公开(公告)号：US20130106313A1

公开(公告)日：2013-05-02

申请号：US13465774

申请日：2012-05-07

申请人： Young Do KIM ,  Jin Ho JU ,  Min KANG ,  Woo Sub SHIM

发明人： Young Do KIM ,  Jin Ho JU ,  Min KANG ,  Woo Sub SHIM

IPC分类号： H05B33/12 ,  G02B5/22

CPC分类号： H01L33/58 ,  C09K11/06 ,  C09K2211/1007 ,  C09K2211/1025 ,  G02B5/201 ,  H01L27/156 ,  H01L33/504 ,  H05B33/14

摘要： Provided is a color filter array panel. The color filter array panel according to exemplary embodiments of the present invention includes: a substrate; a color filter disposed on the substrate and including a colorant including at least one of a pigment and a dye, and a solid fluorescent material; and a light source unit supplying light to the color filter, in which the solid fluorescent material is an aggregation induced emission enhancement (AIEE) material of which a liquid state is solidified to increase fluorescence efficiency.

摘要翻译： 提供了一种滤色器阵列面板。 根据本发明的示例性实施例的滤色器阵列面板包括：基板; 滤色片，其设置在所述基板上，并且包括着色剂，所述着色剂包括颜料和染料中的至少一种和固体荧光材料; 以及向滤色器供给光的光源单元，其中固体荧光材料是液态固化的聚集诱发发射增强（AIEE）材料，以提高荧光效率。

公开(公告)号：US20120248480A1

公开(公告)日：2012-10-04

申请号：US13211360

申请日：2011-08-17

申请人： Min KANG ,  Jong Kwang LEE ,  Sang Hee JANG ,  Jin Ho JU

发明人： Min KANG ,  Jong Kwang LEE ,  Sang Hee JANG ,  Jin Ho JU

IPC分类号： H01L33/50 ,  H01L33/58

CPC分类号： H01L27/1248 ,  H01L27/1218 ,  H01L27/1262 ,  H01L27/3279

摘要： Provided are a display device and a method of manufacturing of the display device. The display device includes a substrate subjected to a primary preprocess; a conductor formed on the substrate and subjected to a secondary preprocess; and an insulating layer formed on the substrate and the conductor, in which the primary preprocess is performed for a surface energy of the first substrate higher than a first reference value and the secondary preprocess is performed for a surface energy of the conductor lower than a second reference value.

摘要翻译： 提供了显示装置和显示装置的制造方法。 显示装置包括经受一次预处理的基板; 形成在基板上并进行二次预处理的导体; 以及形成在所述基板和所述导体上的绝缘层，其中对所述第一基板的表面能进行高于第一参考值的所述初步预处理，并且对于所述导体的表面能进行二次预处理，所述表面能低于第二基准 参考值。

公开(公告)号：US20120156594A1

公开(公告)日：2012-06-21

申请号：US13110024

申请日：2011-05-18

申请人： Jong Kwang LEE ,  Jin Ho JU ,  Min KANG ,  Hyang-Shik KONG

发明人： Jong Kwang LEE ,  Jin Ho JU ,  Min KANG ,  Hyang-Shik KONG

IPC分类号： G03F1/00

CPC分类号： G03F1/50

摘要： A photomask includes a substrate, a mask pattern layer and a super lens. The substrate includes a pattern which includes protruding portions, and open portions between the protruding portions. The mask pattern layer is in the open portions of the pattern and fills the open portions of the pattern. The super lens is on the substrate and the mask pattern layer.

摘要翻译： 光掩模包括基板，掩模图案层和超透镜。 基板包括包括突出部分和突出部分之间的开口部分的图案。 掩模图案层位于图案的开口部分并填充图案的开口部分。 超透镜位于基板和掩模图案层上。

公开(公告)号：US20120244471A1

公开(公告)日：2012-09-27

申请号：US13224935

申请日：2011-09-02

申请人： Jeong Won KIM ,  Jin Ho JU ,  Jong Kwang LEE ,  Min KANG ,  Tae Gyun KIM

发明人： Jeong Won KIM ,  Jin Ho JU ,  Jong Kwang LEE ,  Min KANG ,  Tae Gyun KIM

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/027

CPC分类号： G03F7/40 ,  G02F1/134309 ,  G02F1/13439 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/023 ,  G03F7/30

摘要： A method for forming a pattern includes forming a photosensitive film by coating a photosensitive resin composition on a substrate, exposing the photosensitive film to light through a mask that includes a light transmission region and a non-light transmission region, coating a developing solution on the photosensitive film, and forming a photosensitive film pattern by baking the photosensitive film, wherein the photosensitive resin composition includes an alkali soluble base resin, a photoacid generator and a photoactive compound.

摘要翻译： 形成图案的方法包括通过将感光性树脂组合物涂布在基板上来形成感光膜，通过包含透光区域和非透光区域的掩模将感光膜曝光，将显影液涂布在 感光性膜，通过烘烤感光性膜形成感光性膜图案，其中，感光性树脂组合物含有碱溶性基础树脂，光致酸产生剂和光活性化合物。

公开(公告)号：US20120138934A1

公开(公告)日：2012-06-07

申请号：US13103615

申请日：2011-05-09

申请人： Min KANG ,  Jin Ho JU ,  Jong Kwang LEE

发明人： Min KANG ,  Jin Ho JU ,  Jong Kwang LEE

IPC分类号： H01L51/52 ,  H01L51/56

CPC分类号： G02F1/1368 ,  G02F1/136286

摘要： The present invention relates to a display device and a method of manufacturing the display device. The display device includes an insulation substrate, a gate conductor including a gate line and a gate electrode, an organic layer on the insulation substrate and the gate line, and a data conductor including a data line, a drain electrode, and a source electrode. The data line crosses the gate line. The gate electrode, the drain electrode, and the source electrode form a transistor, and a thickness of the gate electrode may be larger than a thickness of the gate line.

摘要翻译： 本发明涉及一种显示装置及其制造方法。 显示装置包括绝缘基板，包括栅极线和栅电极的栅极导体，绝缘基板上的有机层和栅极线，以及包括数据线，漏极和源电极的数据导体。 数据线穿过栅极线。 栅电极，漏电极和源电极形成晶体管，栅电极的厚度可以大于栅极线的厚度。

公开(公告)号：US20130017637A1

公开(公告)日：2013-01-17

申请号：US13486858

申请日：2012-06-01

申请人： Woo-Seok JEON ,  Jong Kwang LEE ,  Jin Ho JU ,  Min KANG ,  Hoon KANG ,  Seung Bo SHIM ,  Gwui-Hyun PARK ,  Bong-Yeon KIM

发明人： Woo-Seok JEON ,  Jong Kwang LEE ,  Jin Ho JU ,  Min KANG ,  Hoon KANG ,  Seung Bo SHIM ,  Gwui-Hyun PARK ,  Bong-Yeon KIM ,  Seon-Il KIM

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L33/62 ,  G03F7/22

CPC分类号： G03F7/203 ,  G03F7/20 ,  G03F7/70466 ,  Y10S438/942

摘要： A method for forming a fine exposure pattern where a width and an interval of the pattern are each 1CD, by first exposing a photoresist by using an exposure mask where an interval ratio of a light shielding part and a light transmission part is 2CD:1CD to 4CD:1CD, and then second exposing the photoresist after the exposure mask is shifted at a predetermined interval, or second exposing the photoresist by using an exposure mask formed at a position where a light transmission part is shifted at a predetermined interval, and developing the photoresist, such that it is possible to form a display device having a pixel electrode including a plurality of fine branch electrodes having a smaller width and interval than a resolution of an exposure apparatus.

摘要翻译： 通过使用遮光部和光透射部的间隔比为2CD:1CD的曝光掩模，首先使光致抗蚀剂曝光，形成图案的宽度和间隔为1CD的微细曝光图案的方法， 4CD：1CD，然后在曝光掩模以预定间隔移动之后第二次曝光光致抗蚀剂，或者通过使用形成在光透射部分以预定间隔移动的位置处的曝光掩模来第二次曝光光致抗蚀剂， 光致抗蚀剂，使得可以形成具有像素电极的显示装置，该像素电极包括具有比曝光装置的分辨率更小的宽度和间隔的多个细分支电极。

公开(公告)号：US20130143149A1

公开(公告)日：2013-06-06

申请号：US13565659

申请日：2012-08-02

申请人： Min KANG ,  Jong Kwang LEE ,  Jin Ho JU ,  Bong-Yeon KIM ,  Hyang-Shik KONG ,  Kyoung Sik KIM ,  Seung Hwa BAEK

发明人： Min KANG ,  Jong Kwang LEE ,  Jin Ho JU ,  Bong-Yeon KIM ,  Hyang-Shik KONG ,  Kyoung Sik KIM ,  Seung Hwa BAEK

IPC分类号： G03F1/00 ,  G03F7/20 ,  G03F1/68

CPC分类号： G03F1/50 ,  G03F1/38 ,  G03F7/70575

摘要： Provided are a photomask, including: a substrate; an opaque pattern formed on the substrate and made of a material which does not penetrate light; a first dielectric layer formed on the substrate and the opaque pattern; and a negative refractive-index meta material layer formed on the first dielectric layer, in which a dispersion mode used in the photomask uses a Quasi bound mode, a manufacturing method of the photomask, and a manufacturing method of a substrate using the photomask.

摘要翻译： 提供一种光掩模，包括：基底; 在基板上形成的不透光的材料制成的不透明图案; 形成在所述基板和所述不透明图案上的第一电介质层; 以及形成在第一介质层上的负折射率超材料层，其中在光掩模中使用的分散模式使用准界限模式，光掩模的制造方法以及使用光掩模的基板的制造方法。