利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

23 条记录 (耗时 0.037 秒)

    Capacitive sensing system
    1.
    发明授权
    Capacitive sensing system 有权
    电容式感应系统

    公开(公告)号：US08570055B2

    公开(公告)日：2013-10-29

    申请号：US12977240

    申请日：2010-12-23

    申请人： Guido De Boer ,  Johnny Joannes Jacobus Van Baar ,  Kaustubh Prabodh Padhye ,  Robert Mossel ,  Niels Vergeer ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink

    发明人： Guido De Boer ,  Johnny Joannes Jacobus Van Baar ,  Kaustubh Prabodh Padhye ,  Robert Mossel ,  Niels Vergeer ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink

    IPC分类号： G01R27/26

    CPC分类号： G01B7/023 ,  G01D3/036 ,  G01D5/2417 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7053

    摘要： A capacitive sensing system with a sensor having a thin film structure. The thin film structure includes a first insulating layer and a first conductive film having a sensing electrode formed on a first surface of the first insulating layer and a second conductive film having a back guard electrode. The back guard electrode is formed in a single plane and has a peripheral portion in the same plane, and is disposed on a second surface of the first insulating layer and a first surface of a second insulating layer or protective layer. The peripheral portion of the back guard electrode extends beyond the sensing electrode to form a side guard electrode which substantially or completely surrounds the sensing electrode.

    摘要翻译： 一种具有薄膜结构的传感器的电容式感测系统。 薄膜结构包括第一绝缘层和形成在第一绝缘层的第一表面上的感测电极的第一导电膜和具有后保护电极的第二导电膜。 后保护电极形成在单个平面中并且具有在同一平面中的周边部分，并且设置在第一绝缘层的第二表面和第二绝缘层或保护层的第一表面上。 后保护电极的周边部分延伸超过感测电极以形成基本上或完全围绕感测电极的侧保护电极。

    Capacitive sensing system with differential pairs
    2.
    发明授权
    Capacitive sensing system with differential pairs 有权
    具差分对的电容式传感系统

    公开(公告)号：US08638109B2

    公开(公告)日：2014-01-28

    申请号：US12977288

    申请日：2010-12-23

    申请人： Guido De Boer ,  Johnny Joannes Jacobus Van Baar ,  Kaustubh Prabodh Padhye ,  Robert Mossel ,  Niels Vergeer ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink

    发明人： Guido De Boer ,  Johnny Joannes Jacobus Van Baar ,  Kaustubh Prabodh Padhye ,  Robert Mossel ,  Niels Vergeer ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink

    IPC分类号： G01R27/26

    CPC分类号： G01B7/023 ,  G01D3/036 ,  G01D5/2417 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7053

    摘要： A capacitive sensing system having two or more capacitive sensors, one or more AC power sources for energizing the capacitive sensors, and a signal processing circuit for processing signals from the sensors. The sensors are arranged in pairs, wherein the one or more AC power sources are arranged to energize a first sensor of a pair of the sensors with an alternating current or voltage 180 degrees out of phase to a current or voltage for a second sensor of the pair of sensors, and wherein a pair of the sensors provides a measuring unit for a single measured distance value, the signal processing circuit receiving an output signal from each sensor of the pair and generating a measured value related to the average distance between the sensors of the pair and the target.

    摘要翻译： 具有两个或多个电容传感器的电容感测系统，用于激励电容式传感器的一个或多个AC电源，以及用于处理来自传感器的信号的信号处理电路。 传感器成对布置，其中一个或多个AC电源被布置成用一对传感器的第一传感器以相对于与第二传感器的第二传感器180度异相的交流或电压来激励 一对传感器，并且其中一对传感器为单个测量的距离值提供测量单元，所述信号处理电路接收来自该对的每个传感器的输出信号，并产生与传感器之间的平均距离相关的测量值 对和目标。

    Integrated sensor system
    3.
    发明授权
    Integrated sensor system 有权
    集成传感器系统

    公开(公告)号：US08513959B2

    公开(公告)日：2013-08-20

    申请号：US12977404

    申请日：2010-12-23

    申请人： Guido De Boer ,  Johnny Joannes Jacobus Van Baar ,  Kaustubh Prabodh Padhye ,  Robert Mossel ,  Niels Vergeer ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink

    发明人： Guido De Boer ,  Johnny Joannes Jacobus Van Baar ,  Kaustubh Prabodh Padhye ,  Robert Mossel ,  Niels Vergeer ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink

    IPC分类号： G01R27/26

    CPC分类号： G01B7/023 ,  G01D3/036 ,  G01D5/2417 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7053

    摘要： An integrated sensory system for a lithography machine with a projection lens system (132) for focusing one or more exposure beams onto a target, a moveable table (134) for carrying the target (9), a capacitive sensing system (300) for making a measurement related to a distance between a final focusing element of the projection lens system (104) and a surface of a target (9), and a control unit (400) for controlling movement of the moveable table (134) to adjust a position of the target (9) based at least in part on a signal from the capacitive sensing system. The capacitive sensing system (300) has a plurality of capacitive sensors (30), each having a thin film structure. The capacitive sensors and the final focusing element (104) of the projection lens system are mounted directly to a common base (112), and the sensors are located in close proximity to an edge of the final focusing element of the projection lens system.

    摘要翻译： 一种用于光刻机的综合感觉系统，具有用于将一个或多个曝光光束聚焦到目标上的投影透镜系统（132），用于承载目标（9）的可移动台（134），用于制造的电容感测系统（300） 与投影透镜系统（104）的最终聚焦元件与目标（9）的表面之间的距离相关的测量以及用于控制可移动台（134）的移动以调节位置的控制单元（400） 至少部分地基于来自电容感测系统的信号来实现目标（9）。 电容感测系统（300）具有多个电容传感器（30），每个具有薄​​膜结构。 投影透镜系统的电容传感器和最终聚焦元件（104）直接安装在公共基座（112）上，并且传感器位于投影透镜系统的最终聚焦元件的边缘附近。

    CAPACITIVE SENSING SYSTEM WITH DIFFERENTIAL PAIRS
    4.
    发明申请
    CAPACITIVE SENSING SYSTEM WITH DIFFERENTIAL PAIRS 有权
    具有差异对的电容式感应系统

    公开(公告)号：US20110254565A1

    公开(公告)日：2011-10-20

    申请号：US12977288

    申请日：2010-12-23

    申请人： Guido De Boer ,  Johnny Johannes Jacobus Van Baar ,  Kaustubh Prabodh Padhye ,  Robert Mossel ,  Niels Vergeer ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink

    发明人： Guido De Boer ,  Johnny Johannes Jacobus Van Baar ,  Kaustubh Prabodh Padhye ,  Robert Mossel ,  Niels Vergeer ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink

    IPC分类号： G01R27/26 ,  G01R35/00

    CPC分类号： G01B7/023 ,  G01D3/036 ,  G01D5/2417 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7053

    摘要： A capacitive sensing system comprising two or more capacitive sensors, one or more AC power sources for energizing the capacitive sensors, and a signal processing circuit for processing signals from the sensors. The sensors are arranged in pairs, wherein the one or more AC power sources are arranged to energize a first sensor of a pair of the sensors with an alternating current or voltage 180 degrees out of phase to a current or voltage for a second sensor of the pair of sensors, and wherein a pair of the sensors provides a measuring unit for a single measured distance value, the signal processing circuit receiving an output signal from each sensor of the pair and generating a measured value related to the average distance between the sensors of the pair and the target.

    摘要翻译： 一种电容感测系统，包括两个或更多个电容传感器，用于激励电容传感器的一个或多个AC电源，以及用于处理来自传感器的信号的信号处理电路。 传感器成对布置，其中一个或多个AC电源被布置成用一对传感器的第一传感器以相对于与第二传感器的第二传感器180度异相的交流或电压来激励 一对传感器，并且其中一对传感器为单个测量的距离值提供测量单元，所述信号处理电路接收来自该对的每个传感器的输出信号，并产生与传感器之间的平均距离相关的测量值 对和目标。

    Position determination in a lithography system using a substrate having a partially reflective position mark
    7.
    发明授权
    Position determination in a lithography system using a substrate having a partially reflective position mark 有权
    使用具有部分反射位置标记的基板的光刻系统中的位置确定

    公开(公告)号：US09395635B2

    公开(公告)日：2016-07-19

    申请号：US13453986

    申请日：2012-04-23

    申请人： Guido De Boer ,  Niels Vergeer

    发明人： Guido De Boer ,  Niels Vergeer

    IPC分类号： G03F9/00

    CPC分类号： G03F9/7088 ,  G03F9/7076

    摘要： The invention relates to a substrate for use in a lithography system, said substrate being provided with an at least partially reflective position mark comprising an array of structures, the array extending along a longitudinal direction of the mark, characterized in that said structures are arranged for varying a reflection coefficient of the mark along the longitudinal direction, wherein said reflection coefficient is determined for a predetermined wavelength. In an embodiment a specular reflection coefficient varies along the substrate, wherein high order diffractions are substantially absorbed by the substrate. A position of a beam on a substrate can thus be determined based on the intensity of its reflection in the substrate. The invention further relates to a positioning device and lithography system for cooperation with the substrate, and a method of manufacture of the substrate.

    摘要翻译： 本发明涉及一种在光刻系统中使用的基片，所述基片设置有至少部分反射的位置标记，该标记包括沿该标记的纵向方向延伸的结构阵列，其特征在于，所述结构被设置为 沿着纵向方向改变标记的反射系数，其中所述反射系数被确定为预定波长。 在一个实施例中，镜面反射系数沿衬底变化，其中高阶衍射基本上被衬底吸收。 因此，可以基于其在基板中的反射强度来确定光束在基板上的位置。 本发明还涉及一种用于与该基板配合的定位装置和光刻系统，以及该基板的制造方法。