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    Optical device latching mechanism
    2.
    发明授权
    Optical device latching mechanism 有权
    光学装置锁定机构

    公开(公告)号：US07281862B2

    公开(公告)日：2007-10-16

    申请号：US11095676

    申请日：2005-03-31

    申请人： Joshua T. Oen ,  Daehwan D. Kim ,  Ching-Ling Meng

    发明人： Joshua T. Oen ,  Daehwan D. Kim ,  Ching-Ling Meng

    IPC分类号： G02B6/36

    CPC分类号： G02B6/4201 ,  G02B6/4261 ,  G02B6/4269

    摘要： An apparatus including a heat sink compatible with a rail, the heat sink including two engagement windows that align with a corresponding pair of rail engagement windows when the apparatus is positioned in the rail. A handle engaged with the heat sink, the handle to enable a retention position and a retraction position of the apparatus. A first latch and a second latch laterally opposed and positioned within a first cavity and a second cavity, respectively, of the heat sink. A first spring and a second spring laterally opposed and positioned within the first and second cavities, respectively, of the heat sink, the first and second springs engaged with the handle and the first and second latches, wherein the first and second springs to push a first latch end of each latch into the rail engagement window when the apparatus is in a retention position, wherein the first and second springs to actuate the retraction of the first latch end of each latch when the handle is used to place the apparatus in a retraction position.

    摘要翻译： 一种包括与轨道兼容的散热器的装置，所述散热器包括两个接合窗口，当所述设备位于所述导轨中时，所述接合窗口与对应的一对导轨接合窗口对准。 与散热器接合的手柄，手柄能够实现装置的保持位置和缩回位置。 横向对置并分别位于散热器的第一腔和第二腔内的第一闩锁和第二闩锁。 第一弹簧和第二弹簧分别横向对置并定位在散热器的第一和第二腔内，第一和第二弹簧与手柄和第一和第二闩锁接合，其中第一和第二弹簧推动 当装置处于保持位置时，每个闩锁的第一闩锁端部进入轨道接合窗口，其中当手柄用于将装置放回缩回时，第一和第二弹簧致动每个闩锁的第一闩锁端部的缩回 位置。

    Gas purge system and methods
    3.
    发明授权
    Gas purge system and methods 有权
    气体净化系统和方法

    公开(公告)号：US07420681B1

    公开(公告)日：2008-09-02

    申请号：US11457524

    申请日：2006-07-14

    申请人： Ning-Yi Wang ,  Ching-Ling Meng ,  Anthony Tang

    发明人： Ning-Yi Wang ,  Ching-Ling Meng ,  Anthony Tang

    IPC分类号： G01N21/00 ,  G01J4/00

    CPC分类号： G01N21/211 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0205 ,  G01J3/0286 ,  G01J3/447 ,  G01J4/00 ,  G01N21/15 ,  G01N21/8422 ,  G01N2021/151 ,  G01N2021/213

    摘要： Gas purge systems and methods and a spectroscopic ellipsometer are disclosed. A purge gas system may include an input beam optics housing, a collection optics housing and a gas purge manifold. The input beam optics housing may include a first gas flow path between a first gas inlet and an aperture in a first nose cone proximate a measurement position. The collection optics housing may include a second gas flow path between a second gas inlet and an aperture in a second nose cone proximate the measurement position. The gas purge manifold may be disposed between the input beam optics housing and the collection optics housing. The gas purge manifold has a third gas flow path between a third gas inlet and an aperture in the gas manifold proximate the measurement position. The ellipsometer may include input beam optics in the input beam optics housing and collection optics in the collection optics housing. First, second, and third flows of purge gas may be supplied through the input beam optics housing, collection optics housing and gas purge manifold respectively. The purge gas is delivered directly to a measurement position of a surface of a substrate through the gas purge manifold, the first nosecone and the second nose cone.

    摘要翻译： 公开了气体吹扫系统和方法以及分光椭偏仪。 吹扫气体系统可以包括输入光束光学器件壳体，收集光学器件壳体和气体吹扫歧管。 输入光束光学器件壳体可以包括在第一气体入口和靠近测量位置的第一鼻锥中的孔之间的第一气体流动路径。 收集光学器件壳体可以包括在第二气体入口和靠近测量位置的第二鼻锥中的孔之间的第二气体流动路径。 气体吹扫歧管可以设置在输入光束光学器件壳体和收集光学器件壳体之间。 气体吹扫歧管在靠近测量位置的第三气体入口和气体歧管中的孔之间具有第三气体流动路径。 椭偏仪可以包括输入光束光学器件中的输入光束，并且在收集光学器件壳体中收集光学元件。 吹扫气体的第一，第二和第三流动可以分别通过输入光束光学器件壳体，收集光学器件壳体和气体吹扫歧管提供。 净化气体通过气体净化歧管，第一鼻锥和第二鼻锥直接输送到衬底的表面的测量位置。

    Designing an optical metrology system optimized with signal criteria
    4.
    发明授权
    Designing an optical metrology system optimized with signal criteria 失效
    设计采用信号标准优化的光学计量系统

    公开(公告)号：US07742889B2

    公开(公告)日：2010-06-22

    申请号：US12057316

    申请日：2008-03-27

    申请人： Xinkang Tian ,  Manuel Madriaga ,  Ching-Ling Meng ,  Mihail Mihalov

    发明人： Xinkang Tian ,  Manuel Madriaga ,  Ching-Ling Meng ,  Mihail Mihalov

    IPC分类号： G06F19/00 ,  G01B11/24 ,  H01L21/66

    CPC分类号： G01N21/956 ,  G01B2210/56

    摘要： Provided is a method of designing an optical metrology system for measuring structures on a workpiece wherein the optical metrology system is configured to meet one or more signal criteria. The design of the optical metrology system is optimized by using collected signal data in comparison to the one or more signal criteria. In one embodiment, the optical metrology system is used for stand alone systems. In another embodiment, the optical metrology system is integrated with a fabrication cluster in semiconductor manufacturing.

    摘要翻译： 提供了一种设计用于测量工件上的结构的光学测量系统的方法，其中光学测量系统被配置为满足一个或多个信号标准。 通过使用收集的信号数据与一个或多个信号标准相比较来优化光学测量系统的设计。 在一个实施例中，光学测量系统用于独立系统。 在另一个实施例中，光学计量系统与半导体制造中的制造集成集成。

    Apparatus for designing an optical metrology system optimized with signal criteria
    5.
    发明授权
    Apparatus for designing an optical metrology system optimized with signal criteria 失效
    用于设计用信号标准优化的光学测量系统的装置

    公开(公告)号：US07734437B2

    公开(公告)日：2010-06-08

    申请号：US12057332

    申请日：2008-03-27

    申请人： Xinkang Tian ,  Manuel Madriaga ,  Ching-Ling Meng ,  Mihail Mihalov

    发明人： Xinkang Tian ,  Manuel Madriaga ,  Ching-Ling Meng ,  Mihail Mihalov

    IPC分类号： G06F19/00 ,  G01B11/14

    CPC分类号： G01B11/24 ,  G01B2210/56 ,  G01N21/956

    摘要： Provided is an apparatus for designing an optical metrology system for measuring structures on a workpiece wherein the optical metrology system is configured to meet one or more signal criteria. The design of the optical metrology system is optimized by using collected signal data in comparison to set one or more signal criteria. In one embodiment, the optical metrology system is used for stand alone systems. In another embodiment, the optical metrology system is integrated with a fabrication cluster in semiconductor manufacturing.

    摘要翻译： 提供了一种用于设计用于测量工件上的结构的光学测量系统的设备，其中光学测量系统被配置为满足一个或多个信号标准。 通过使用收集的信号数据来比较设置一个或多个信号标准来优化光学测量系统的设计。 在一个实施例中，光学测量系统用于独立系统。 在另一个实施例中，光学计量系统与半导体制造中的制造集成集成。

    Chemical mechanical planarization system
    6.
    发明授权
    Chemical mechanical planarization system 有权
    化学机械平面化系统

    公开(公告)号：US06679755B1

    公开(公告)日：2004-01-20

    申请号：US09718552

    申请日：2000-11-22

    申请人： Phillip R. Sommer ,  Paul D. Butterfield ,  Joshua T. Oen ,  Ching-Ling Meng

    发明人： Phillip R. Sommer ,  Paul D. Butterfield ,  Joshua T. Oen ,  Ching-Ling Meng

    IPC分类号： B24B5100

    CPC分类号： B24B37/345 ,  B23Q3/186 ,  B23Q7/1426 ,  B24B41/06 ,  H01L21/682

    摘要： A processing system and method for processing a workpiece is generally provided. In one embodiment, the system includes a processing module and a substrate transfer shuttle. The processing module includes a polishing surface and at least one polishing head disposed above the polishing surface. The substrate transfer shuttle is movable between at least a first position and a second position where the second position is disposed adjacent the polishing head. At least one nest is disposed therein to receive and align the substrate. The nest also facilitates transfer of the workpiece to the processing head.

    摘要翻译： 通常提供用于处理工件的处理系统和方法。 在一个实施例中，系统包括处理模块和基板传送梭。 处理模块包括抛光表面和设置在抛光表面上方的至少一个抛光头。 衬底传送梭可在至少第一位置和第二位置之间移动，其中第二位置邻近抛光头设置。 在其中设置至少一个嵌套以接收和对准衬底。 嵌套还有助于将工件传送到加工头。

    Optical device latching mechanism
    8.
    发明申请
    Optical device latching mechanism 有权
    光学装置锁定机构

    公开(公告)号：US20060222301A1

    公开(公告)日：2006-10-05

    申请号：US11095676

    申请日：2005-03-31

    申请人： Joshua Oen ,  Daehwan Kim ,  Ching-Ling Meng

    发明人： Joshua Oen ,  Daehwan Kim ,  Ching-Ling Meng

    IPC分类号： G02B6/36

    CPC分类号： G02B6/4201 ,  G02B6/4261 ,  G02B6/4269

    摘要： An apparatus including a heat sink compatible with a rail, the heat sink including two engagement windows that align with a corresponding pair of rail engagement windows when the apparatus is positioned in the rail. A handle engaged with the heat sink, the handle to enable a retention position and a retraction position of the apparatus. A first latch and a second latch laterally opposed and positioned within a first cavity and a second cavity, respectively, of the heat sink. A first spring and a second spring laterally opposed and positioned within the first and second cavities, respectively, of the heat sink, the first and second springs engaged with the handle and the first and second latches, wherein the first and second springs to push a first latch end of each latch into the rail engagement window when the apparatus is in a retention position, wherein the first and second springs to actuate the retraction of the first latch end of each latch when the handle is used to place the apparatus in a retraction position.

    摘要翻译： 一种包括与轨道兼容的散热器的装置，所述散热器包括两个接合窗口，当所述设备位于所述导轨中时，所述接合窗口与对应的一对导轨接合窗口对准。 与散热器接合的手柄，手柄能够实现装置的保持位置和缩回位置。 横向对置并分别位于散热器的第一腔和第二腔内的第一闩锁和第二闩锁。 第一弹簧和第二弹簧分别横向对置并定位在散热器的第一和第二腔内，第一和第二弹簧与手柄和第一和第二闩锁接合，其中第一和第二弹簧推动 当装置处于保持位置时，每个闩锁的第一闩锁端部进入轨道接合窗口，其中当手柄用于将装置放回缩回时，第一和第二弹簧致动每个闩锁的第一闩锁端部的缩回 位置。

    Optical metrology system optimized with design goals
    9.
    发明授权
    Optical metrology system optimized with design goals 失效
    光学计量系统优化设计目标

    公开(公告)号：US07761250B2

    公开(公告)日：2010-07-20

    申请号：US12141754

    申请日：2008-06-18

    申请人： Xinkang Tian ,  Manuel Madriaga ,  Ching-Ling Meng ,  Mihail Mihaylov

    发明人： Xinkang Tian ,  Manuel Madriaga ,  Ching-Ling Meng ,  Mihail Mihaylov

    IPC分类号： G01N37/00

    CPC分类号： G01B11/24 ,  G01B21/042

    摘要： Provided is a method of designing an optical metrology system for measuring structures on a workpiece where the optical metrology system is configured to meet two or more design goals. The design of the optical metrology system is optimized by using collected design goal data in comparison to the set two or more design goals. In one embodiment, the optical metrology system is used for stand alone metrology systems. In another embodiment, the optical metrology system is integrated with a fabrication cluster in semiconductor manufacturing.

    摘要翻译： 提供了一种设计用于测量工件上的结构的光学测量系统的方法，其中光学测量系统被配置为满足两个或更多个设计目标。 与设定的两个或多个设计目标相比，通过使用收集的设计目标数据来优化光学测量系统的设计。 在一个实施例中，光学测量系统用于独立测量系统。 在另一个实施例中，光学计量系统与半导体制造中的制造集成集成。

    Automated process control using an optical metrology system optimized with design goals
    10.
    发明授权
    Automated process control using an optical metrology system optimized with design goals 失效
    使用优化设计目标的光学计量系统进行自动化过程控制

    公开(公告)号：US07761178B2

    公开(公告)日：2010-07-20

    申请号：US12141892

    申请日：2008-06-18

    申请人： Xinkang Tian ,  Manuel Madriaga ,  Ching-Ling Meng ,  Mihail Mihaylov

    发明人： Xinkang Tian ,  Manuel Madriaga ,  Ching-Ling Meng ,  Mihail Mihaylov

    IPC分类号： G06F19/00 ,  G01N21/00

    CPC分类号： G01N21/9501 ,  G01N21/8806 ,  G01N2021/8416 ,  G03F1/84 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70625 ,  H01L22/12

    摘要： Provided is a method of designing an optical metrology system for measuring structures on a workpiece wherein the optical metrology system is configured to meet a plurality of design goals. The design of the optical metrology system is optimized by using collected design goal data in comparison to the set plurality of design goals. In one embodiment, the optical metrology system is used for stand alone metrology systems. In another embodiment, the optical metrology system is integrated with a fabrication cluster in semiconductor manufacturing. At least one parameter determined from a diffraction signal measured using the optical metrology system is transmitted to the fabrication cluster. The at least one parameter is used to modify at least one process variable or equipment setting of the fabrication cluster.

    摘要翻译： 提供了一种设计用于测量工件上的结构的光学测量系统的方法，其中光学测量系统被配置为满足多个设计目标。 与设定的多个设计目标相比，通过使用收集的设计目标数据优化光学测量系统的设计。 在一个实施例中，光学测量系统用于独立测量系统。 在另一个实施例中，光学计量系统与半导体制造中的制造集成集成。 从使用光学测量系统测量的衍射信号确定的至少一个参数被传送到制造集群。 至少一个参数用于修改制造集群的至少一个过程变量或设备设置。