公开(公告)号：US07989138B2

公开(公告)日：2011-08-02

申请号：US12323212

申请日：2008-11-25

申请人： Sanae Furuya ,  Takahiro Dazai ,  Takayoshi Mori ,  Ryoichi Takasu ,  Tomoyuki Hirano

发明人： Sanae Furuya ,  Takahiro Dazai ,  Takayoshi Mori ,  Ryoichi Takasu ,  Tomoyuki Hirano

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/10 ,  C08F220/30 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/146

摘要： A fluorine-containing compound represented by a general formula (c-1) shown below: [Chemical Formula 1] RX-AN-(OR2)a  (c-1) [wherein, RX represents an organic group, AN represents a naphthalene ring that may have a substituent, R2 represents a base dissociable group, and a represents 1 or 2, provided that at least one among AN and said a R2 groups contains a fluorine atom].

摘要翻译： 由下列通式（c-1）表示的含氟化合物：[化学式1] RX-AN-（OR2）a（c-1）[其中，RX表示有机基团，AN表示萘环 其可以具有取代基，R2表示碱可解离基团，并且a表示1或2，条件是AN和所述R2基团中的至少一个含有氟原子]。

公开(公告)号：US07914967B2

公开(公告)日：2011-03-29

申请号：US12184566

申请日：2008-08-01

申请人： Sanae Furuya ,  Takayoshi Mori ,  Takahiro Dazai ,  Ryoichi Takasu ,  Tomoyuki Hirano

发明人： Sanae Furuya ,  Takayoshi Mori ,  Takahiro Dazai ,  Ryoichi Takasu ,  Tomoyuki Hirano

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： C07C69/63 ,  C08F8/14 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F112/14 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F2220/302 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/146 ,  C08F12/24

摘要： A resist composition for immersion exposure including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid, an acid-generator component (B) which generates acid upon irradiation, and a fluorine-containing compound (C) having a group represented by general formula (c) shown below and containing at least one fluorine atom: wherein Q represents a group in which one hydrogen atom has been removed from a monovalent hydrophilic group; and R1 represents a hydrocarbon group of 2 or more carbon atoms which may have a fluorine atom.

摘要翻译： 一种用于浸渍曝光的抗蚀剂组合物，包括在酸作用下在碱性显影液中显示出改变的溶解性的基础组分（A），在照射时产生酸的酸产生剂组分（B）和含氟化合物（C） 具有下述通式（c）所示的基团，并且含有至少一个氟原子：其中Q表示从单价亲水基团除去一个氢原子的基团; 并且R 1表示可以具有氟原子的2个以上碳原子的烃基。

公开(公告)号：US20090142699A1

公开(公告)日：2009-06-04

申请号：US12323212

申请日：2008-11-25

申请人： Sanae Furuya ,  Takahiro Dazai ,  Takayoshi Mori ,  Ryoichi Takasu ,  Tomoyuki Hirano

发明人： Sanae Furuya ,  Takahiro Dazai ,  Takayoshi Mori ,  Ryoichi Takasu ,  Tomoyuki Hirano

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F220/22 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/10 ,  C08F220/30 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/146

摘要： A fluorine-containing compound represented by a general formula (c-1) shown below: RX-AN-(OR2)a   [Chemical Formula 1] (c-1) [wherein, RX represents an organic group, AN represents a naphthalene ring that may have a substituent, R2 represents a base dissociable group, and a represents 1 or 2, provided that at least one among AN and said a R2 groups contains a fluorine atom].

摘要翻译： 由下列通式（c-1）表示的含氟化合物：<？in-line-formula description =“In-line formula”end =“lead”？> RX-AN-（OR2）a [化学 公式1] <？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“tail”？> <？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“lead”？>（c- [式中，RX表示有机基团，AN表示可具有取代基的萘环，R 2表示碱离解性基团， 并且a表示1或2，条件是AN和所述R2基团中的至少一个含有氟原子]。

公开(公告)号：US20090047602A1

公开(公告)日：2009-02-19

申请号：US12184566

申请日：2008-08-01

申请人： Sanae Furuya ,  Takayoshi Mori ,  Takahiro Dazai ,  Ryoichi Takasu ,  Tomoyuki Hirano

发明人： Sanae Furuya ,  Takayoshi Mori ,  Takahiro Dazai ,  Ryoichi Takasu ,  Tomoyuki Hirano

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C07C49/00

CPC分类号： C07C69/63 ,  C08F8/14 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F112/14 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F2220/302 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/146 ,  C08F12/24

摘要： A resist composition for immersion exposure including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid, an acid-generator component (B) which generates acid upon irradiation, and a fluorine-containing compound (C) having a group represented by general formula (c) shown below and containing at least one fluorine atom: wherein Q represents a group in which one hydrogen atom has been removed from a monovalent hydrophilic group; and R1 represents a hydrocarbon group of 2 or more carbon atoms which may have a fluorine atom.

摘要翻译： 一种用于浸渍曝光的抗蚀剂组合物，包括在酸作用下在碱性显影液中显示出改变的溶解性的基础组分（A），在照射时产生酸的酸产生剂组分（B）和含氟化合物（C） 具有下述通式（c）所示的基团，并且含有至少一个氟原子：其中Q表示从单价亲水基团除去一个氢原子的基团; 并且R 1表示可以具有氟原子的2个以上碳原子的烃基。

公开(公告)号：US20090197204A1

公开(公告)日：2009-08-06

申请号：US12360415

申请日：2009-01-27

申请人： Daiju Shiono ,  Takahiro Dazai ,  Sanae Furuya ,  Tomoyuki Hirano ,  Takayoshi Mori

发明人： Daiju Shiono ,  Takahiro Dazai ,  Sanae Furuya ,  Tomoyuki Hirano ,  Takayoshi Mori

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/027 ,  C07C69/593 ,  C08F14/18 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C07C69/653 ,  C07C69/67 ,  C07C69/712 ,  C07C69/757 ,  C07C2603/00 ,  C07C2603/84 ,  C07C2603/86 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/32 ,  C08F220/22 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  C08F220/28 ,  C09D125/14 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  C08F212/14 ,  C08F2220/1833 ,  C08F212/32 ,  C08F2220/185 ,  C08F2220/283 ,  C08F220/06

摘要： A resist composition for immersion exposure, including a base component (A) that exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid, an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, and a fluorine-containing compound (C) represented by a general formula (c-1) shown below that is decomposable in an alkali developing solution: wherein R1 represents an organic group which may contain a polymerizable group, with the proviso that said polymerizable group has a carbon-carbon multiple bond, and the carbon atoms forming the multiple bond are not directly bonded to the carbon atom within the —C(═O)— group in general formula (c-1); and R2 represents an organic group having a fluorine atom.

摘要翻译： 一种用于浸渍曝光的抗蚀剂组合物，包括在酸作用下在碱性显影液中显示出改变的溶解性的基础组分（A），暴露时产生酸的酸产生剂组分（B）和含氟化合物（C） 由下述通式（c-1）表示，其可在碱性显影液中分解：其中R1表示可含有可聚合基团的有机基团，条件是所述可聚合基团具有碳 - 碳多重键，以及 形成多重键的碳原子不直接键合在通式（c-1）中的-C（-O） - 基团中的碳原子上; R2表示具有氟原子的有机基团。

公开(公告)号：US08642244B2

公开(公告)日：2014-02-04

申请号：US13310625

申请日：2011-12-02

申请人： Daiju Shiono ,  Takahiro Dazai ,  Sanae Furuya ,  Tomoyuki Hirano ,  Takayoshi Mori

发明人： Daiju Shiono ,  Takahiro Dazai ,  Sanae Furuya ,  Tomoyuki Hirano ,  Takayoshi Mori

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/033 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C07C69/653 ,  C07C69/67 ,  C07C69/712 ,  C07C69/757 ,  C07C2603/00 ,  C07C2603/84 ,  C07C2603/86 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/32 ,  C08F220/22 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  C08F220/28 ,  C09D125/14 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  C08F212/14 ,  C08F2220/1833 ,  C08F212/32 ,  C08F2220/185 ,  C08F2220/283 ,  C08F220/06

摘要： A resist composition for immersion exposure, including a base component that exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid, an acid generator component that generates acid upon exposure, and a fluorine-containing compound represented by a general formula (c-1) that is decomposable in an alkali developing solution: wherein R1 represents an organic group which may contain a polymerizable group, with the proviso that said polymerizable group has a carbon-carbon multiple bond, and the carbon atoms forming the multiple bond are not directly bonded to the carbon atom within the —C(═O)— group in general formula (c-1); and R2 represents an organic group having a fluorine atom.

摘要翻译： 一种用于浸渍曝光的抗蚀剂组合物，包括在酸作用下在碱性显影液中表现出改变的溶解度的基础组分，暴露时产生酸的酸产生剂组分和由通式（c-1）表示的含氟化合物 ），其可以在碱性显影液中分解：其中R1表示可以含有可聚合基团的有机基团，条件是所述可聚合基团具有碳 - 碳多重键，并且形成多重键的碳原子不直接键合 通式（c-1）中的-C（= O） - 基团中的碳原子; R2表示具有氟原子的有机基团。

公开(公告)号：US08501387B2

公开(公告)日：2013-08-06

申请号：US13310625

申请日：2011-12-02

申请人： Daiju Shiono ,  Takahiro Dazai ,  Sanae Furuya ,  Tomoyuki Hirano ,  Takayoshi Mori

发明人： Daiju Shiono ,  Takahiro Dazai ,  Sanae Furuya ,  Tomoyuki Hirano ,  Takayoshi Mori

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/033 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26

摘要： A resist composition for immersion exposure, including a base component that exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid, an acid generator component that generates acid upon exposure, and a fluorine-containing compound represented by a general formula (c-1) that is decomposable in an alkali developing solution: wherein R1 represents an organic group which may contain a polymerizable group, with the proviso that said polymerizable group has a carbon-carbon multiple bond, and the carbon atoms forming the multiple bond are not directly bonded to the carbon atom within the —C(═O)— group in general formula (c-1); and R2 represents an organic group having a fluorine atom.

公开(公告)号：US20090186300A1

公开(公告)日：2009-07-23

申请号：US12348780

申请日：2009-01-05

申请人： Sanae Furuya ,  Takahiro Dazai ,  Takayoshi Mori ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano

发明人： Sanae Furuya ,  Takahiro Dazai ,  Takayoshi Mori ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano

IPC分类号： G03C1/053 ,  G03F7/26 ,  C08F220/22

CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： A resist composition for immersion exposure including a base component (A) that exhibits changed solubility in an alkali developing solution under the action of acid, an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, and a fluorine-containing copolymer (C) containing a structural unit (c1) represented by general formula (c1-1) shown below. In the formula, R1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group, Q1 represents a single bond or a divalent linking group, A represents an aromatic cyclic group that may have a substituent, Q2 represents a group in which one hydrogen atom has been removed from a monovalent hydrophilic group, R2 represents a base dissociable group, and a represents 1 or 2, provided that at least one among A and the a R2 groups contains a fluorine atom.

摘要翻译： 一种用于浸渍曝光的抗蚀剂组合物，包括在酸性作用下在碱性显影液中显示出改变的溶解性的基础组分（A），暴露时产生酸的酸产生剂组分（B）和含氟共聚物（C） 含有下述通式（c1-1）表示的结构单元（c1）。 在该式中，R1表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基，Q1表示单键或二价连接基团，A表示可具有取代基的芳香族环状基团，Q2表示其中 一个氢原子从单价亲水基团除去，R2表示碱可解离基团，a表示1或2，条件是A和A 2中的至少一个含有氟原子。

公开(公告)号：US08742038B2

公开(公告)日：2014-06-03

申请号：US12360415

申请日：2009-01-27

申请人： Daiju Shiono ,  Takahiro Dazai ,  Sanae Furuya ,  Tomoyuki Hirano ,  Takayoshi Mori

发明人： Daiju Shiono ,  Takahiro Dazai ,  Sanae Furuya ,  Tomoyuki Hirano ,  Takayoshi Mori

IPC分类号： C08G61/04 ,  C07C69/52

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C07C69/653 ,  C07C69/67 ,  C07C69/712 ,  C07C69/757 ,  C07C2603/00 ,  C07C2603/84 ,  C07C2603/86 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/32 ,  C08F220/22 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  C08F220/28 ,  C09D125/14 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  C08F212/14 ,  C08F2220/1833 ,  C08F212/32 ,  C08F2220/185 ,  C08F2220/283 ,  C08F220/06

摘要： A resist composition for immersion exposure, including a base component (A) that exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid, an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, and a fluorine-containing compound (C) represented by a general formula (c-1) shown below that is decomposable in an alkali developing solution: wherein R1 represents an organic group which may contain a polymerizable group, with the proviso that said polymerizable group has a carbon-carbon multiple bond, and the carbon atoms forming the multiple bond are not directly bonded to the carbon atom within the —C(═O)— group in general formula (c-1); and R2 represents an organic group having a fluorine atom.

摘要翻译： 一种用于浸渍曝光的抗蚀剂组合物，包括在酸作用下在碱性显影液中显示出改变的溶解性的基础组分（A），暴露时产生酸的酸产生剂组分（B）和含氟化合物（C） 由下述通式（c-1）表示，其可在碱性显影液中分解：其中R1表示可含有可聚合基团的有机基团，条件是所述可聚合基团具有碳 - 碳多重键，以及 形成多重键的碳原子不直接键合在通式（c-1）中的-C（= O） - 基团中的碳原子上; R2表示具有氟原子的有机基团。

公开(公告)号：US20120077125A1

公开(公告)日：2012-03-29

申请号：US13310625

申请日：2011-12-02

申请人： Daiju Shiono ,  Takahiro Dazai ,  Sanae Furuya ,  Tomoyuki Hirano ,  Takayoshi Mori

发明人： Daiju Shiono ,  Takahiro Dazai ,  Sanae Furuya ,  Tomoyuki Hirano ,  Takayoshi Mori

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C07C69/653 ,  C07C69/67 ,  C07C69/712 ,  C07C69/757 ,  C07C2603/00 ,  C07C2603/84 ,  C07C2603/86 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/32 ,  C08F220/22 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  C08F220/28 ,  C09D125/14 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  C08F212/14 ,  C08F2220/1833 ,  C08F212/32 ,  C08F2220/185 ,  C08F2220/283 ,  C08F220/06

摘要： A resist composition for immersion exposure, including a base component that exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid, an acid generator component that generates acid upon exposure, and a fluorine-containing compound represented by a general formula (c-1) that is decomposable in an alkali developing solution: wherein R1 represents an organic group which may contain a polymerizable group, with the proviso that said polymerizable group has a carbon-carbon multiple bond, and the carbon atoms forming the multiple bond are not directly bonded to the carbon atom within the —C(═O)— group in general formula (c-1); and R2 represents an organic group having a fluorine atom.

摘要翻译： 一种用于浸渍曝光的抗蚀剂组合物，包括在酸作用下在碱性显影液中表现出改变的溶解度的基础组分，暴露时产生酸的酸产生剂组分和由通式（c-1）表示的含氟化合物 ），其可以在碱性显影液中分解：其中R1表示可以含有可聚合基团的有机基团，条件是所述可聚合基团具有碳 - 碳多重键，并且形成多重键的碳原子不直接键合 通式（c-1）中的-C（= O） - 基团中的碳原子; R2表示具有氟原子的有机基团。