-
公开(公告)号：US06787286B2
公开(公告)日：2004-09-07
申请号：US10101202
申请日：2002-03-19
IPC分类号： G03F7039
CPC分类号： H05K3/381 , C08J7/02 , C23C18/2006 , C23C18/24 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , H05K3/0055 , Y10S430/113
摘要： New photoresists are provides that are suitable for short wavelength imaging, particularly sub-170 nm such as 157 nm. Resists of the invention comprise a fluorine-containing polymer, a photoactive component, and a solvent component. Preferred solvents for use on the resists of the invention can maintain the resist components in solution and include one or more preferably two or more (i.e. blends) of solvents. In particularly preferred solvent blends of the invention, each blend member evaporates at substantially equal rates, whereby the resist composition maintains a substantially constant concentration of each blend member.
摘要翻译： 提供适用于短波长成像的新型光致抗蚀剂，特别是亚170nm，例如157nm。 本发明的抗菌剂包括含氟聚合物，光敏组分和溶剂组分。 用于本发明抗蚀剂的优选溶剂可以将抗蚀剂组分保持在溶液中，并且包括溶剂的一种或多种（即共混物）。 在本发明的特别优选的溶剂共混物中，每个共混构件以基本上相等的速率蒸发，由此抗蚀剂组合物保持每个共混构件的基本恒定的浓度。
-
2.发明授权Positive photoresist composition with naphthoquinonediazidesulfonate of oligomeric phenol 失效具有低聚苯酚萘醌二叠氮化物的正性光致抗蚀剂组合物
公开(公告)号：US5178986A
公开(公告)日：1993-01-12
申请号：US902458
申请日：1992-06-19
IPC分类号： G03F7/022
CPC分类号： G03F7/022
摘要： A radiation sensitive oligomeric compound is described as the photoactive component with a base soluble phenolic matrix resin to provide improved photo-resist composition having high light-sensitivity, high resolution, excellent developer resistance and excellent resistance to thermal flow.
摘要翻译： 辐射敏感低聚化合物被描述为具有碱溶性酚基树脂的光活性组分，以提供具有高光敏性，高分辨率，优异的显影剂抗性和优异的耐热流动性的改进的光致抗蚀剂组合物。
-
公开(公告)号：US06858379B2
公开(公告)日：2005-02-22
申请号：US10101768
申请日：2002-03-20
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027 , G03C5/00
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , Y10S430/108
摘要： New photoresists are provided that are suitable for short wavelength imaging, including sub-200 nm such as 157 nm. In one aspect, resists of the invention comprise a fluorine-containing polymer, a photoactive component, and one or more additional components of an amine or other basic composition, a dissolution inhibitor compound, a surfactant or leveling agent, or a plasticizer material. In another aspect, resists of the invention contain a fluorine-containing resin and one or more photoacid generator compounds, particularly non-aromatic onium salts and imidosulfonates, and other non-ionic photoacid generator compounds.
摘要翻译： 提供了适用于短波长成像的新型光致抗蚀剂，包括亚200nm，例如157nm。 一方面，本发明的抗蚀剂包含含氟聚合物，光活性组分和胺或其它碱性组合物的一种或多种另外的组分，溶解抑制剂化合物，表面活性剂或流平剂或增塑剂材料。 在另一方面，本发明的抗蚀剂含有含氟树脂和一种或多种光酸产生剂化合物，特别是非芳族鎓盐和亚氨磺酸盐，以及其它非离子光酸产生剂化合物。
-
公开(公告)号：US06907432B1
公开(公告)日：2005-06-14
申请号：US09723746
申请日：2000-11-28
申请人： Charles R. Szmanda , Peter Trefonas, III , Richard C. Hemond , Mark S. Thirsk , Leo L. Linehan , Anthony Zampini
发明人： Charles R. Szmanda , Peter Trefonas, III , Richard C. Hemond , Mark S. Thirsk , Leo L. Linehan , Anthony Zampini
CPC分类号： G06Q10/06 , Y10S707/99945 , Y10S707/99948
摘要： A system and method is provided for recycling raw materials from a plurality waste streams generated by waste stream providers and includes a waste stream monitoring module for monitoring the plurality of waste streams and determining an amount of reusable raw materials contained in each of the plurality of waste streams. Also included is a reusable materials database for storing the amount of each of the raw materials contained in any of the plurality of waste streams. A user operating an access device communications with the reusable materials database for viewing the amount of each of said raw materials.
摘要翻译： 提供了一种用于从废物流提供者产生的多个废物流中回收原材料的系统和方法，并且包括用于监测多个废物流的废物流监测模块，并且确定包含在多个废物中的每一个中的可重复使用的原料的量 流。 还包括用于存储包含在多个废物流中的任何一个中的每个原料的量的可重复使用的材料数据库。 用户操作访问设备与可重用材料数据库的通信，用于查看每个所述原材料的量。
-
公开(公告)号：US07585612B2
公开(公告)日：2009-09-08
申请号：US11481209
申请日：2006-07-05
IPC分类号： G03C1/825
CPC分类号： G03F7/11 , G03F7/0392 , G03F7/091
摘要： Underlying coating compositions are provided for use with an overcoated photoresist composition. In one aspect, the coating composition can be crosslinked and comprise one or more components that contain one or more acid-labile groups and/or one or more base-reactive groups that are reactive following crosslinking. In another aspect, underlying coating composition are provided that can be treated to provide a modulated water contact angle. Preferred coating compositions can enhance lithographic performance of an associated photoresist composition.
摘要翻译： 提供底涂层组合物用于外涂光致抗蚀剂组合物。 在一个方面，涂料组合物可以是交联的并且包含一种或多种含有一个或多个酸不稳定基团的组分和/或一个或多个在交联后是反应性的碱反应性基团。 在另一方面，提供了可以处理以提供调制水接触角的下面的涂料组合物。 优选的涂料组合物可以增强相关光致抗蚀剂组合物的平版印刷性能。
-
公开(公告)号：US07274035B2
公开(公告)日：2007-09-25
申请号：US10927174
申请日：2004-08-25
申请人： Yang Yang , Jianyong Ouyang , Charles R. Szmanda
发明人： Yang Yang , Jianyong Ouyang , Charles R. Szmanda
IPC分类号： H01L31/00
CPC分类号： G11C13/0014 , B82Y10/00 , G11C13/0009 , G11C13/0016 , G11C2213/71 , G11C2213/72 , G11C2213/77
摘要： A composition for the formation of an electric field programmable film, the composition comprising a matrix precursor composition or a dielectric matrix material, wherein the dielectric matrix material comprises an organic polymer and/or a inorganic oxide; and an electron donor and an electron acceptor of a type and in an amount effective to provide electric field programming. The films are of utility in data storage devices.
摘要翻译： 一种用于形成电场可编程膜的组合物，所述组合物包含基质前体组合物或介电基质材料，其中介电基质材料包含有机聚合物和/或无机氧化物; 以及有效提供电场编程的类型和数量的电子给体和电子受体。 这些电影在数据存储设备中具有实用价值。
-
公开(公告)号：US07118847B2
公开(公告)日：2006-10-10
申请号：US10970837
申请日：2004-10-22
CPC分类号： G03F7/0395 , C08F32/08 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0397 , Y10S430/108
摘要： Disclosed are spirocyclic olefin polymers, methods of preparing spirocyclic olefin polymers, photresist compositions including spirocyclic olefin resin binders and methods of forming relief images using such photoresist compositions.
摘要翻译： 公开了螺环烯烃聚合物，制备螺环烯烃聚合物的方法，包括螺环烯烃树脂粘合剂的光热组合物以及使用这种光致抗蚀剂组合物形成浮雕图像的方法。
-
公开(公告)号：US06749983B1
公开(公告)日：2004-06-15
申请号：US09330418
申请日：1999-06-11
申请人： Gary N. Taylor , Charles R. Szmanda
发明人： Gary N. Taylor , Charles R. Szmanda
IPC分类号： G03C173
CPC分类号： C08F220/18 , C08K5/42 , G03F7/0045 , G03F7/039 , Y10S430/111 , Y10S430/115
摘要： The present invention provides novel polymers and chemically-amplified positive-acting photoresist compositions that contain such polymers as a resin binder component. Preferred polymers of the invention include one or more structural groups that are capable of reducing the temperature required for effective deprotection of acid-labile moieties of the polymer.
摘要翻译： 本发明提供了含有树脂粘合剂成分等聚合物的新型聚合物和化学增幅正性光致抗蚀剂组合物。 本发明优选的聚合物包括能够降低聚合物酸不稳定部分有效去保护所需温度的一个或多个结构基团。
-
公开(公告)号：US06599677B2
公开(公告)日：2003-07-29
申请号：US10126904
申请日：2002-04-20
IPC分类号： G03F7004
CPC分类号： G03F7/0395 , C08F32/08 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0397 , Y10S430/108
摘要： Disclosed are spirocyclic olefin ploymers, methods of preparing spirocyclic olefin polymers, photoresist compositions including spirocyclic olefin resin binders and methods of forming relief images using such photoresist compositions.
-
公开(公告)号：US5472616A
公开(公告)日：1995-12-05
申请号：US143489
申请日：1993-10-27
CPC分类号： B01J41/046 , B01J47/006
摘要： The invention is for a process of removing anions from an organic solution, especially one having base labile components. The process comprises modifying an anion exchange resin by treatment with a solution of a source of anions less basic than the hydroxyl anion and contacting said modified ion exchange resin with an organic solution containing anions. The process is especially useful for treating photoresist compositions.
摘要翻译： 本发明涉及从有机溶液中除去阴离子的方法，特别是具有碱不稳定组分的阴离子。 该方法包括通过用比羟基阴离子碱性低的阴离子溶液处理并使所述改性离子交换树脂与含有阴离子的有机溶液接触来改性阴离子交换树脂。 该方法对于处理光致抗蚀剂组合物特别有用。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
39 条记录 (耗时 0.029 秒)
