公开(公告)号：US5571914A

公开(公告)日：1996-11-05

申请号：US466733

申请日：1995-06-06

申请人： Tadafumi Terada ,  Katsuhiko Fujimoto ,  Makoto Nomura ,  Junichi Yamashita ,  Setsuo Takeda ,  Takashi Kobunai ,  Hideo Yamaguchi ,  Konstanty Wierzba

发明人： Tadafumi Terada ,  Katsuhiko Fujimoto ,  Makoto Nomura ,  Junichi Yamashita ,  Setsuo Takeda ,  Takashi Kobunai ,  Hideo Yamaguchi ,  Konstanty Wierzba

IPC分类号： A61K31/34 ,  A61K31/357 ,  A61K31/365 ,  A61P35/00 ,  C07D493/04 ,  C07D413/00 ,  C07D407/00

CPC分类号： C07D493/04

摘要： A 4-desoxy-4-epipodophyllotoxin derivative of the following formula ##STR1## wherein R and R.sub.1 are as defined in the specification or a pharmaceutically acceptable salt thereof as well as an antitumor composition comprising such derivative or salt as an active ingredient.

摘要翻译： 下式（R）的4-脱氧-4-表鬼臼毒素衍生物，其中R和R 1如本说明书中所定义，或其药学上可接受的盐，以及包含该衍生物或盐作为活性成分的抗肿瘤组合物。

公开(公告)号：US5536847A

公开(公告)日：1996-07-16

申请号：US471524

申请日：1995-06-06

申请人： Tadafumi Terada ,  Katsuhiko Fujimoto ,  Makoto Nomura ,  Junichi Yamashita ,  Setsuo Takeda ,  Takashi Kobunai ,  Hideo Yamaguchi ,  Konstanty Wierzba

发明人： Tadafumi Terada ,  Katsuhiko Fujimoto ,  Makoto Nomura ,  Junichi Yamashita ,  Setsuo Takeda ,  Takashi Kobunai ,  Hideo Yamaguchi ,  Konstanty Wierzba

IPC分类号： A61K31/34 ,  A61K31/357 ,  A61K31/365 ,  A61P35/00 ,  C07D493/04 ,  C07D407/00 ,  C07D307/77

CPC分类号： C07D493/04

摘要： A 4-desoxy-4-epipodophyllotoxin derivative of the following formula ##STR1## wherein R and R.sub.1 are as defined in the specification or a pharmaceutically acceptable salt thereof as well as an antitumor composition comprising such derivative or salt as an active ingredient.

公开(公告)号：US5489698A

公开(公告)日：1996-02-06

申请号：US375565

申请日：1995-01-13

申请人： Tadafumi Terada ,  Katsuhiko Fujimoto ,  Makoto Nomura ,  Junichi Yamashita ,  Setsuo Takeda ,  Takashi Kobunai ,  Hideo Yamaguchi ,  Konstanty Wierzba

发明人： Tadafumi Terada ,  Katsuhiko Fujimoto ,  Makoto Nomura ,  Junichi Yamashita ,  Setsuo Takeda ,  Takashi Kobunai ,  Hideo Yamaguchi ,  Konstanty Wierzba

IPC分类号： A61K31/34 ,  A61K31/357 ,  A61K31/365 ,  A61P35/00 ,  C07D493/04

CPC分类号： C07D493/04

摘要： A 4-desoxy-4-epipodophyllotoxin derivative of the following formula ##STR1## wherein R and R.sub.1 are as defined in the specification or a pharmaceutically acceptable salt thereof as well as an antitumor composition comprising such derivative or salt as an active ingredient.

摘要翻译： 下式（R）的4-脱氧-4-表鬼臼毒素衍生物，其中R和R 1如本说明书中所定义，或其药学上可接受的盐，以及包含该衍生物或盐作为活性成分的抗肿瘤组合物。

公开(公告)号：US5869464A

公开(公告)日：1999-02-09

申请号：US505291

申请日：1995-08-21

申请人： Makoto Nomura ,  Makoto Kajitani ,  Junichi Yamashita ,  Masakazu Fukushima ,  Yuji Shimamoto

发明人： Makoto Nomura ,  Makoto Kajitani ,  Junichi Yamashita ,  Masakazu Fukushima ,  Yuji Shimamoto

IPC分类号： C07H19/073 ,  A61K31/70 ,  A61K31/7042 ,  A61K31/7052 ,  A61K31/7064 ,  A61K31/7072 ,  A61P35/00 ,  C07H19/06

CPC分类号： C07H19/06 ,  Y10S514/908

摘要： The compounds of the invention are a 2'-deoxy-5-fluorouridine derivative represented by the formula ##STR1## wherein one of R.sub.1 and R.sub.2 is a hydrogen atom or a group easily hydrolyzable in vivo, the other is a benzyl group which may optionally have at least one halogen atom or trifluoromethyl group as a substituent on the phenyl ring, and R.sub.3 is a lower alkyl group, and a pharmaceutically acceptable salt thereof.The compounds of the invention can be suitably used as an antitumor agent.

摘要翻译： PCT No.PCT / JP94 / 02167 Sec。 371日期1995年8月21日 102（e）日期1995年8月21日PCT 1994年12月21日PCT PCT。 WO95 / 18138 PCT公开号 日期：1995年7月6日本发明化合物是由式（Ⅰ）表示的2'-脱氧-5-氟尿苷衍生物，其中R 1和R 2之一是氢原子或在体内容易水解的基团，另一个是 苄基，其可以任选地具有至少一个卤素原子或三氟甲基作为苯基环上的取代基，R3是低级烷基，及其药学上可接受的盐。 本发明的化合物可以适合用作抗肿瘤剂。

公开(公告)号：US08588950B2

公开(公告)日：2013-11-19

申请号：US13036485

申请日：2011-02-28

申请人： Makoto Nomura

发明人： Makoto Nomura

IPC分类号： G06F19/00 ,  G06F7/00 ,  B65G25/00 ,  H01L21/677

CPC分类号： G05B15/02 ,  G05B19/418 ,  H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  Y02P90/02 ,  Y02P90/22 ,  Y02P90/86 ,  Y10T29/41

摘要： Only a wafer for QC check may be transferred and a production wafer may prevent from being transferred into an assigned process chamber whose QC check is not completed after a maintenance task, and the production wafer may be processed the assigned process chamber after the completion of the QC check. The wafer for QC check is transferred while inhibiting a transfer of the production wafer into the assigned process chamber, and the production wafer is transferred into each of the process chambers of the plurality except the assigned process chamber.

摘要翻译： 可以仅转移用于QC检查的晶片，并且生产晶片可以防止在维护任务之后被转移到QC检查未完成的指定处理室中，并且生产晶片可以在完成之后被处理分配的处理室 QC检查。 传送用于QC检查的晶片，同时禁止将生产晶片转移到指定的处理室中，并且将生产晶片转移到除了指定的处理室之外的多个处理室中。

公开(公告)号：US20060199099A1

公开(公告)日：2006-09-07

申请号：US11365381

申请日：2006-03-01

申请人： Kei Arao ,  Makoto Nomura

发明人： Kei Arao ,  Makoto Nomura

IPC分类号： G03C1/76

CPC分类号： G03F7/0382

摘要： Provided are negative-type photosensitive resin compositions which may be used as interlayer insulating layers on a silicon wafer. The compositions include a urea crosslinking agent together with an epoxy-containing material and vinylphenol resin. Also provided are methods of forming patterned insulating layers using such compositions. The resin compositions can be used in the manufacture of wafer-level chip-scale packages and LSIs, for example, as interlayer insulating layers.

摘要翻译： 提供可以用作硅晶片上的层间绝缘层的负型感光性树脂组合物。 组合物包括与含环氧基材料和乙烯基苯酚树脂一起的尿素交联剂。 还提供了使用这种组合物形成图案化绝缘层的方法。 树脂组合物可用于制造晶片级芯片级封装和LSI，例如作为层间绝缘层。

公开(公告)号：US20060199098A1

公开(公告)日：2006-09-07

申请号：US11365100

申请日：2006-03-01

申请人： Kei Arao ,  Makoto Nomura

发明人： Kei Arao ,  Makoto Nomura

IPC分类号： G03C1/76

CPC分类号： G03F7/0382 ,  G03F7/0381

摘要： Provided are negative-type photosensitive resin compositions which may be used in forming interlayer insulating layers on a silicon wafer or printed wiring board. The compositions include a vinylphenol resin, a biphenyl-phenol resin and epoxy-containing materials. Also provided are methods of forming patterned dielectric films using such compositions. The resin compositions can be used in the manufacture of wafer-level chip-scale packages and LSIs, for example, as interlayer insulating layers.

摘要翻译： 提供可以用于在硅晶片或印刷线路板上形成层间绝缘层的负型感光性树脂组合物。 组合物包括乙烯基苯酚树脂，联苯酚树脂和含环氧树脂的材料。 还提供了使用这种组合物形成图案化电介质膜的方法。 树脂组合物可用于制造晶片级芯片级封装和LSI，例如作为层间绝缘层。

公开(公告)号：US06314798B2

公开(公告)日：2001-11-13

申请号：US09841591

申请日：2001-04-25

申请人： Makoto Nomura ,  Hideki Kato ,  Hiroshi Yoshida

发明人： Makoto Nomura ,  Hideki Kato ,  Hiroshi Yoshida

IPC分类号： G01N348

CPC分类号： F16C33/12 ,  B23B27/145 ,  B23B27/148 ,  C04B35/593 ,  C04B35/5935

摘要： Cutting tools and wear-resistant materials formed of a silicon-nitride-based sintered body having excellent characteristics, such as high wear resistance. Cutting tool 1 is in the form of a negative chip having a shape prescribed by ISO standard: SNGN 120408. Specifically, the cutting tool 1 is a chip of a rectangular parallelepiped shape which has a thickness of 4.76 mm and in which each of four sides (cutting edges) 5 on a rake face 3 side has a length of 12.7 mm. In the region having a width of 0.2 mm or less and extending from the cutting edges 5 of the cutting tool 1, the cutting tool 1 has a microhardness H. Plast of 21.2 GPa or greater and a microhardness HU of 11.2 GPa or greater. The Vickers hardness of the cutting tool 1 as measured at a substantial center of the rake face 3 is 14.5 GPa or greater. Further, the amount of oxygen within the cutting tool 1 is 1.0 to 2.0 wt. %. Also disclosed is a method of quality control of an article having a surface, at least a portion of which is curved, which includes measuring one or both of microhardness H. Plast and microhardness HU in the vicinity of the curved portion of the surface, and either accepting or rejecting the article based on the measurement values.

摘要翻译： 由氮化硅类烧结体形成的切削工具和耐磨材料，具有优异的耐磨性等特性。 切削刀具1是具有由ISO标准规定的形状的负片的形式：SNGN 120408.具体而言，切削工具1是厚度为4.76mm的长方体形状的切屑，其中， （切削刃）5在前刀面3侧的长度为12.7mm。 在宽度为0.2mm以下且从切削工具1的切削刃5延伸的区域中，切削工具1具有显微硬度H.21.0GPa以上的显微硬度，11.2GPa以上的显微硬度HU。 在前刀面3的大致中心处测量的切削工具1的维氏硬度为14.5GPa以上。 此外，切削工具1内的氧量为1.0〜2.0重量％。 ％。 还公开了一种具有表面的质量控制方法，该表面的至少一部分是弯曲的，其包括测量微硬度H之一或两者。表面弯曲部分附近的塑性和显微硬度HU，以及 基于测量值接受或拒绝文章。

公开(公告)号：US5371302A

公开(公告)日：1994-12-06

申请号：US45204

申请日：1993-04-13

申请人： Hiroshi Yanai ,  Tadayoshi Matsuo ,  Masanori Nagase ,  Tsohikazu Maruyama ,  Toshihiko Furukawa ,  Katsuhiko Sakura ,  Yoshiaki Matsui ,  Takamasa Minami ,  Nobuo Moriya ,  Sachio Asaoka ,  Kouji Sakashita ,  Nobuyuki Suda ,  Keiji Shimoda ,  Susumu Yamamoto ,  Makoto Nomura

发明人： Hiroshi Yanai ,  Tadayoshi Matsuo ,  Masanori Nagase ,  Tsohikazu Maruyama ,  Toshihiko Furukawa ,  Katsuhiko Sakura ,  Yoshiaki Matsui ,  Takamasa Minami ,  Nobuo Moriya ,  Sachio Asaoka ,  Kouji Sakashita ,  Nobuyuki Suda ,  Keiji Shimoda ,  Susumu Yamamoto ,  Makoto Nomura

IPC分类号： C07C37/88 ,  C07C39/16

CPC分类号： C07C37/88

摘要： The invention relates to a process for preparing prilled bisphenol A by granulation which comprises adding compounds soluble in molten bisphenol A, not affecting adversely the melt color of bisphenol A to any significant extent, and have a melting point of 60.degree. C. or more to bisphenol A and granulating and also to a process which comprises adding the reaction mother liquor or cyrstallization mother liquor produced in the manufacturing step of bisphenol A to bisphenol A or the adduct of bispheol A and phenol or a mixture of bispheol A and phenol, removing the phenol, and granulating. The processes yield prilled bispheol A which have high strength and resist powdering.

摘要翻译： 本发明涉及一种通过造粒制备造粒双酚A的方法，其包括将可溶于熔融双酚A的化合物加入到任何显着程度上不会对双酚A的熔融颜色产生不利影响，并且熔点为60℃以上至 双酚A和造粒，还涉及一种方法，其包括将在双酚A的制备步骤中生产的反应母液或固化母液加入双酚A或双酚A和苯酚或双酚A和苯酚的混合物的加合物中，除去 苯酚和造粒。 该方法产生具有高强度和抗粉化的颗粒状双酚A。

公开(公告)号：US4697453A

公开(公告)日：1987-10-06

申请号：US751088

申请日：1985-07-02

申请人： Shigemi Murakawa ,  Seiji Taguchi ,  Makoto Nomura ,  Ryoji Takabe ,  Yoshiharu Iwashita ,  Masahiro Ishii

发明人： Shigemi Murakawa ,  Seiji Taguchi ,  Makoto Nomura ,  Ryoji Takabe ,  Yoshiharu Iwashita ,  Masahiro Ishii

IPC分类号： G01F23/00 ,  C21B7/24

CPC分类号： G01F23/0023

摘要： A burden distribution monitoring apparatus, according to the present invention, includes a hollow cylindrical sonde having an inner end radially movable within the internal space of a furnace, such as a shaft furnace. The sonde carries a burden layer depth sensor and/or a burden grain distribution sensor for radially shifting working ends of the sensors. With the foregoing construction, burden depth and/or grading of the burden can be monitored in a plurality of radial points in the furnace.