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    Micromachine and method of producing the same
    1.
    发明申请
    Micromachine and method of producing the same 失效
    微机械及其制造方法

    公开(公告)号：US20060049895A1

    公开(公告)日：2006-03-09

    申请号：US10537132

    申请日：2003-11-25

    申请人： Masahiro Tada ,  Takashi Kinoshita ,  Shun Mitarai ,  Yasuyuki Ito

    发明人： Masahiro Tada ,  Takashi Kinoshita ,  Shun Mitarai ,  Yasuyuki Ito

    IPC分类号： H03H9/00

    CPC分类号： H03H3/0072 ,  H03H9/2405 ,  H03H2009/02511

    摘要： Disclosed is a micromachine as a high-frequency filter which includes a high Q value and is suitable for higher frequency bands. The micromachine (1) includes an output electrode (7) formed on a substrate (5), an interlayer insulating film (9) which covers the substrate (5) and includes an opening (9a) whose bottom is the output electrode (7), and a beltlike resonator electrode (11) so formed on the interlayer insulating film (9) as to traverse above the space (A) in the opening (9a), with the resonator electrode (11) being concave toward the opening (9a) along the side wall of the opening (9a).

    摘要翻译： 公开了作为高频滤波器的微机械，其包括高Q值并且适用于较高频带。 微机械（1）包括形成在基板（5）上的输出电极（7），覆盖基板（5）的层间绝缘膜（9），其中底部是输出电极（7） ）和形成在层间绝缘膜（9）上的带状谐振器电极（11），以横越开口（9a）中的空间（A）上方，谐振器电极（11）朝向开口凹入 9a）沿着开口（9a）的侧壁。

    Micromachine and method of producing the same
    2.
    发明授权
    Micromachine and method of producing the same 失效
    微机械及其制造方法

    公开(公告)号：US07212081B2

    公开(公告)日：2007-05-01

    申请号：US10537132

    申请日：2003-11-25

    申请人： Masahiro Tada ,  Takashi Kinoshita ,  Shun Mitarai ,  Yasuyuki Ito

    发明人： Masahiro Tada ,  Takashi Kinoshita ,  Shun Mitarai ,  Yasuyuki Ito

    IPC分类号： H03H9/24 ,  B81B3/00 ,  B81C1/00

    CPC分类号： H03H3/0072 ,  H03H9/2405 ,  H03H2009/02511

    摘要： Disclosed is a micromachine as a high-frequency filter which includes a high Q value and is suitable for higher frequency bands. The micromachine (1) includes an output electrode (7) formed on a substrate (5), an interlayer insulating film (9) which covers the substrate (5) and includes an opening (9a) whose bottom is the output electrode (7), and a beltlike resonator electrode (11) so formed on the interlayer insulating film (9) as to traverse above the space (A) in the opening (9a), with the resonator electrode (11) being concave toward the opening (9a) along the side wall of the opening (9a).

    摘要翻译： 公开了作为高频滤波器的微机械，其包括高Q值并且适用于较高频带。 微机械（1）包括形成在基板（5）上的输出电极（7），覆盖基板（5）的层间绝缘膜（9），其中底部是输出电极（7） ）和形成在层间绝缘膜（9）上的带状谐振器电极（11），以横越开口（9a）中的空间（A）上方，谐振器电极（11）朝向开口凹入 9a）沿着开口（9a）的侧壁。

    Process for fabricating micromachine
    3.
    发明授权
    Process for fabricating micromachine 有权
    微机械制造工艺

    公开(公告)号：US08268660B2

    公开(公告)日：2012-09-18

    申请号：US10551271

    申请日：2004-04-02

    申请人： Masahiro Tada ,  Takashi Kinoshita ,  Masahiro Tanaka ,  Masanari Yamaguchi ,  Shun Mitarai ,  Koji Naniwada

    发明人： Masahiro Tada ,  Takashi Kinoshita ,  Masahiro Tanaka ,  Masanari Yamaguchi ,  Shun Mitarai ,  Koji Naniwada

    IPC分类号： H01L21/00

    CPC分类号： H03H3/0072 ,  B81B7/0012

    摘要： A method for manufacturing a micromachine is provided which can remove a sacrifice layer and can perform sealing without using a specific packaging technique. In a method for manufacturing a micromachine (1) including an oscillator (4), a step of forming a sacrifice layer around a movable portion of the oscillator (4); a step of covering a sacrifice layer with an overcoat film (8), followed by the formation of a penetrating hole (10) reaching the sacrifice layer in the overcoat layer (8); a step of performing sacrifice-layer etching for removing the sacrifice layer using the penetrating hole (10) in order to form a space around the movable portion; and a step of performing a film-formation treatment at a reduced pressure following the sacrifice-layer etching so as to seal the penetrating hole (10).

    摘要翻译： 提供了一种制造微机械的方法，其可以去除牺牲层并且可以在不使用特定包装技术的情况下进行密封。 在制造包括振荡器（4）的显微机械（1）的方法中，在振荡器（4）的可移动部分周围形成牺牲层的步骤; 用覆盖膜（8）覆盖牺牲层的步骤，然后形成到达覆盖层（8）中的牺牲层的穿透孔（10）; 使用所述贯通孔（10）进行牺牲层蚀刻去除所述牺牲层以在所述可动部分周围形成空间的步骤; 以及在牺牲层蚀刻之后在减压下进行成膜处理以密封穿透孔（10）的步骤。

    Process for fabricating micromachine
    4.
    发明申请
    Process for fabricating micromachine 有权
    微机械制造工艺

    公开(公告)号：US20060216847A1

    公开(公告)日：2006-09-28

    申请号：US10551271

    申请日：2004-04-02

    申请人： Masahiro Tada ,  Takashi Kinoshita ,  Masahiro Tanaka ,  Masanari Yamaguchi ,  Shun Mitarai ,  Koji Naniwada

    发明人： Masahiro Tada ,  Takashi Kinoshita ,  Masahiro Tanaka ,  Masanari Yamaguchi ,  Shun Mitarai ,  Koji Naniwada

    IPC分类号： H01L21/00

    CPC分类号： H03H3/0072 ,  B81B7/0012

    摘要： A method for manufacturing a micromachine is provided which can remove a sacrifice layer and can perform sealing without using a specific packaging technique. In a method for manufacturing a micromachine (1) including an oscillator (4), a step of forming a sacrifice layer around a movable portion of the oscillator (4); a step of covering a sacrifice layer with an overcoat film (8), followed by the formation of a penetrating hole (10) reaching the sacrifice layer in the overcoat layer (8); a step of performing sacrifice-layer etching for removing the sacrifice layer using the penetrating hole (10) in order to form a space around the movable portion; and a step of performing a film-formation treatment at a reduced pressure following the sacrifice-layer etching so as to seal the penetrating hole (10).

    摘要翻译： 提供了一种制造微机械的方法，其可以去除牺牲层并且可以在不使用特定包装技术的情况下进行密封。 在制造包括振荡器（4）的显微机械（1）的方法中，在振荡器（4）的可移动部分周围形成牺牲层的步骤; 用覆盖膜（8）覆盖牺牲层的步骤，然后形成到达覆盖层（8）中的牺牲层的穿透孔（10）; 使用所述贯通孔（10）进行牺牲层蚀刻去除所述牺牲层以在所述可动部分周围形成空间的步骤; 以及在牺牲层蚀刻之后在减压下进行成膜处理以密封穿透孔（10）的步骤。

    Functional device, semiconductor device, and electronic device
    8.
    发明授权
    Functional device, semiconductor device, and electronic device 有权
    功能器件，半导体器件和电子器件

    公开(公告)号：US07701021B2

    公开(公告)日：2010-04-20

    申请号：US11849584

    申请日：2007-09-04

    申请人： Shun Mitarai ,  Masahiro Tada

    发明人： Shun Mitarai ,  Masahiro Tada

    IPC分类号： H01L23/28

    CPC分类号： B81B7/0038 ,  B81B2201/0271 ,  B81C2203/0145

    摘要： A functional device in which the functional portion is not influenced by events in film forming, and thereby the reliability of the device can be improved is provided. The functional device includes a substrate, one or a plurality of functional portions formed on a surface of the substrate, a sealing layer that forms a space around the functional portion, and has one or a plurality of apertures sealed with a filling material, and one or a plurality of walls formed between the functional portion and the aperture without separating the space.

    摘要翻译： 功能部件不受膜成型中的事件的影响，能够提高装置的可靠性。 所述功能元件包括基板，形成在所述基板的表面上的一个或多个功能部，形成在所述功能部周围的空间的密封层，并且具有用填充材料密封的一个或多个孔，以及一个 或形成在功能部分和孔之间的多个壁而不分离空间。

    Filter device and transmitter-receiver utilizing beam-structured micro-resonators
    9.
    发明授权
    Filter device and transmitter-receiver utilizing beam-structured micro-resonators 有权
    滤波器装置和采用光束结构的微谐振器的发射器 - 接收器

    公开(公告)号：US07498901B2

    公开(公告)日：2009-03-03

    申请号：US11568324

    申请日：2005-03-25

    申请人： Koji Naniwada ,  Shun Mitarai ,  Masahiro Tanaka ,  Masahiro Tada

    发明人： Koji Naniwada ,  Shun Mitarai ,  Masahiro Tanaka ,  Masahiro Tada

    IPC分类号： H03H9/70 ,  H03H9/46

    CPC分类号： H03H9/525 ,  H03H9/2463

    摘要： A filter device configured with a plurality of micro-resonators and having a wide specific bandwidth. The filter device is configured as having a plurality of beam-structured, micro-resonators (15), (16), (17), (18) electrically connected in a lattice-forming manner between two input terminals (11), (12) for balanced input and two output terminals (13), (14) for balanced output, each of the plurality of micro-resonators (15), (16), (17), (18) being composed of a resonator group including a plurality of resonators differed in resonance frequency.

    摘要翻译： 一种配置有多个微谐振器并且具有宽的特定带宽的滤波器装置。 滤波器装置被配置为在两个输入端（11），（12）之间以格子形式电连接的多个束结构的微谐振器（15），（16），（17），（18） ）和用于平衡输出的两个输出端子（13），（14），所述多个微谐振器（15），（16），（17），（18）中的每一个由包括 多个谐振器的谐振频率不同。