利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

47 条记录 (耗时 0.028 秒)

    Illumination system particularly for microlithography
    3.
    发明授权
    Illumination system particularly for microlithography 失效
    照明系统特别适用于微光刻

    公开(公告)号：US06947124B2

    公开(公告)日：2005-09-20

    申请号：US10381625

    申请日：2001-09-28

    申请人： Martin Antoni ,  Wolfgang Singer ,  Johannes Wangler

    发明人： Martin Antoni ,  Wolfgang Singer ,  Johannes Wangler

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G03B27/54 ,  G03B27/42 ,  G21K5/00

    CPC分类号： B82Y10/00 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G21K1/06

    摘要： There is provided an illumination system for microlithography with wavelengths ≦193 nm. The illumination system includes a primary light source, a first optical component, a second optical component, an image plane, and an exit pupil. The first optical component transforms the primary light source into a plurality of secondary light sources that are imaged by the second optical component in the exit pupil. The first optical component includes a first optical element having a plurality of first raster elements that are imaged into the image plane, producing a plurality of images being superimposed at least partially on a field in the image plane. The plurality of first raster elements are rectangular. The field is a segment of an annulus, and the second optical component includes a first field mirror with negative optical power for shaping the field to the segment of the annulus and a second field mirror with positive optical power. Each of a plurality of rays intersects the first field mirror with an incidence angle greater than 70° and each of the plurality of rays intersects the second field mirror with an incidence angle of less than 25°.

    摘要翻译： 提供了一种用于微波光刻的照明系统，其波长<= 193nm。 照明系统包括主光源，第一光学部件，第二光学部件，图像平面和出射光瞳。 第一光学部件将初级光源转换成由出射光瞳中的第二光学部件成像的多个次级光源。 第一光学部件包括具有成像到图像平面中的多个第一光栅元件的第一光学元件，产生至少部分地叠加在图像平面中的场上的多个图像。 多个第一光栅元件是矩形的。 该场是环的一段，并且第二光学部件包括具有负光学功率的第一场反射镜，用于将场成形为环形部分，以及具有正光焦度的第二场反射镜。 多个光线中的每一个与第一场反射镜相交，入射角大于70°，并且多个光线中的每一个与第二场反射镜相交，入射角小于25°。

    Illumination system particularly for microlithography
    6.
    发明授权
    Illumination system particularly for microlithography 有权
    照明系统特别适用于微光刻

    公开(公告)号：US07142285B2

    公开(公告)日：2006-11-28

    申请号：US10381827

    申请日：2001-09-28

    申请人： Martin Antoni ,  Wolfgang Singer ,  Johannes Wangler

    发明人： Martin Antoni ,  Wolfgang Singer ,  Johannes Wangler

    IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/42 ,  G21K5/04

    CPC分类号： G21K1/06 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/702

    摘要： There is provided an illumination system for microlithography with wavelengths≦193 nm. The illumination system includes a primary light source, a first optical component, a second optical component, an image plane, and an exit pupil. The first optical component transforms the primary light source into a plurality of secondary light sources that are imaged by the second optical component in the exit pupil. The first optical component includes a first optical element having a plurality of first raster elements that are imaged into the image plane producing a plurality of images being superimposed at least partially on a field in the image plane. The first raster elements that are imaged into the image plane are illuminated almost completely.

    摘要翻译： 提供了一种用于微波光刻的照明系统，其波长<= 193nm。 照明系统包括主光源，第一光学部件，第二光学部件，图像平面和出射光瞳。 第一光学部件将初级光源转换成由出射光瞳中的第二光学部件成像的多个次级光源。 第一光学部件包括具有多个第一光栅元件的第一光学元件，其被成像到图像平面中，产生至少部分地叠加在图像平面中的场上的多个图像。 成像到图像平面中的第一个光栅元素几乎完全照亮。

    ILLUMINATION SYSTEM PARTICULARLY FOR MICROLITHOGRAPHY
    7.
    发明申请
    ILLUMINATION SYSTEM PARTICULARLY FOR MICROLITHOGRAPHY 有权
    照明系统特别适用于微晶

    公开(公告)号：US20060233300A9

    公开(公告)日：2006-10-19

    申请号：US10381827

    申请日：2001-09-28

    申请人： Martin Antoni ,  Wolfgang Singer ,  Johannes Wangler

    发明人： Martin Antoni ,  Wolfgang Singer ,  Johannes Wangler

    IPC分类号： G21K5/00

    CPC分类号： G21K1/06 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/702

    摘要： The invention concerns an illumination system, particularly for mircolithography with wavelengths

    摘要翻译： 本发明涉及一种照明系统，特别是用于波长小于193nm的微光刻，包括：一次光源; 第一光学部件; 第二光学部件; 图像平面; 和退学生; 其中所述第一光学部件将所述初级光源转换成由所述出射光瞳中的所述第二光学部件成像的多个次级光源，其中所述第一光学部件包括具有多个第一光栅元件的第一光学元件， 成像到所述图像平面中，产生至少部分地叠加在所述图像平面中的场上的多个图像，其中，图像进入图像平面的所述第一光栅元素几乎完全照亮。

    Optical element for forming an arc-shaped illumination field
    9.
    发明申请
    Optical element for forming an arc-shaped illumination field 审中-公开
    用于形成弧形照明场的光学元件

    公开(公告)号：US20050207039A1

    公开(公告)日：2005-09-22

    申请号：US10903817

    申请日：2004-07-30

    申请人： Wolfgang Singer ,  Martin Antoni ,  Johannes Wangler ,  Isabel Escudero Sanz

    发明人： Wolfgang Singer ,  Martin Antoni ,  Johannes Wangler ,  Isabel Escudero Sanz

    IPC分类号： G02B5/10 ,  G02B17/06

    CPC分类号： G02B17/006 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095

    摘要： There is provided an optical element for forming an arc-shaped field in a field plane of an illumination system for light having a wavelength of less than or equal to about 193 nanometers. The optical element includes a plurality of mirror surfaces, each having an array of aspherical reflecting elements. The array of aspherical reflecting elements has a plurality of cylindrical mirrors with aspheric curvature in an x-direction. The plurality of mirror surfaces form a nested mirror and includes a pair of adjacent mirror surfaces that have a spacing dspace therebetween. The arc-shaped field has an axis of symmetry. The field plane is defined by a vector in a y-direction that is parallel to the axis of symmetry, and a vector in the x-direction, which is orthogonal to the axis of symmetry.

    摘要翻译： 提供了一种用于在具有小于或等于约193纳米的波长的光的照明系统的场平面中形成弧形场的光学元件。 光学元件包括多个镜面，每个具有非球面反射元件阵列。 非球面反射元件阵列具有在x方向上具有非球面曲率的多个圆柱形反射镜。 多个镜面形成嵌套反射镜并且包括一对在其间具有间隔dspace的相邻镜面。 弧形场具有对称轴。 场平面由平行于对称轴的y方向的矢量和与对称轴正交的x方向的矢量限定。