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    System and method for multi-exposure pattern decomposition
    8.
    发明授权
    System and method for multi-exposure pattern decomposition 有权
    多曝光模式分解的系统和方法

    公开(公告)号：US07861196B2

    公开(公告)日：2010-12-28

    申请号：US12023512

    申请日：2008-01-31

    申请人： Judy Huckabay ,  Weiping Fang ,  Chung-Shin Kang ,  Shiying Zhou

    发明人： Judy Huckabay ,  Weiping Fang ,  Chung-Shin Kang ,  Shiying Zhou

    IPC分类号： G06F17/50

    CPC分类号： G06F17/5068

    摘要： Some embodiments provide a method and system for identifying error markers for patterns within a design layout that do not meet the manufacturing constraints. Some embodiments extend a region from the error marked region to extract a pattern for decomposition analysis. Some embodiments compare the extracted pattern to known patterns stored in a library, which also stores at least one previously computed decomposition solution for each known pattern. For an extracted pattern existing within the library, some embodiments retrieve the previously computed decomposition solution from the library. For an extracted pattern that does not exist within the library, some embodiments use one or more simulations to determine a decomposition solution for the extracted pattern. The resulting decomposition solution replaces the extracted pattern within the design layout producing a variant of the original layout that contains the decomposed solution for the pattern.

    摘要翻译： 一些实施例提供了用于识别不符合制造约束的设计布局内的图案的误差标记的方法和系统。 一些实施例将区域从错误标记区域扩展以提取用于分解分析的模式。 一些实施例将提取的图案与存储在库中的已知图案进行比较，库中还存储了每个已知图案的至少一个先前计算的分解解。 对于库中存在的提取模式，一些实施例从库中检索先前计算的分解解。 对于在库内不存在的提取模式，一些实施例使用一个或多个模拟来确定所提取模式的分解解。 所得到的分解解代替了设计布局中提取的图案，从而产生了原始布局的变体，该变体包含该模式的分解解。

    Method and apparatus for using a database to quickly identify and correct a manufacturing problem area in a layout
    9.
    发明申请
    Method and apparatus for using a database to quickly identify and correct a manufacturing problem area in a layout 有权
    使用数据库快速识别和纠正布局中的制造问题区域的方法和装置

    公开(公告)号：US20070198958A1

    公开(公告)日：2007-08-23

    申请号：US11637424

    申请日：2006-12-12

    申请人： Zong Wu Tang ,  Daniel N. Zhang ,  Juhwan Kim ,  Hua Song ,  Weiping Fang ,  Lawrence S. Melvin

    发明人： Zong Wu Tang ,  Daniel N. Zhang ,  Juhwan Kim ,  Hua Song ,  Weiping Fang ,  Lawrence S. Melvin

    IPC分类号： G06F17/50

    CPC分类号： G06F17/5081 ,  G03F1/36 ,  G05B2219/45031 ,  G06F2217/12 ,  Y02P90/265

    摘要： One embodiment provides a system for using a database to quickly identify a manufacturing problem area in a layout. During operation, the system receives a first check-figure which identifies a first area in a first layout, wherein the first area is associated with a first feature. Next, the system determines a first sample using the first check-figure, wherein the first sample represents the first layout's geometry within a first ambit of the first check-figure, wherein the first sample's geometry is expected to affect the shape of the first feature. The system then performs a model-based simulation using the first sample to obtain a first simulation-result which indicates whether the first feature is expected to have manufacturing problems. Next, the system stores the first simulation-result in a database which is used to quickly determine whether a second feature is expected to have manufacturing problems.

    摘要翻译： 一个实施例提供了一种使用数据库来快速识别布局中的制造问题区域的系统。 在操作期间，系统接收第一检查图，其识别第一布局中的第一区域，其中第一区域与第一特征相关联。 接下来，系统使用第一检查图确定第一样本，其中第一样本表示第一检查图的第一范围内的第一布局的几何形状，其中预期第一样本的几何形状影响第一特征的形状 。 然后，系统使用第一样本执行基于模型的模拟，以获得第一模拟结果，其指示第一特征是否预期具有制造问题。 接下来，系统将第一模拟结果存储在用于快速确定第二特征是否期望具有制造问题的数据库中。

    Distributed hierarchical partitioning framework for verifying a simulated wafer image
    10.
    发明申请
    Distributed hierarchical partitioning framework for verifying a simulated wafer image 有权
    用于验证模拟晶片图像的分布式分层框架

    公开(公告)号：US20070055953A1

    公开(公告)日：2007-03-08

    申请号：US11510415

    申请日：2006-08-25

    申请人： Weiping Fang ,  Huijuan Zhang ,  Yibing Wang ,  Zongwu Tang

    发明人： Weiping Fang ,  Huijuan Zhang ,  Yibing Wang ,  Zongwu Tang

    IPC分类号： G06F17/50 ,  G06K9/00

    CPC分类号： G03F1/36 ,  G03F1/68

    摘要： A system that verifies a simulated wafer image against an intended design. During operation, the system receives a design. Next, the system generates a skeleton from the design, wherein the skeleton specifies cell placements and associated bounding boxes for the cell placements, but does not include geometries for the cell placements. The system then computes environments for cell placements based on the skeleton. Next, the system generates templates for cell placements, wherein a template for a cell placement specifies the cell placement and the environment surrounding the cell placement. The system then generates the simulated wafer image by performing model-based simulations for cell placements associated with unique templates.

    摘要翻译： 根据预期设计验证模拟晶片图像的系统。 在运行过程中，系统接收到一个设计。 接下来，系统从设计生成骨架，其中骨架指定单元格展示位置的单元格展示位置和相关联的边界框，但不包括单元格展示位置的几何。 然后系统基于骨架计算单元格展示位置的环境。 接下来，系统生成单元格展示位置的模板，其中单元格展示位置的模板指定单元格展示位置和单元格展示位置周围的环境。 然后，系统通过对与唯一模板相关联的单元格展示执行基于模型的模拟来生成模拟的晶片图像。