公开(公告)号：US07499583B2

公开(公告)日：2009-03-03

申请号：US10852996

申请日：2004-05-24

申请人： David Alumot ,  Gad Neumann ,  Rivka Sherman ,  Ehud Tirosh

发明人： David Alumot ,  Gad Neumann ,  Rivka Sherman ,  Ehud Tirosh

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G01N21/9501 ,  G01N21/94 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/8822 ,  G01N2021/8825 ,  G01N2021/8854 ,  G01N2021/8861 ,  G01N2021/8864 ,  G01N2021/8867 ,  G01N2021/887

摘要： A method and apparatus for inspecting the surface of articles, such as chips and wafers, for defects, includes a first phase of optically examining the complete surface of the article inspected at a relatively high speed and with a relatively low spatial resolution, and a second phase of optically examining with a relatively high spatial resolution only the suspected locations for the presence or absence of a defect therein.

摘要翻译： 用于检查用于缺陷的物品（例如碎片和晶片）的表面的方法和装置包括以相对高的速度和相对较低的空间分辨率光学检查被检查物品的整个表面的第一阶段，以及第二阶段 以相对高的空间分辨率进行光学检查的相位只是其中存在或不存在缺陷的可疑位置。

公开(公告)号：US06178257B1

公开(公告)日：2001-01-23

申请号：US09298501

申请日：1999-04-23

申请人： David Alumot ,  Gad Neumann ,  Rivka Sherman ,  Ehud Tirosh

发明人： David Alumot ,  Gad Neumann ,  Rivka Sherman ,  Ehud Tirosh

IPC分类号： G06K900

CPC分类号： G01N21/9501 ,  G01N21/94 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/8822 ,  G01N2021/8825 ,  G01N2021/8854 ,  G01N2021/8861 ,  G01N2021/8864 ,  G01N2021/8867 ,  G01N2021/887

摘要： A method and apparatus for inspecting the surface of articles, such as chips and wafers, for defects, includes a first phase of optically examining the complete surface of the article inspected at a relatively high speed and with a relatively low spatial resolution, and a second phase of optically examining with a relatively high spatial resolution only the suspected locations for the presence or absence of a defect therein.

摘要翻译： 用于检查用于缺陷的物品（例如碎片和晶片）的表面的方法和装置包括以相对高的速度和相对较低的空间分辨率光学检查被检查物品的整个表面的第一阶段，以及第二阶段 以相对高的空间分辨率进行光学检查的相位只是其中存在或不存在缺陷的可疑位置。

公开(公告)号：US07796807B2

公开(公告)日：2010-09-14

申请号：US12354555

申请日：2009-01-15

申请人： David Alumot ,  Gad Neumann ,  Rivka Sherman ,  Ehud Tirosh

发明人： David Alumot ,  Gad Neumann ,  Rivka Sherman ,  Ehud Tirosh

IPC分类号： G06K9/00 ,  G06K9/62

CPC分类号： G01N21/9501 ,  G01N21/94 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/8822 ,  G01N2021/8825 ,  G01N2021/8854 ,  G01N2021/8861 ,  G01N2021/8864 ,  G01N2021/8867 ,  G01N2021/887

摘要： A method and apparatus for inspecting the surface of articles, such as chips and wafers, for defects, includes a first phase of optically examining the complete surface of the article inspected at a relatively high speed and with a relatively low spatial resolution, and a second phase of optically examining with a relatively high spatial resolution only the suspected locations for the presence or absence of a defect therein.

摘要翻译： 用于检查用于缺陷的物品（例如碎片和晶片）的表面的方法和装置包括以相对高的速度和相对较低的空间分辨率光学检查被检查物品的整个表面的第一阶段，以及第二阶段 以相对高的空间分辨率进行光学检查的相位只是其中存在或不存在缺陷的可疑位置。

公开(公告)号：US20090148033A1

公开(公告)日：2009-06-11

申请号：US12354555

申请日：2009-01-15

申请人： David Alumot ,  Gad Neumann ,  Rivka Sherman ,  Ehud Tirosh

发明人： David Alumot ,  Gad Neumann ,  Rivka Sherman ,  Ehud Tirosh

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G01N21/9501 ,  G01N21/94 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/8822 ,  G01N2021/8825 ,  G01N2021/8854 ,  G01N2021/8861 ,  G01N2021/8864 ,  G01N2021/8867 ,  G01N2021/887

摘要： A method and apparatus for inspecting the surface of articles, such as chips and wafers, for defects, includes a first phase of optically examining the complete surface of the article inspected at a relatively high speed and with a relatively low spatial resolution, and a second phase of optically examining with a relatively high spatial resolution only the suspected locations for the presence or absence of a defect therein.

摘要翻译： 用于检查用于缺陷的物品（例如碎片和晶片）的表面的方法和装置包括以相对高的速度和相对较低的空间分辨率光学检查被检查物品的整个表面的第一阶段，以及第二阶段 以相对高的空间分辨率进行光学检查的相位只是其中存在或不存在缺陷的可疑位置。

公开(公告)号：US06952491B2

公开(公告)日：2005-10-04

申请号：US09765995

申请日：2001-01-19

申请人： David Alumot ,  Gad Neumann ,  Rivka Sherman ,  Ehud Tirosh

发明人： David Alumot ,  Gad Neumann ,  Rivka Sherman ,  Ehud Tirosh

IPC分类号： G01N21/94 ,  G01N21/95 ,  G01N21/956 ,  G06K9/00 ,  G01N21/00 ,  H04N7/18

CPC分类号： G01N21/9501 ,  G01N21/94 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/8822 ,  G01N2021/8825 ,  G01N2021/8854 ,  G01N2021/8861 ,  G01N2021/8864 ,  G01N2021/8867 ,  G01N2021/887

摘要： A method and apparatus for inspecting the surface of articles, such as chips and wafers, for defects, includes a first phase of optically examining the complete surface of the article inspected at a relatively high speed and with a relatively low spatial resolution, and a second phase of optically examining with a relatively high spatial resolution only the suspected locations for the presence or absence of a defect therein.

摘要翻译： 用于检查用于缺陷的物品（例如碎片和晶片）的表面的方法和装置包括以相对高的速度和相对较低的空间分辨率光学检查被检查物品的整个表面的第一阶段，以及第二阶段 以相对高的空间分辨率进行光学检查的相位只是其中存在或不存在缺陷的可疑位置。

公开(公告)号：US5982921A

公开(公告)日：1999-11-09

申请号：US984558

申请日：1997-12-03

申请人： David Alumot ,  Gad Neumann ,  Rivka Sherman ,  Ehud Tirosh

发明人： David Alumot ,  Gad Neumann ,  Rivka Sherman ,  Ehud Tirosh

IPC分类号： G01N21/94 ,  G01N21/95 ,  G01N21/956 ,  G06K9/00

CPC分类号： G01N21/9501 ,  G01N21/94 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/8822 ,  G01N2021/8825 ,  G01N2021/8854 ,  G01N2021/8861 ,  G01N2021/8864 ,  G01N2021/8867 ,  G01N2021/887

摘要： A method and apparatus for inspecting the surface of articles, such as chips and wafers, for defects, includes a first phase of optically examining the complete surface of the article inspected at a relatively high speed and with a relatively low spatial resolution, and a second phase of optically examining with a relatively high spatial resolution only the suspected locations for the presence or absence of a defect therein.

摘要翻译： 用于检查用于缺陷的物品（例如碎片和晶片）的表面的方法和装置包括以相对高的速度和相对较低的空间分辨率光学检查被检查物品的整个表面的第一阶段，以及第二阶段 以相对高的空间分辨率进行光学检查的相位只是其中存在或不存在缺陷的可疑位置。

公开(公告)号：US5699447A

公开(公告)日：1997-12-16

申请号：US790871

申请日：1991-11-12

申请人： David Alumot ,  Gad Neumann ,  Rivka Sherman ,  Ehud Tirosh

发明人： David Alumot ,  Gad Neumann ,  Rivka Sherman ,  Ehud Tirosh

IPC分类号： G01N21/94 ,  G01N21/95 ,  G01N21/956 ,  G06K9/00

CPC分类号： G01N21/9501 ,  G01N21/94 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/8822 ,  G01N2021/8825 ,  G01N2021/8854 ,  G01N2021/8861 ,  G01N2021/8864 ,  G01N2021/8867 ,  G01N2021/887

摘要： A method and apparatus for inspecting the surface of articles, such as chips and wafers, for defects, includes a first phase of optically examining the complete surface of the article inspected by scanning its complete surface at a relatively high speed and with an optical beam of relatively small diameter, particularly a laser beam, and a second phase of optically examining with a relatively high spatial resolution only the suspected locations for the presence or absence of a defect therein.

摘要翻译： 用于检查诸如芯片和晶片的物品的表面的缺陷的方法和装置包括第一阶段，通过以相对高的速度扫描其完整表面来光学检查所检查物品的整个表面，并且使用光束 相对较小的直径，特别是激光束，以及以相对高的空间分辨率光学检查的第二阶段，仅仅是其中存在或不存在缺陷的可疑位置。

公开(公告)号：US07355689B2

公开(公告)日：2008-04-08

申请号：US11047435

申请日：2005-01-31

申请人： Gilad Almogy ,  Bryan C. Bolt ,  Oded Arnon ,  Boaz Kenan ,  Ehud Tirosh ,  Michael Corliss

发明人： Gilad Almogy ,  Bryan C. Bolt ,  Oded Arnon ,  Boaz Kenan ,  Ehud Tirosh ,  Michael Corliss

IPC分类号： G01N21/00

CPC分类号： G01N21/8903

摘要： Apparatus and techniques for automated optical inspection (AOI) utilizing image scanning modules with multiple objectives for each camera are provided. A scanning mechanism includes optical components to sequentially steer optical signals from each of the multiple objectives to the corresponding camera.

摘要翻译： 提供了利用每个摄像机具有多个目标的图像扫描模块的自动光学检测（AOI）的装置和技术。 扫描机构包括光学部件，以顺序地将来自多个目标中的每一个的光学信号转向对应的相机。

公开(公告)号：US20060243922A1

公开(公告)日：2006-11-02

申请号：US11458052

申请日：2006-07-17

申请人： Meir Aloni ,  Mula Friedman ,  Jimmy Vishnipolsky ,  Gilad Almogy ,  Alon Litman ,  Yonatan Lehman ,  Doron Meshulach ,  Ehud Tirosh

发明人： Meir Aloni ,  Mula Friedman ,  Jimmy Vishnipolsky ,  Gilad Almogy ,  Alon Litman ,  Yonatan Lehman ,  Doron Meshulach ,  Ehud Tirosh

IPC分类号： G21K5/10

CPC分类号： G03F7/70375 ,  G03F7/70275

摘要： A method for writing a master image on a substrate includes dividing the master image into a matrix of frames, each frame including an array of pixels defining a respective frame image in a respective frame position within the master image. An electron beam is scanned in a raster pattern over the substrate, while shaping the electron beam responsively to the respective frame image of each of the frames as the electron beam is scanned over the respective frame position, so that in each frame, the electron beam simultaneously writes a multiplicity of the pixels onto the substrate.

公开(公告)号：US06268093B1

公开(公告)日：2001-07-31

申请号：US09417518

申请日：1999-10-13

申请人： Boaz Kenan ,  Yair Eran ,  Avner Karpol ,  Emanuel Elyasaf ,  Ehud Tirosh

发明人： Boaz Kenan ,  Yair Eran ,  Avner Karpol ,  Emanuel Elyasaf ,  Ehud Tirosh

IPC分类号： G03F900

CPC分类号： G03F7/701 ,  G03F1/84 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70633

摘要： A reticle inspection system for inspecting reticles can be used as an incoming inspection tool, and as a periodic and pre-exposure inspection tool. Mask shops can use it as an inspection tool compatible to their customers, and as a printable error detection tool. The inventive system detects two kinds of defects: (1) line width errors in the printed image; (2) surface defects. The line width errors are detected on the die area. The detection is performed by acquiring the image of the reticle under the same optical conditions as the exposure conditions, (i.e. wavelength, numerical aperture, sigma, and illumination aperture type) and by comparing multiple dies to find errors in the line width. Surface defects are detected all over the reticle. The detection of surface defects is performed by acquiring transmission and dark-field reflection images of the reticle and using the combined information to detect particles, and other surface defects.

摘要翻译： 可以使用用于检查掩模版的掩模版检查系统作为进入的检查工具，以及作为周期性和预曝光检查工具。 面具店可以将其用作与客户兼容的检测工具，也可以作为可打印的错误检测工具。 本发明系统检测出两种缺陷：（1）打印图像中的线宽错误; （2）表面缺陷。 在模具区域上检测线宽错误。 通过在与曝光条件（即波长，数值孔径，西格玛和照明孔径类型）相同的光学条件下获取掩模版的图像，并且通过比较多个管芯以发现线宽中的误差来执行检测。 在掩模版上遍历表面缺陷。 通过获取掩模版的透射和暗场反射图像并使用组合信息来检测颗粒和其它表面缺陷来执行表面缺陷的检测。