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    HOUSING AND METHOD FOR MANUFACTURING HOUSING
    1.
    发明申请
    HOUSING AND METHOD FOR MANUFACTURING HOUSING 审中-公开
    住房和制造住房的方法

    公开(公告)号：US20120062081A1

    公开(公告)日：2012-03-15

    申请号：US12981720

    申请日：2010-12-30

    申请人： HSIN-PEI CHANG ,  WEN-RONG CHEN ,  HUANN-WU CHIANG ,  CHENG-SHI CHEN ,  MAN-XI ZHANG

    发明人： HSIN-PEI CHANG ,  WEN-RONG CHEN ,  HUANN-WU CHIANG ,  CHENG-SHI CHEN ,  MAN-XI ZHANG

    IPC分类号： H05K5/00 ,  C23C14/02 ,  C23C14/14 ,  C23C14/35

    CPC分类号： C23C14/14 ,  C23C14/505 ,  C23C14/5833 ,  C23C14/5853

    摘要： A housing includes a substrate; an aluminum layer deposited on the substrate; and an ion implantation layer formed on the aluminum layer, the ion implantation layer comprising aluminum(II) oxide solid solution phase and aluminum oxide solid solution phase. The disclosure further includes a method for manufacturing the housing. The method includes the following steps: providing a substrate made of aluminum alloy; depositing an aluminum layer on the substrate, the aluminum layer is deposited on the substrate with an aluminum target by magnetron sputtering process; and forming an ion implantation layer on the aluminum layer, the ion implantation layer is formed on the aluminum layer by implanting ions of oxygen into the aluminum layer, and the ion implantation layer comprising aluminum(II) oxide solid solution phase and aluminum oxide solid solution phase.

    摘要翻译： 壳体包括基板; 沉积在基底上的铝层; 以及形成在所述铝层上的离子注入层，所述离子注入层包括氧化铝固体相和氧化铝固溶相。 本发明还包括一种用于制造壳体的方法。 该方法包括以下步骤：提供由铝合金制成的基片; 在基板上沉积铝层，铝层通过磁控溅射工艺用铝靶沉积在基板上; 在铝层上形成离子注入层，通过将氧离子注入到铝层中，在铝层上形成离子注入层，离子注入层包含氧化铝（II）固溶体相和氧化铝固溶体 相。

    DEVICE HOUSING AND METHOD FOR MAKING SAME
    8.
    发明申请
    DEVICE HOUSING AND METHOD FOR MAKING SAME 审中-公开
    设备外壳及其制造方法

    公开(公告)号：US20120241353A1

    公开(公告)日：2012-09-27

    申请号：US13271387

    申请日：2011-10-12

    申请人： HSIN-PEI CHANG ,  WEN-RONG CHEN ,  HUANN-WU CHIANG ,  CHENG-SHI CHEN ,  XIAO-QIANG CHEN

    发明人： HSIN-PEI CHANG ,  WEN-RONG CHEN ,  HUANN-WU CHIANG ,  CHENG-SHI CHEN ,  XIAO-QIANG CHEN

    IPC分类号： B65D79/00 ,  C23C14/35

    CPC分类号： C23C14/0084 ,  C23C14/081 ,  C23C14/165 ,  C23C14/48 ,  C23C14/5833 ,  C23C28/322 ,  C23C28/345 ,  C23C28/36

    摘要： A device housing having an aluminum or aluminum alloy substrate, an aluminum layer and a corrosion resistant layer formed on the aluminum or aluminum alloy substrate in that order is provided. The corrosion resistant layer is an Al—O gradient layer implanted with iridium ions by ion implantation process. The atomic percentage of O in the Al—O gradient layer gradually increases from the area near the aluminum layer to the area away from aluminum or aluminum alloy substrate. Therefore the device housing has a high corrosion resistance. A method for making the device housing is also provided.

    摘要翻译： 提供了具有铝或铝合金基板的装置壳体，铝层和在该铝或铝合金基板上依次形成的耐腐蚀层。 耐腐蚀层是通过离子注入工艺注入铱离子的Al-O梯度层。 Al-O梯度层中O的原子百分比从铝层附近的区域逐渐增加到远离铝或铝合金基底的区域。 因此，器件外壳具有高耐腐蚀性。 还提供了一种用于制造器件外壳的方法。