公开(公告)号：US20120199970A1

公开(公告)日：2012-08-09

申请号：US13361088

申请日：2012-01-30

申请人： Ki-Young Yun ,  Yeong-Lyeol PARK ,  Ki-Soon BAE ,  Woon-Seob LEE ,  Sung-Dong CHO ,  Sin-Woo KANG ,  Sang-Wook JI ,  Eun-Ji KIM

发明人： Ki-Young Yun ,  Yeong-Lyeol PARK ,  Ki-Soon BAE ,  Woon-Seob LEE ,  Sung-Dong CHO ,  Sin-Woo KANG ,  Sang-Wook JI ,  Eun-Ji KIM

IPC分类号： H01L23/498 ,  H01L21/768

CPC分类号： H01L23/5226 ,  H01L21/76816 ,  H01L21/76898 ,  H01L23/481 ,  H01L2224/13025 ,  H01L2224/16146

摘要： A semiconductor device includes a substrate having a via region and a circuit region, an insulation interlayer formed on a top surface of the substrate, a through electrode having a first surface and a second surface, wherein the through electrode penetrates the via region of the substrate and the second surface is substantially coplanar with a bottom surface of the substrate, a first upper wiring formed on a portion of the first surface of the through electrode, a plurality of via contacts formed on a portion of a top surface of the first upper wiring, and a second upper wiring formed on the plurality of via contacts.

摘要翻译： 半导体器件包括具有通孔区域和电路区域的衬底，形成在衬底顶表面上的绝缘夹层，具有第一表面和第二表面的通孔，其中贯穿电极穿透衬底的通孔区域 并且所述第二表面与所述基板的底面基本共面;形成在所述贯通电极的第一表面的一部分上的第一上布线，形成在所述第一上布线的顶表面的一部分上的多个通孔接头 以及形成在所述多个通孔接触件上的第二上部布线。

公开(公告)号：US20150137388A1

公开(公告)日：2015-05-21

申请号：US14549518

申请日：2014-11-20

申请人： Eun-Ji KIM ,  Sung-Dong CHO ,  Sin-Woo KANG ,  Myung-Soo JANG ,  Yeong-Lyeol PARK ,  Seung-Teak LEE

发明人： Eun-Ji KIM ,  Sung-Dong CHO ,  Sin-Woo KANG ,  Myung-Soo JANG ,  Yeong-Lyeol PARK ,  Seung-Teak LEE

IPC分类号： H01L23/522 ,  H01L23/528

CPC分类号： H01L23/562 ,  H01L21/76816 ,  H01L21/76898 ,  H01L23/481 ,  H01L23/5283 ,  H01L23/53223 ,  H01L23/53238 ,  H01L23/5329 ,  H01L2224/13

摘要： A semiconductor device includes a first low-k dielectric layer structure including at least one first low-k dielectric layer sequentially stacked on a substrate, a via structure extending through at least a portion of the substrate and the first low-k dielectric layer structure, and a first blocking layer pattern structure spaced apart from the via structure in the first low-k dielectric layer structure. The first blocking layer pattern structure surrounds a sidewall of the first blocking layer structure.

摘要翻译： 半导体器件包括：第一低k电介质层结构，包括依次层叠在衬底上的至少一个第一低k电介质层，延伸穿过衬底的至少一部分的通孔结构和第一低k电介质层结构， 以及在第一低k电介质层结构中与通孔结构间隔开的第一阻挡层图案结构。 第一阻挡层图案结构围绕第一阻挡层结构的侧壁。

公开(公告)号：US20130052760A1

公开(公告)日：2013-02-28

申请号：US13545385

申请日：2012-07-10

申请人： Sung-Dong CHO ,  Yeong-Lyeol PARK ,  Min-Seung YOON

发明人： Sung-Dong CHO ,  Yeong-Lyeol PARK ,  Min-Seung YOON

IPC分类号： H01L21/66

CPC分类号： H01L22/14 ,  G01R31/2853 ,  G01R31/2884 ,  G01R31/31717 ,  G01R31/318513 ,  H01L22/32 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/97 ,  H01L2924/15192 ,  H01L2924/15311 ,  H01L2224/81

摘要： In an exemplary method of inspecting a stack chip package, a first chip is prepared. The first chip includes a through-silicon via, first pad electrodes connected to the through-silicon via and probe pad electrodes connected to the through-silicon via. A testing chip is prepared. The testing chip includes second pad electrodes that are arranged to correspond with the first pad electrodes. The testing chip is temporarily adhered to the first chip such that the second pad electrodes are electrically connected to the first pad electrode respectively, to form a stack structure wherein the probe pad electrodes are exposed to for testing. An electrical signal is applied to the exposed probe pad electrodes to test the through-silicon via included in the first chip.

摘要翻译： 在检查堆叠芯片封装的示例性方法中，准备第一芯片。 第一芯片包括穿硅通孔，连接到穿硅通孔的第一焊盘电极和连接到穿硅通孔的探针焊盘电极。 准备了一个测试芯片。 测试芯片包括被布置为与第一焊盘电极对应的第二焊盘电极。 将测试芯片临时粘附到第一芯片，使得第二焊盘电极分别电连接到第一焊盘电极，以形成其中探针焊盘电极暴露以进行测试的堆叠结构。 将电信号施加到暴露的探针焊盘电极，以测试包括在第一芯片中的穿硅通孔。