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    LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
    1.
    发明申请
    LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
    LITHOGRAPHIC装置和装置制造方法

    公开(公告)号：US20090279064A1

    公开(公告)日：2009-11-12

    申请号：US12506643

    申请日：2009-07-21

    申请人： Sjoerd Nicolaas Lambertus DONDERS ,  Patrick Johannes Cornelus Hendrik Smulders ,  Peter Smits

    发明人： Sjoerd Nicolaas Lambertus DONDERS ,  Patrick Johannes Cornelus Hendrik Smulders ,  Peter Smits

    IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/58

    CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70716

    摘要： In an immersion lithographic apparatus, a closing plate is used to contain liquid in a liquid confinement structure while, for example, substrates are swapped on a substrate table. A closing plate displacement mechanism using, for example, a combination of one or more leaf springs and one or more electromagnets or a combination of one or more linear actuators and one more pins, is used to move the closing plate toward or from the liquid confinement structure. In an embodiment, an adjustment plate is used to compensate for closing plates of varying thickness in closing plate receptacles of varying depth on different substrate tables.

    摘要翻译： 在浸没式光刻设备中，封闭板用于在液体限制结构中容纳液体，而例如将基板交换在基板台上。 使用例如使用一个或多个板簧和一个或多个电磁体的组合或者一个或多个线性致动器和多个销的组合的闭合板位移机构来移动封闭板朝向或从液体限制 结构体。 在一个实施例中，调节板用于补偿不同基底台上不同深度的封闭板插座中不同厚度的封闭板。

    Lithographic apparatus and device manufacturing method
    2.
    发明授权
    Lithographic apparatus and device manufacturing method 失效
    平版印刷设备和器件制造方法

    公开(公告)号：US07583357B2

    公开(公告)日：2009-09-01

    申请号：US10986184

    申请日：2004-11-12

    申请人： Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Patrick Johannes Cornelus Hendrik Smulders ,  Peter Smits

    发明人： Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Patrick Johannes Cornelus Hendrik Smulders ,  Peter Smits

    IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  G03B27/58

    CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70716

    摘要： In an immersion lithographic apparatus, a closing plate is used to contain liquid in a liquid confinement structure while, for example, substrates are swapped on a substrate table. A closing plate displacement mechanism using, for example, a combination of one or more leaf springs and one or more electromagnets or a combination of one or more linear actuators and one more pins, is used to moving the closing plate toward or from the liquid confinement structure. In an embodiment, an adjustment plate is used to compensate for closing plates of varying thickness in closing plate receptacles of varying depth on different substrate tables.

    摘要翻译： 在浸没式光刻设备中，封闭板用于在液体限制结构中容纳液体，而例如将基板交换在基板台上。 使用例如使用一个或多个板簧和一个或多个电磁体或一个或多个线性致动器和多个销的组合的闭合板位移机构来移动封闭板朝向或从液体限制 结构体。 在一个实施例中，调节板用于补偿不同基底台上不同深度的封闭板插座中不同厚度的封闭板。