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    Resist composition and method of forming resist pattern
    2.
    发明授权
    Resist composition and method of forming resist pattern 有权
    抗蚀剂图案的抗蚀剂组成和方法

    公开(公告)号：US07960091B2

    公开(公告)日：2011-06-14

    申请号：US12356011

    申请日：2009-01-19

    申请人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Takahiro Dazai

    发明人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Takahiro Dazai

    IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26 ,  G03F7/40

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

    摘要： A resist composition comprising a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid, an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, and a nitrogen-containing organic compound (D), the nitrogen-containing organic compound (D) including a nitrogen-containing polymeric compound (D1) having a structural unit (d0) containing a nitrogen atom in the side chain thereof.

    摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其含有在酸作用下在碱显影液中溶解度变化的碱成分（A），曝光时产生酸的酸发生剂成分（B）和含氮有机化合物（D）， 含有有机化合物（D），其含有在其侧链中含有氮原子的结构单元（d0）的含氮高分子化合物（D1）。

    RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
    6.
    发明申请
    RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN 有权
    耐蚀组合物和形成耐力图案的方法

    公开(公告)号：US20090197197A1

    公开(公告)日：2009-08-06

    申请号：US12356011

    申请日：2009-01-19

    申请人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Takahiro Dazai

    发明人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Takahiro Dazai

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

    摘要： A resist composition comprising a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid, an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, and a nitrogen-containing organic compound (D), the nitrogen-containing organic compound (D) including a nitrogen-containing polymeric compound (D1) having a structural unit (d0) containing a nitrogen atom in the side chain thereof.

    摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其含有在酸作用下在碱显影液中溶解度变化的碱成分（A），曝光时产生酸的酸发生剂成分（B）和含氮有机化合物（D）， 含有有机化合物（D），其含有在其侧链中含有氮原子的结构单元（d0）的含氮高分子化合物（D1）。

    Positive resist composition, method of forming resist pattern, and polymeric compound
    8.
    发明授权
    Positive resist composition, method of forming resist pattern, and polymeric compound 有权
    正型抗蚀剂组合物，形成抗蚀剂图案的方法和聚合物

    公开(公告)号：US08088553B2

    公开(公告)日：2012-01-03

    申请号：US12425706

    申请日：2009-04-17

    申请人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Takayoshi Mori ,  Sanae Furuya ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Takahiro Dazai

    发明人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Takayoshi Mori ,  Sanae Furuya ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Takahiro Dazai

    IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  C08F220/28

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111

    摘要： A positive resist composition including a base component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the base component (A) including a polymeric compound (A1) having a structural unit (a0-1) represented by general formula (a0-1) (wherein R1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; R8 represents a divalent linking group; and R7 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group) and a structural unit (a0-2) represented by general formula (a0-2) (wherein R3 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; R4 represents a branched alkyl group of 3 or more carbon atoms; and each of R5 and R6 independently represents an alkyl group, wherein R5 and R6 are mutually bonded to form a ring).

    摘要翻译： 一种正性抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱性显影液中显示出增加的溶解度的碱成分（A）和暴露时产生酸的酸产生剂组分（B），所述碱成分（A）包含高分子化合物 A1）具有由通式（a0-1）表示的结构单元（a0-1）（其中R1表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; R8表示二价连接基团，R7表示 酸解离，溶解抑制基）和由通式（a0-2）表示的结构单元（a0-2）（其中R3表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; R4表示支链烷基 3个以上的碳原子，R5和R6各自独立地表示烷基，其中R5和R6相互键合形成环）。

    POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND
    10.
    发明申请
    POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND 有权
    正极性组合物，形成耐火模式的方法和聚合物

    公开(公告)号：US20090269694A1

    公开(公告)日：2009-10-29

    申请号：US12425706

    申请日：2009-04-17

    申请人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Takayoshi Mori ,  Sanae Furuya ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Takahiro Dazai

    发明人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Takayoshi Mori ,  Sanae Furuya ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Takahiro Dazai

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  C08F222/10 ,  C08F224/00

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111

    摘要： A positive resist composition including a base component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the base component (A) including a polymeric compound (A1) having a structural unit (a0-1) represented by general formula (a0-1) (wherein R1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; R8 represents a divalent linking group; and R7 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group) and a structural unit (a0-2) represented by general formula (a0-2) (wherein R3 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; R4 represents a branched alkyl group of 3 or more carbon atoms; and each of R5 and R6 independently represents an alkyl group, wherein R5 and R6 are mutually bonded to form a ring).

    摘要翻译： 一种正性抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱性显影液中显示出增加的溶解度的碱成分（A）和暴露时产生酸的酸产生剂组分（B），所述碱成分（A）包含高分子化合物 A1）具有由通式（a0-1）表示的结构单元（a0-1）（其中R1表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; R8表示二价连接基团，R7表示 酸解离，溶解抑制基）和由通式（a0-2）表示的结构单元（a0-2）（其中R3表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; R4表示支链烷基 3个以上的碳原子，R5和R6各自独立地表示烷基，其中R5和R6相互键合形成环）。