利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

9 条记录 (耗时 0.028 秒)

    System for patterning flexible foils
    1.
    发明授权
    System for patterning flexible foils 有权
    柔性箔图案系统

    公开(公告)号：US08570491B2

    公开(公告)日：2013-10-29

    申请号：US12919966

    申请日：2009-02-27

    申请人： Erwin Rinaldo Meinders ,  Maria Peter ,  Peter Theodorus Maria Giesen ,  Wilhelmus Johannes Maria de Laat

    发明人： Erwin Rinaldo Meinders ,  Maria Peter ,  Peter Theodorus Maria Giesen ,  Wilhelmus Johannes Maria de Laat

    IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/42 ,  G03B27/32 ,  G03F7/20 ,  B23Q3/154

    CPC分类号： G03F7/707 ,  B23Q3/1546 ,  B32B38/1825 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70783

    摘要： According to one aspect, the invention provides a table for compensating deformation in flexible foils (1) The table comprises a supportive base (2) and a deformation compensation system (3). This system comprises a plurality of movable elements (4), supported by the base (2), wherein the movable elements form a surface for supporting the flexible foil. The movable elements comprise clamps (6) for clamping the foil (5). The movable elements (4) are individually movable parallel to the surface for supporting the foil, so as to stretch the clamped foil into a predefined shape. The table for compensating deformation in flexible foils may be used in a manufacturing process of flexible functional foils to compensate deformation of the foils during sequential patterning.

    摘要翻译： 根据一个方面，本发明提供了一种用于补偿柔性箔中的变形的表（1）。该表包括支撑基座（2）和变形补偿系统（3）。 该系统包括由基部（2）支撑的多个可移动元件（4），其中可移动元件形成用于支撑柔性箔片的表面。 可移动元件包括用于夹紧箔片（5）的夹具（6）。 可移动元件（4）能够平行于用于支撑箔片的表面移动，从而将夹持的箔片拉伸成预定形状。 用于补偿柔性箔中的变形的表可以用于柔性功能箔的制造过程中，以在顺序图案化期间补偿箔的变形。

    SYSTEM FOR PATTERNING FLEXIBLE FOILS
    5.
    发明申请
    SYSTEM FOR PATTERNING FLEXIBLE FOILS 有权
    用于绘制柔性纤维的系统

    公开(公告)号：US20110261336A1

    公开(公告)日：2011-10-27

    申请号：US12919966

    申请日：2009-02-27

    申请人： Erwin Rinaldo Meinders ,  Maria Peter ,  Peter Theodorus Maria Giesen ,  Wilhelmus Johannes Maria Da Laat

    发明人： Erwin Rinaldo Meinders ,  Maria Peter ,  Peter Theodorus Maria Giesen ,  Wilhelmus Johannes Maria Da Laat

    IPC分类号： G03B27/42

    CPC分类号： G03F7/707 ,  B23Q3/1546 ,  B32B38/1825 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70783

    摘要： According to one aspect, the invention provides a table for compensating deformation in flexible foils (1) The table comprises a supportive base (2) and a deformation compensation system (3). This system comprises a plurality of movable elements (4), supported by the base (2), wherein the movable elements form a surface for supporting the flexible foil. The movable elements comprise clamps (6) for clamping the foil (5). The movable elements (4) are individually movable parallel to the surface for supporting the foil, so as to stretch the clamped foil into a predefined shape. The table for compensating deformation in flexible foils may be used in a manufacturing process of flexible functional foils to compensate deformation of the foils during sequential patterning.

    摘要翻译： 根据一个方面，本发明提供了一种用于补偿柔性箔中的变形的表（1）。该表包括支撑基座（2）和变形补偿系统（3）。 该系统包括由基部（2）支撑的多个可移动元件（4），其中可移动元件形成用于支撑柔性箔片的表面。 可移动元件包括用于夹紧箔片（5）的夹具（6）。 可移动元件（4）能够平行于用于支撑箔片的表面移动，从而将夹持的箔片拉伸成预定形状。 用于补偿柔性箔中的变形的表可以用于柔性功能箔的制造过程中，以在顺序图案化期间补偿箔的变形。

    Scanned writing of an exposure pattern on a substrate having a spot size modulator and dual motor for moving the substrate table and a laser spot relative to each other
    6.
    发明授权
    Scanned writing of an exposure pattern on a substrate having a spot size modulator and dual motor for moving the substrate table and a laser spot relative to each other 有权
    在具有点尺寸调制器和双电机的基板上扫描曝光图案，用于移动基板台和相对于彼此的激光点

    公开(公告)号：US08319174B2

    公开(公告)日：2012-11-27

    申请号：US12669253

    申请日：2008-07-15

    申请人： Erwin Rinaldo Meinders ,  Peter Theodorus Maria Giesen

    发明人： Erwin Rinaldo Meinders ,  Peter Theodorus Maria Giesen

    IPC分类号： H01J3/14

    CPC分类号： H01J3/14 ,  G03F7/70383 ,  G03F7/70466

    摘要： An exposure pattern is written on a substrate, by scanning a light spot along a trajectory over the substrate and switching it on and off according to a desired pattern. Respective spot sizes of the light for illuminating the substrate in respective parts of the trajectory according to a geometry of the pattern. Respective pitch values between successive ones of the parts of the trajectory are selected, in relation to the spot size selected for the respective parts. The light spot is scanned over the substrate along the trajectory, with the selected pitch values between the trajectory parts and a position dependent spot size along the trajectory. In an embodiment a helical trajectory is used.

    摘要翻译： 通过沿着基板上的轨迹扫描光点并根据期望的图案将其打开和关闭来将曝光图案写入基板。 用于根据图案的几何形状在轨迹的各个部分中照射基底的光的各个斑点尺寸。 相对于为各个部分选择的光斑尺寸，选择轨迹的连续部分之间的相对间距值。 沿着轨迹将光点扫描在基板上，轨迹部分之间的所选间距值和沿着轨迹的位置相关光点尺寸。 在一个实施例中，使用螺旋轨迹。

    SCANNED WRITING OF AN EXPOSURE PATTERN ON A SUBSTRATE
    7.
    发明申请
    SCANNED WRITING OF AN EXPOSURE PATTERN ON A SUBSTRATE 有权
    在基板上扫描曝光图案

    公开(公告)号：US20100195073A1

    公开(公告)日：2010-08-05

    申请号：US12669253

    申请日：2008-07-15

    申请人： Erwin Rinaldo Meinders ,  Peter Theodorus Maria Giesen

    发明人： Erwin Rinaldo Meinders ,  Peter Theodorus Maria Giesen

    IPC分类号： G03B27/54

    CPC分类号： H01J3/14 ,  G03F7/70383 ,  G03F7/70466

    摘要： An exposure pattern is written on a substrate, by scanning a light spot along a trajectory over the substrate and switching it on and off according to a desired pattern. Respective spot sizes of the light for illuminating the substrate in respective parts of the trajectory according to a geometry of the pattern. Respective pitch values between successive ones of the parts of the trajectory are selected, in relation to the spot size selected for the respective parts. The light spot is scanned over the substrate along the trajectory, with the selected pitch values between the trajectory parts and a position dependent spot size along the trajectory. In an embodiment a helical trajectory is used.

    摘要翻译： 通过沿着基板上的轨迹扫描光点并根据期望的图案将其打开和关闭来将曝光图案写入基板。 用于根据图案的几何形状在轨迹的各个部分中照射基底的光的各个斑点尺寸。 相对于为各个部分选择的光斑尺寸，选择轨迹的连续部分之间的相对间距值。 沿着轨迹将光点扫描在基板上，轨迹部分之间的所选间距值和沿着轨迹的位置相关光点尺寸。 在一个实施例中，使用螺旋轨迹。

    Lithographic apparatus and device manufacturing method
    9.
    发明授权
    Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
    平版印刷设备和器件制造方法

    公开(公告)号：US07088431B2

    公开(公告)日：2006-08-08

    申请号：US10736778

    申请日：2003-12-17

    申请人： Joost Jeroen Ottens ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Peter Theodorus Maria Giesen

    发明人： Joost Jeroen Ottens ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Peter Theodorus Maria Giesen

    IPC分类号： G03B27/62 ,  G03B27/58 ,  H02N13/00

    CPC分类号： H01L21/6831 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70875

    摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system for providing a beam of radiation, an article support for supporting a flat article to be placed in a beam path of the beam of radiation on the article support, an electrostatic clamp for clamping the article against the article support by an electrostatic field during projection, and a recessed backfill gas feed arranged in the article support for feeding backfill gas to a backside of the article when supported by the article support. According to one aspect of the invention, the recessed backfill gas feed includes a shielding layer for shielding the backfill gas in the recessed backfill gas feed from the electrostatic field.

    摘要翻译： 光刻设备包括用于提供辐射束的照明系统，用于支撑待放置在物品支架上的辐射束的光束路径中的平坦物品的物品支撑件，用于将物品夹紧在物品支撑件上的静电夹具 通过在投影期间的静电场，以及设置在物品支撑件中的凹进的回填气体进料，用于当由物品支撑件支撑时将回填气体供给到物品的背面。 根据本发明的一个方面，凹入的回填气体进料包括用于屏蔽来自静电场的凹进的回填气体进料中的回填气体的屏蔽层。