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    Negative-type photosensitive resin composition containing epoxy-containing material
    1.
    发明申请
    Negative-type photosensitive resin composition containing epoxy-containing material 审中-公开
    含有含环氧材料的负型感光性树脂组合物

    公开(公告)号：US20060199098A1

    公开(公告)日：2006-09-07

    申请号：US11365100

    申请日：2006-03-01

    申请人： Kei Arao ,  Makoto Nomura

    发明人： Kei Arao ,  Makoto Nomura

    IPC分类号： G03C1/76

    CPC分类号： G03F7/0382 ,  G03F7/0381

    摘要： Provided are negative-type photosensitive resin compositions which may be used in forming interlayer insulating layers on a silicon wafer or printed wiring board. The compositions include a vinylphenol resin, a biphenyl-phenol resin and epoxy-containing materials. Also provided are methods of forming patterned dielectric films using such compositions. The resin compositions can be used in the manufacture of wafer-level chip-scale packages and LSIs, for example, as interlayer insulating layers.

    摘要翻译： 提供可以用于在硅晶片或印刷线路板上形成层间绝缘层的负型感光性树脂组合物。 组合物包括乙烯基苯酚树脂，联苯酚树脂和含环氧树脂的材料。 还提供了使用这种组合物形成图案化电介质膜的方法。 树脂组合物可用于制造晶片级芯片级封装和LSI，例如作为层间绝缘层。

    PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, CURED FILM AND PRODUCTION PROCESS THEREOF, AND ELECTRONIC PART
    4.
    发明申请
    PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, CURED FILM AND PRODUCTION PROCESS THEREOF, AND ELECTRONIC PART 有权
    光敏组合物，固化膜及其生产工艺及电子部件

    公开(公告)号：US20140234777A1

    公开(公告)日：2014-08-21

    申请号：US14166856

    申请日：2014-01-29

    申请人： JSR CORPORATION

    发明人： Tomohiko SAKURAI ,  Masaaki HANAMURA

    IPC分类号： G03F7/004 ,  C09D125/08 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/0226 ,  C08F8/12 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/0381 ,  G03F7/0387 ,  G03F7/40 ,  C08F212/14 ,  C08F212/08 ,  C08F2220/325

    摘要： It is an object of the present invention to improve the curability of a resin composition and a photosensitive composition suitably employed to form e.g., a surface protecting film and an interlaminar insulating film of e.g., an electronic part, while reducing the internal stress remaining in a substrate when the composition is used to form a cured film on the substrate. The photosensitive composition includes a resin (A) having a phenolic hydroxyl group, a crosslinking agent (B1) having at least two oxazoline groups and a crosslinking agent (B2) having at least two groups represented by —CH2OR (wherein R is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an acetyl group) and a photosensitive acid-generating agent (C).

    摘要翻译： 本发明的目的是提高树脂组合物和适合用于形成例如表面保护膜和例如电子部件的层间绝缘膜的光敏组合物的固化性，同时减少残留在 当组合物用于在基材上形成固化膜时，基材。 光敏组合物包括具有酚羟基的树脂（A），具有至少两个恶唑啉基的交联剂（B1）和具有由-CH 2 OR表示的至少两个基团的交联剂（B2）（其中R是氢原子 ，碳原子数1〜10的烷基或乙酰基）和感光性酸发生剂（C）。

    Light-Sensitive Component for Use in Photoresists
    5.
    发明申请
    Light-Sensitive Component for Use in Photoresists 有权
    用于光致抗蚀剂的光敏组分

    公开(公告)号：US20090253073A1

    公开(公告)日：2009-10-08

    申请号：US12084614

    申请日：2006-11-06

    申请人： Wolfgang Zahn ,  Ralf Grottenmüller ,  Dieter Wagner

    发明人： Wolfgang Zahn ,  Ralf Grottenmüller ,  Dieter Wagner

    IPC分类号： G03F7/20 ,  C08G8/02 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0233 ,  C07C309/76 ,  C08K5/42 ,  G03F7/0381

    摘要： A compound of the formula (I) where the symbols and indices are each defined as follows: A is A′, R or O—R; where R is a straight-chain, branched or cyclic, saturated or unsaturated aliphatic radical having 1-8 carbon atoms; A′ is the same or different and is B is a bond, —O—C(O)—, —C(O)—O—, —O—C(O)—, —C(O)—NH—, —NH—C(O)—, —C(O)—O—CH2—CH(OH)—CH2—O, —O—CH2—CH(OH)—CH2—O—(O)C—, —O—C(O)—O—, —O—C(O)—NH— or —NH—C(O)—O—; R1 is H or OH; m is 1, 2, 3, 4 or 5; Y is n is a positive rational number ≧3; E is the same or different and is —CH—CHR2—, —CHR2—CH2—, —CH2—CHR2—O—, —O—CHR2—CH2—, —(CH2)r—O— or —O—(CH2)—; R2 is H or CH3 and r is 1 or 4, is suitable as a light-sensitive component for photoresists.

    摘要翻译： 符号和指数各自定义如下：式（I）的化合物：A是A'，R或O-R; 其中R是具有1-8个碳原子的直链，支链或环状饱和或不饱和的脂族基团; A'相同或不同，B为键，-OC（O） - ， - C（O）-O-，-OC（O） - ， - C（O）-NH-，-NH-C （O） - ， - C（O）-O-CH 2 -CH（OH）-CH 2 -O，-O-CH 2 -CH（OH）-CH 2 -O-（O） O-，-OC（O）-NH-或-NH-C（O）-O-; R1是H或OH; m为1,2,3,4或5; Y是n是正有理数> = 3; E相同或不同，为-CH-CHR 2 - ， - CHR 2 -CH 2 - ， - CH 2 -CHR 2 -O - ， - O-CHR 2 -CH 2 - ， - （CH 2）r O-或-O-（CH 2） ; R2是H或CH3，r是1或4，适用作光致抗蚀剂的光敏组分。

    Ultraviolet light sensitive onium salts
    6.
    发明授权
    Ultraviolet light sensitive onium salts 失效
    紫外光敏敏盐

    公开(公告)号：US5302757A

    公开(公告)日：1994-04-12

    申请号：US944640

    申请日：1992-09-14

    申请人： Franklin D. Saeva

    发明人： Franklin D. Saeva

    IPC分类号： G03F7/029 ,  C07C381/12 ,  C08K5/16 ,  C08K5/48 ,  C08K5/49 ,  C08K5/59 ,  C08L101/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03G5/026 ,  C07C321/28

    CPC分类号： C07C381/12 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0381 ,  G03F7/039 ,  G03G5/026

    摘要： A composition of matter including an onium salt and a method of forming images. The onium salt has a chromophore which absorbs ultraviolet radiation, an S, Se, As, N or P atom which is free of substituents exhibiting a higher energy occupied molecular orbital than the chromophore; an insulating group which links the chromophore to the S, Se, As, N or P atom of the salt and substantially prevents .pi. resonance from the chromophore through the S, Se, As, N or P atom; and an anion. The onium salt is capable of forming a Bronsted acid upon exposure to ultraviolet radiation in the presence of a proton source. In the method of forming images, the onium salt is exposed to ultraviolet radiation in the presence of a proton source, to convert said onium salt to a Bronsted acid.

    摘要翻译： 包含鎓盐的物质组合物和形成图像的方法。 鎓盐具有吸收紫外线辐射的发色团，不具有比发色团具有更高能量占据分子轨道的取代基的S，Se，As，N或P原子; 将发色团连接到盐的S，Se，As，N或P原子的绝缘基团，并且基本上防止（pi）从发色团通过S，Se，As，N或P原子的共振; 和阴离子。 鎓盐在质子源存在下暴露于紫外线辐射下能够形成布朗斯台德酸。 在形成图像的方法中，鎓盐在质子源存在下暴露于紫外线辐射，以将所述鎓盐转化成布朗斯台德酸。

    Light-sensitive compositions and light-sensitive materials such as printing plates
    7.
    发明授权
    Light-sensitive compositions and light-sensitive materials such as printing plates 失效
    感光组合物和感光材料如印版

    公开(公告)号：US3869292A

    公开(公告)日：1975-03-04

    申请号：US35702573

    申请日：1973-05-03

    申请人： OCE VAN DER GRINTEN NV

    发明人： PETERS MARTINUS T J

    IPC分类号： G03C1/72 ,  C08K5/17 ,  C08L25/00 ,  C08L33/00 ,  C08L33/02 ,  G03F7/012 ,  G03F7/021 ,  G03F7/023 ,  G03F7/038 ,  G03F7/08 ,  G03C1/52

    CPC分类号： G03F7/0212 ,  G03F7/012 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0381

    摘要： Mixtures of light-sensitive compounds with vinylphenol resins constitute new light-sensitive compositions which are especially valuable for use as light-sensitive coatings of materials such as printing plates. The resin advantageously is a polymer or copolymer of ortho-vinylphenol, and the light-sensitive compound an aromatic ester or amide of an ortho-naphthoquinone diazide sulfonic or carboxylic acid. Aluminum foil offset plates coated with the compositions give remarkably long printing runs, due to the exceptional wear resistance and good adhesion exhibited by image areas which contain a vinylphenol resin.

    摘要翻译： 光敏化合物与乙烯基酚树脂的混合物构成了新的感光组合物，其对于用作诸如印刷版的材料的感光涂料是特别有价值的。 树脂有利地是邻乙烯基苯酚的聚合物或共聚物，并且光敏化合物是邻萘醌二叠氮磺酸或羧酸的芳族酯或酰胺。 涂有组合物的铝箔胶印板由于具有优异的耐磨性和含有乙烯基苯酚树脂的图像区域的良好粘附性而显着延长的印刷速度。

    One-component reactive resin system comprising a cure-inhibiting glycidyl phosphorus compound
    9.
    发明授权
    One-component reactive resin system comprising a cure-inhibiting glycidyl phosphorus compound 失效
    包含固化抑制性缩水甘油基磷化合物的单组分反应性树脂体系

    公开(公告)号：US5576357A

    公开(公告)日：1996-11-19

    申请号：US428251

    申请日：1995-05-03

    申请人： Heiner Bayer ,  Winfried Plundrich ,  Ernst Wipfelder

    发明人： Heiner Bayer ,  Winfried Plundrich ,  Ernst Wipfelder

    IPC分类号： C08G59/00 ,  C08G59/20 ,  C08G59/22 ,  C08G59/30 ,  C08G59/38 ,  C08G59/68 ,  G03F7/038 ,  H01B3/40

    CPC分类号： H01B3/40 ,  C08G59/226 ,  C08G59/304 ,  C08G59/38 ,  G03F7/0381

    摘要： A one-component reactive resin system which is stable in storage but nevertheless can readily be cured completely comprises a mixture of commercially available epoxy resins and phosphorus-containing glycidyl esters, in particular phosphonic acid diglycidyl esters, as well as cationic photoinitiators. The low-viscosity reactive resin systems cannot be cured purely by means of heat and can be processed at high temperatures and in particular can have a high filler content. The reactive resin systems, which are stable to storage even after UV activation, can be cured to flame-resistant molded materials under moderate conditions.

    摘要翻译： PCT No.PCT / DE93 / 01024 Sec。 371日期：1995年5月3日 102（e）日期1995年5月3日PCT提交1993年10月27日PCT公布。 公开号WO94 / 10223 日期1994年5月11日一种在储存中稳定但可以容易地完全固化的单组分反应性树脂体系包括市售的环氧树脂和含磷缩水甘油酯的混合物，特别是膦酸二缩水甘油酯，以及阳离子光引发剂 。 低粘度反应性树脂体系不能纯粹通过热固化，并且可以在高温下加工，特别是可以具有高的填料含量。 反应性树脂体系即使在UV活化后也能保持稳定，可以在适度条件下固化成阻燃成型材料。