方法。
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5.发明授权公开(公告)号：US07880872B2
公开(公告)日：2011-02-01
申请号：US12576030
申请日：2009-10-08
申请人： Pawan Kumar Nimmakayala , Tom H. Rafferty , Alireza Aghili , Byung-Jin Choi , Philip D. Schumaker , Daniel A. Babbs , Van Nguyen Truskett
发明人： Pawan Kumar Nimmakayala , Tom H. Rafferty , Alireza Aghili , Byung-Jin Choi , Philip D. Schumaker , Daniel A. Babbs , Van Nguyen Truskett
IPC分类号： G01B11/26
CPC分类号： G01B11/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F9/00 , G03F9/7003 , G03F9/7042 , G03F9/7049
摘要： The present invention features a method to determine relative spatial parameters between two coordinate systems, which may be a mold and a region of a substrate in which mold is employed to generate a pattern. The method includes sensing relative alignment between the two coordinate systems at multiple points and determines relative spatial parameters therebetween. The relative spatial parameters include a relative area and a relative shape.
摘要翻译： 本发明的特征在于确定两个坐标系之间的相对空间参数的方法，该坐标系可以是模具和其中模具用于产生图案的基板的区域。 该方法包括在多个点处检测两个坐标系之间的相对对准并且确定它们之间的相对空间参数。 相对空间参数包括相对面积和相对形状。
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6.发明授权公开(公告)号：US07630067B2
公开(公告)日：2009-12-08
申请号：US11000321
申请日：2004-11-30
申请人： Pawan Kumar Nimmakayala , Tom H. Rafferty , Alireza Aghili , Byung-Jin Choi , Philip D. Schumaker , Daniel A. Babbs , Van N. Truskett
发明人： Pawan Kumar Nimmakayala , Tom H. Rafferty , Alireza Aghili , Byung-Jin Choi , Philip D. Schumaker , Daniel A. Babbs , Van N. Truskett
IPC分类号： G01B11/26
CPC分类号： G01B11/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F9/00 , G03F9/7003 , G03F9/7042 , G03F9/7049
摘要： The present invention features a method to determine relative spatial parameters between two coordinate systems, which may be a mold and a region of a substrate in which mold is employed to generate a pattern. The method includes sensing relative alignment between the two coordinate systems at multiple points and determines relative spatial parameters therebetween. The relative spatial parameters include a relative area and a relative shape.
摘要翻译： 本发明的特征在于确定两个坐标系之间的相对空间参数的方法，该坐标系可以是模具和其中模具用于产生图案的基板的区域。 该方法包括在多个点处检测两个坐标系之间的相对对准并且确定它们之间的相对空间参数。 相对空间参数包括相对面积和相对形状。
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公开(公告)号：US07292326B2
公开(公告)日：2007-11-06
申请号：US11000331
申请日：2004-11-30
申请人： Pawan Kumar Nimmakayala , Tom H. Rafferty , Alireza Aghili , Byung-Jin Choi , Philip D. Schumaker , Daniel A. Babbs
发明人： Pawan Kumar Nimmakayala , Tom H. Rafferty , Alireza Aghili , Byung-Jin Choi , Philip D. Schumaker , Daniel A. Babbs
IPC分类号： G01B11/26
CPC分类号： G03F9/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F9/7003 , G03F9/703 , G03F9/7042 , G03F9/7049 , G03F9/7076
摘要： The present invention features a system to determine relative spatial parameters between two coordinate systems, which may be a mold and a region of a substrate in which mold is employed to generate a pattern. The system senses relative alignment between the two coordinate systems at multiple points and determines relative spatial parameters therebetween. The relative spatial parameters include a relative area and a relative shape.
摘要翻译： 本发明的特征在于确定两个坐标系之间的相对空间参数的系统，其可以是模具和其中模具用于产生图案的基板的区域。 该系统在多个点处感测两个坐标系之间的相对对准，并确定它们之间的相对空间参数。 相对空间参数包括相对面积和相对形状。
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公开(公告)号：US07785096B2
公开(公告)日：2010-08-31
申请号：US12389673
申请日：2009-02-20
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F9/00 , G03F9/7042 , G03F9/7088
摘要： An imprint lithography system operable for imprinting a pattern into a material deposited between an imprint mold and a substrate, the system including, inter alia, a first set of imaging units positioned at a first angle relative to normal of the substrate; and a second set of imaging units positioned at a second angle relative to normal of the substrate, wherein the first and second angles are not equal to each other.
摘要翻译： 压印光刻系统，其可操作用于将图案压印到沉积在压印模具和衬底之间的材料中，所述系统尤其包括相对于衬底法线以第一角度定位的第一组成像单元; 以及第二组成像单元，其相对于基板的法线定位成第二角度，其中第一和第二角度彼此不相等。
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公开(公告)号：US20100110434A1
公开(公告)日：2010-05-06
申请号：US12606274
申请日：2009-10-27
IPC分类号： G01B11/27
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F9/7046 , G03F9/7084 , G03F9/7088
摘要： Systems and methods for alignment of template and substrate at the edge of substrate are described.
摘要翻译： 描述了在衬底边缘处对准模板和衬底的系统和方法。
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10.发明授权公开(公告)号：US08652393B2
公开(公告)日：2014-02-18
申请号：US12604517
申请日：2009-10-23
申请人： Niyaz Khusnatdinov , Frank Y. Xu , Mario Johannes Meissl , Michael N. Miller , Ecron D. Thompson , Gerard M. Schmid , Pawan Kumar Nimmakayala , Xiaoming Lu , Byung-Jin Choi
发明人： Niyaz Khusnatdinov , Frank Y. Xu , Mario Johannes Meissl , Michael N. Miller , Ecron D. Thompson , Gerard M. Schmid , Pawan Kumar Nimmakayala , Xiaoming Lu , Byung-Jin Choi
IPC分类号： B29C45/76
CPC分类号： B29C37/0003 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要： Systems and methods for improving robust layer separation during the separation process of an imprint lithography process are described. Included are methods of matching strains between a substrate to be imprinted and the template, varying or modifying the forces applied to the template and/or the substrate during separation, or varying or modifying the kinetics of the separation process.
摘要翻译： 描述了在压印光刻工艺的分离过程期间改进鲁棒层分离的系统和方法。 包括在待印刷的基底与模板之间匹配应变的方法，改变或改变在分离期间施加到模板和/或基底的力，或改变或改变分离过程的动力学。
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