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    Capacitive sensing system
    2.
    发明授权
    Capacitive sensing system 有权
    电容式感应系统

    公开(公告)号：US08570055B2

    公开(公告)日：2013-10-29

    申请号：US12977240

    申请日：2010-12-23

    申请人： Guido De Boer ,  Johnny Joannes Jacobus Van Baar ,  Kaustubh Prabodh Padhye ,  Robert Mossel ,  Niels Vergeer ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink

    发明人： Guido De Boer ,  Johnny Joannes Jacobus Van Baar ,  Kaustubh Prabodh Padhye ,  Robert Mossel ,  Niels Vergeer ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink

    IPC分类号： G01R27/26

    CPC分类号： G01B7/023 ,  G01D3/036 ,  G01D5/2417 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7053

    摘要： A capacitive sensing system with a sensor having a thin film structure. The thin film structure includes a first insulating layer and a first conductive film having a sensing electrode formed on a first surface of the first insulating layer and a second conductive film having a back guard electrode. The back guard electrode is formed in a single plane and has a peripheral portion in the same plane, and is disposed on a second surface of the first insulating layer and a first surface of a second insulating layer or protective layer. The peripheral portion of the back guard electrode extends beyond the sensing electrode to form a side guard electrode which substantially or completely surrounds the sensing electrode.

    摘要翻译： 一种具有薄膜结构的传感器的电容式感测系统。 薄膜结构包括第一绝缘层和形成在第一绝缘层的第一表面上的感测电极的第一导电膜和具有后保护电极的第二导电膜。 后保护电极形成在单个平面中并且具有在同一平面中的周边部分，并且设置在第一绝缘层的第二表面和第二绝缘层或保护层的第一表面上。 后保护电极的周边部分延伸超过感测电极以形成基本上或完全围绕感测电极的侧保护电极。

    Capacitive sensing system with differential pairs
    3.
    发明授权
    Capacitive sensing system with differential pairs 有权
    具差分对的电容式传感系统

    公开(公告)号：US08638109B2

    公开(公告)日：2014-01-28

    申请号：US12977288

    申请日：2010-12-23

    申请人： Guido De Boer ,  Johnny Joannes Jacobus Van Baar ,  Kaustubh Prabodh Padhye ,  Robert Mossel ,  Niels Vergeer ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink

    发明人： Guido De Boer ,  Johnny Joannes Jacobus Van Baar ,  Kaustubh Prabodh Padhye ,  Robert Mossel ,  Niels Vergeer ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink

    IPC分类号： G01R27/26

    CPC分类号： G01B7/023 ,  G01D3/036 ,  G01D5/2417 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7053

    摘要： A capacitive sensing system having two or more capacitive sensors, one or more AC power sources for energizing the capacitive sensors, and a signal processing circuit for processing signals from the sensors. The sensors are arranged in pairs, wherein the one or more AC power sources are arranged to energize a first sensor of a pair of the sensors with an alternating current or voltage 180 degrees out of phase to a current or voltage for a second sensor of the pair of sensors, and wherein a pair of the sensors provides a measuring unit for a single measured distance value, the signal processing circuit receiving an output signal from each sensor of the pair and generating a measured value related to the average distance between the sensors of the pair and the target.

    摘要翻译： 具有两个或多个电容传感器的电容感测系统，用于激励电容式传感器的一个或多个AC电源，以及用于处理来自传感器的信号的信号处理电路。 传感器成对布置，其中一个或多个AC电源被布置成用一对传感器的第一传感器以相对于与第二传感器的第二传感器180度异相的交流或电压来激励 一对传感器，并且其中一对传感器为单个测量的距离值提供测量单元，所述信号处理电路接收来自该对的每个传感器的输出信号，并产生与传感器之间的平均距离相关的测量值 对和目标。

    Integrated sensor system
    4.
    发明授权
    Integrated sensor system 有权
    集成传感器系统

    公开(公告)号：US08513959B2

    公开(公告)日：2013-08-20

    申请号：US12977404

    申请日：2010-12-23

    申请人： Guido De Boer ,  Johnny Joannes Jacobus Van Baar ,  Kaustubh Prabodh Padhye ,  Robert Mossel ,  Niels Vergeer ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink

    发明人： Guido De Boer ,  Johnny Joannes Jacobus Van Baar ,  Kaustubh Prabodh Padhye ,  Robert Mossel ,  Niels Vergeer ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink

    IPC分类号： G01R27/26

    CPC分类号： G01B7/023 ,  G01D3/036 ,  G01D5/2417 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7053

    摘要： An integrated sensory system for a lithography machine with a projection lens system (132) for focusing one or more exposure beams onto a target, a moveable table (134) for carrying the target (9), a capacitive sensing system (300) for making a measurement related to a distance between a final focusing element of the projection lens system (104) and a surface of a target (9), and a control unit (400) for controlling movement of the moveable table (134) to adjust a position of the target (9) based at least in part on a signal from the capacitive sensing system. The capacitive sensing system (300) has a plurality of capacitive sensors (30), each having a thin film structure. The capacitive sensors and the final focusing element (104) of the projection lens system are mounted directly to a common base (112), and the sensors are located in close proximity to an edge of the final focusing element of the projection lens system.

    摘要翻译： 一种用于光刻机的综合感觉系统，具有用于将一个或多个曝光光束聚焦到目标上的投影透镜系统（132），用于承载目标（9）的可移动台（134），用于制造的电容感测系统（300） 与投影透镜系统（104）的最终聚焦元件与目标（9）的表面之间的距离相关的测量以及用于控制可移动台（134）的移动以调节位置的控制单元（400） 至少部分地基于来自电容感测系统的信号来实现目标（9）。 电容感测系统（300）具有多个电容传感器（30），每个具有薄​​膜结构。 投影透镜系统的电容传感器和最终聚焦元件（104）直接安装在公共基座（112）上，并且传感器位于投影透镜系统的最终聚焦元件的边缘附近。

    CAPACITIVE SENSING SYSTEM
    5.
    发明申请
    CAPACITIVE SENSING SYSTEM 有权
    电容式感应系统

    公开(公告)号：US20110193574A1

    公开(公告)日：2011-08-11

    申请号：US12977240

    申请日：2010-12-23

    申请人： Guido DE BOER ,  Johnny Joannes Jacobus Van Baar ,  Kaustubh Prabodh Padhye ,  Robert Mossel ,  Niels Vergeer ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink

    发明人： Guido DE BOER ,  Johnny Joannes Jacobus Van Baar ,  Kaustubh Prabodh Padhye ,  Robert Mossel ,  Niels Vergeer ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink

    IPC分类号： G01R27/26

    CPC分类号： G01B7/023 ,  G01D3/036 ,  G01D5/2417 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7053

    摘要： A capacitive sensing system, comprising a sensor having thin film structure, the thin film structure comprising a sensor having a first insulating layer and a first conductive film comprising a sensing electrode formed on a first surface of the first insulating layer and a second conductive film comprising a back guard electrode. The back guard electrode is formed in a single plane and comprises a peripheral portion in the same plane, and is disposed on a second surface of the first insulating layer and a first surface of a second insulating layer or protective layer. The peripheral portion of the back guard electrode extends beyond the sensing electrode to form a side guard electrode which substantially or completely surrounds the sensing electrode.

    摘要翻译： 一种电容感测系统，包括具有薄膜结构的传感器，所述薄膜结构包括具有第一绝缘层的传感器和包括形成在所述第一绝缘层的第一表面上的感测电极的第一导电膜，以及第二导电膜， 后护板电极。 后保护电极形成在单个平面中并且包括在相同平面中的周边部分，并且设置在第一绝缘层的第二表面和第二绝缘层或保护层的第一表面上。 后保护电极的周边部分延伸超过感测电极以形成基本上或完全围绕感测电极的侧保护电极。

    CAPACITIVE SENSING SYSTEM WITH DIFFERENTIAL PAIRS
    6.
    发明申请
    CAPACITIVE SENSING SYSTEM WITH DIFFERENTIAL PAIRS 有权
    具有差异对的电容式感应系统

    公开(公告)号：US20110254565A1

    公开(公告)日：2011-10-20

    申请号：US12977288

    申请日：2010-12-23

    申请人： Guido De Boer ,  Johnny Johannes Jacobus Van Baar ,  Kaustubh Prabodh Padhye ,  Robert Mossel ,  Niels Vergeer ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink

    发明人： Guido De Boer ,  Johnny Johannes Jacobus Van Baar ,  Kaustubh Prabodh Padhye ,  Robert Mossel ,  Niels Vergeer ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink

    IPC分类号： G01R27/26 ,  G01R35/00

    CPC分类号： G01B7/023 ,  G01D3/036 ,  G01D5/2417 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7053

    摘要： A capacitive sensing system comprising two or more capacitive sensors, one or more AC power sources for energizing the capacitive sensors, and a signal processing circuit for processing signals from the sensors. The sensors are arranged in pairs, wherein the one or more AC power sources are arranged to energize a first sensor of a pair of the sensors with an alternating current or voltage 180 degrees out of phase to a current or voltage for a second sensor of the pair of sensors, and wherein a pair of the sensors provides a measuring unit for a single measured distance value, the signal processing circuit receiving an output signal from each sensor of the pair and generating a measured value related to the average distance between the sensors of the pair and the target.

    摘要翻译： 一种电容感测系统，包括两个或更多个电容传感器，用于激励电容传感器的一个或多个AC电源，以及用于处理来自传感器的信号的信号处理电路。 传感器成对布置，其中一个或多个AC电源被布置成用一对传感器的第一传感器以相对于与第二传感器的第二传感器180度异相的交流或电压来激励 一对传感器，并且其中一对传感器为单个测量的距离值提供测量单元，所述信号处理电路接收来自该对的每个传感器的输出信号，并产生与传感器之间的平均距离相关的测量值 对和目标。

    Lithography system for processing at least a part of a target
    7.
    发明授权
    Lithography system for processing at least a part of a target 有权
    用于处理目标的至少一部分的光刻系统

    公开(公告)号：US09383662B2

    公开(公告)日：2016-07-05

    申请号：US13470234

    申请日：2012-05-11

    申请人： Niels Vergeer ,  Guido de Boer ,  Godefridus Cornelius Antonius Couweleers ,  Laurens Plandsoen ,  Cor Verburg

    发明人： Niels Vergeer ,  Guido de Boer ,  Godefridus Cornelius Antonius Couweleers ,  Laurens Plandsoen ,  Cor Verburg

    IPC分类号： G03B27/68 ,  G03F9/00

    CPC分类号： G03F9/7088 ,  G03F9/7096

    摘要： The invention relates to a lithography system for processing a target, wherein the lithography system comprises a final projection system arranged for projecting a pattern on the target surface. The lithography system comprises a mark position detection system arranged for detecting a position of a position mark on the target surface. The mark position detection system comprises an optical element arranged for projecting a light beam on the target surface and a light detector arranged for detecting a reflected light beam. The optical element may be positioned adjacent to the final projection system and the light detector may be positioned inside a frame.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于处理目标的光刻系统，其中光刻系统包括布置成将图案投射在目标表面上的最终投影系统。 光刻系统包括布置用于检测目标表面上的位置标记的位置的标记位置检测系统。 标记位置检测系统包括布置成将光束投射在目标表面上的光学元件和布置成检测反射光束的光检测器。 光学元件可以定位成与最终投影系统相邻，并且光检测器可以位于框架内。

    Interferometer module
    8.
    发明授权
    Interferometer module 有权
    干涉仪模块

    公开(公告)号：US09069265B2

    公开(公告)日：2015-06-30

    申请号：US13436738

    申请日：2012-03-30

    申请人： Guido de Boer ,  Thomas Adrian Ooms ,  Niels Vergeer ,  Godefridus Cornelius Antonius Couweleers

    发明人： Guido de Boer ,  Thomas Adrian Ooms ,  Niels Vergeer ,  Godefridus Cornelius Antonius Couweleers

    IPC分类号： G01B9/02 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70775 ,  G01B9/02007 ,  G01B9/02015 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/7085 ,  H01J2237/30438

    摘要： The invention relates to a differential interferometer module adapted for measuring a direction of displacement between a reference mirror and a measurement mirror. In an embodiment the differential interferometer module is adapted for emitting three reference beams towards a first mirror and three measurement beams towards a second mirror for determining a displacement between said first and second mirror. In a preferred embodiment the same module is adapted for measuring a relative rotation around two perpendicular axes as well. The present invention further relates to a lithography system comprising such a interferometer module and a method for measuring such a displacement and rotations.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于测量参考反射镜和测量镜之间的位移方向的差分干涉仪模块。 在一个实施例中，差分干涉仪模块适于朝向第一反射镜发射三个参考光束，并且三个测量光束朝向第二反射镜发射以确定所述第一和第二反射镜之间的位移。 在优选实施例中，相同的模块也用于测量围绕两个垂直轴的相对旋转。 本发明还涉及包括这种干涉仪模块的光刻系统和用于测量这种位移和旋转的方法。