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    Process for producing metal oxide flakes
    3.
    发明申请
    Process for producing metal oxide flakes 失效
    生产金属氧化物薄片的方法

    公开(公告)号：US20070243337A1

    公开(公告)日：2007-10-18

    申请号：US11732405

    申请日：2007-04-03

    申请人： Rong Xiong ,  Patrice Bujard

    发明人： Rong Xiong ,  Patrice Bujard

    IPC分类号： B05D1/36 ,  C08J7/18

    CPC分类号： C09C1/0018 ,  B82Y30/00 ,  C01B13/32 ,  C01B33/12 ,  C01F7/36 ,  C01G3/02 ,  C01G9/02 ,  C01G17/02 ,  C01G19/02 ,  C01G23/047 ,  C01G23/053 ,  C01G25/02 ,  C01G31/02 ,  C01G37/033 ,  C01G51/04 ,  C01P2004/20 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/64 ,  C09C3/063 ,  C09C2200/301 ,  C09C2220/10 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1225 ,  C23C18/14

    摘要： The present invention relates to a process for the preparation of a plane-parallel structure (a platelet-shaped body, or flake), comprising at least one dielectric layer consisting of oxides of one or more metal selected from groups 3 to 15 of the periodic table, which method comprises: (a) optionally applying a layer of release material on a substrate, (b) applying a composition comprising one or more precursors of one or more desired metal oxides to said release layer, or directly to a substrate with no layer of release material, (c) subjecting the one or more precursors of one or more desired metal oxides to microwave radiation to form a metal oxide layer on the substrate or on the layer of release material; and (d) separating the resulting metal oxide layer from the substrate as plane-parallel structures.

    摘要翻译： 本发明涉及一种制备平面平行结构（片状体或薄片）的方法，其包括至少一个介电层，该电介质层由选自周期表中第3至15组的一种或多种金属的氧化物组成 该方法包括：（a）任选地在基材上施加一层剥离材料，（b）将包含一种或多种所需金属氧化物的一种或多种前体的组合物施加到所述剥离层上，或直接施加到基材上， 释放材料层，（c）使一种或多种所需金属氧化物的一种或多种前体经受微波辐射，以在基材或剥离材料层上形成金属氧化物层; 和（d）将所得到的金属氧化物层与基板分离为平面 - 平行结构。

    Process of using microwave deposition of metal oxide onto an organic substrate
    4.
    发明授权
    Process of using microwave deposition of metal oxide onto an organic substrate 失效
    使用金属氧化物微波沉积到有机基底上的方法

    公开(公告)号：US07976744B2

    公开(公告)日：2011-07-12

    申请号：US11792746

    申请日：2005-12-05

    申请人： Patrice Bujard ,  Rong Xiong

    发明人： Patrice Bujard ,  Rong Xiong

    IPC分类号： B29B9/00 ,  B05D7/00

    CPC分类号： C09C1/0018 ,  C01P2004/20 ,  C01P2004/54 ,  C01P2004/61 ,  C09C1/0024 ,  C09C1/0051 ,  C09C2200/1004 ,  C09C2220/106 ,  Y10T156/1158 ,  Y10T156/19

    摘要： The present invention is directed to a process for the preparation of a plane-parallel structure (a platelet-shaped body, or flake), comprising at least one dielectric layer consisting of one or more oxides of a metal selected from groups 3 to 15 of the periodic table, which comprises the steps of: (a) applying a thin film of the dielectric material on a flexible belt, by passing the belt through an aqueous solution of a fluorine scavenger and one or more fluorine containing metal complexes which are the precursors of the desired metal oxide coating; and subjecting said solution to microwave radiation to deposit the metal oxide onto said flexible belt, wherein step (a) can optionally be repeated using different fluorine containing metal complexes to produce one or more metal oxide layers or a gradient of concentration of 2 different metal oxides across the thickness; (b) separating the resulting layer from the flexible belt as plane-parallel structures.

    摘要翻译： 本发明涉及一种制备平面平行结构（片状体或薄片）的方法，该方法包括至少一个由一种或多种金属氧化物构成的电介质层，所述金属氧化物选自 周期表，其包括以下步骤：（a）通过使带穿过氟清除剂的水溶液和作为前体的一种或多种含氟金属络合物，将电介质材料的薄膜施加在柔性带上 的所需金属氧化物涂层; 并将所述溶液经微波辐射将金属氧化物沉积到所述柔性带上，其中步骤（a）可任选地使用不同的含氟金属络合物重复以产生一种或多种金属氧化物层或浓度为2种不同金属氧化物的梯度 横跨厚度; （b）将所得层与柔性带分离成平面 - 平行结构。

    Process of Using Microwave Deposition of Metal Oxide Onto an Organic Substrate
    6.
    发明申请
    Process of Using Microwave Deposition of Metal Oxide Onto an Organic Substrate 失效
    将金属氧化物微波沉积到有机基板上的过程

    公开(公告)号：US20080185099A1

    公开(公告)日：2008-08-07

    申请号：US11792746

    申请日：2005-12-05

    申请人： Patrice Bujard ,  Rong Xiong

    发明人： Patrice Bujard ,  Rong Xiong

    IPC分类号： B32B38/10

    CPC分类号： C09C1/0018 ,  C01P2004/20 ,  C01P2004/54 ,  C01P2004/61 ,  C09C1/0024 ,  C09C1/0051 ,  C09C2200/1004 ,  C09C2220/106 ,  Y10T156/1158 ,  Y10T156/19

    摘要： The present invention is directed to a process for the preparation of a plane-parallel structure (a platelet-shaped body, or flake), comprising at least one dielectric layer consisting of one or more oxides of a metal selected from groups 3 to 15 of the periodic table, which comprises the steps of: (a) applying a thin film of the dielectric material on a flexible belt, by passing the belt through an aqueous solution of a fluorine scavenger and one or more fluorine containing metal complexes which are the precursors of the desired metal oxide coating; and subjecting said solution to microwave radiation to deposit the metal oxide onto said flexible belt, wherein step (a) can optionally be repeated using different fluorine containing metal complexes to produce one or more metal oxide layers or a gradient of concentration of 2 different metal oxides across the thickness; (b) separating the resulting layer from the flexible belt as plane-parallel structures.

    摘要翻译： 本发明涉及一种制备平面平行结构（片状体或薄片）的方法，该方法包括至少一个由一种或多种金属氧化物构成的电介质层，所述金属氧化物选自 周期表，其包括以下步骤：（a）通过使带穿过氟清除剂的水溶液和作为前体的一种或多种含氟金属络合物，将电介质材料的薄膜施加在柔性带上 的所需金属氧化物涂层; 并将所述溶液经微波辐射将金属氧化物沉积到所述柔性带上，其中步骤（a）可任选地使用不同的含氟金属络合物重复以产生一种或多种金属氧化物层或浓度为2种不同金属氧化物的梯度 横跨厚度; （b）将所得层与柔性带分离成平面 - 平行结构。