公开(公告)号：WO2005062100A1

公开(公告)日：2005-07-07

申请号：PCT/JP2004/019264

申请日：2004-12-22

Applicant: 株式会社 ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: G02B7/02

CPC classification number: G03F7/70825 ,  G02B7/023 ,  G03F7/70883

Abstract: 　光学素子の姿勢を細かく調整することのできるとともに、内部の気密性を高く保つことのできる光学素子保持装置を提供する。光学素子保持装置は、枠部材（４１）と、該枠部材の内側に設けられ、光学素子を保持するレンズ枠体とを備える。枠部材に設けられた変位モジュール（８２）は、光学素子の位置をレンズ枠体を介して調整する。Ｏリング（８８，９０）が、変位モジュールと枠部材との間に設けられている。

Abstract translation: 一种光学元件保持装置，其能够微调光学元件的姿态，并且能够将内部气密性保持为高。 光学元件保持装置具有框架构件（41）和设置在框架构件内部并保持光学元件的透镜框体。 设置在框架构件上的位移模块（82）通过透镜框体调节光学元件的位置。 O形环（88,90）布置在位移​​模块和框架构件之间。

公开(公告)号：WO2004044656A3

公开(公告)日：2004-09-23

申请号：PCT/DE0303720

申请日：2003-11-10

Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG ,  SCHEDEL THORSTEN ,  SCHMIDT SEBASTIAN ,  HRASCHAN GUENTER

Inventor： SCHEDEL THORSTEN ,  SCHMIDT SEBASTIAN ,  HRASCHAN GUENTER

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70883 ,  G03F7/70925 ,  G03F7/70933

Abstract: A device (60) for determining the constituents of a substance in a gas or gas mixture performs measurements on the gas or gas mixture used for washing a lens (10) in a projection apparatus (41) for projecting structures onto a substrate (100). The results of a first measurement performed on the gas fed to the lens (10) and the results of a measurement performed on the gas led away from the lens are compared to one another. If a substance is involved that, in particular, is one that contaminates, whereby leading to the formation of deposits on the lens (10) under the influence of high-energy radiation emitted by a light source (14), photochemical reactions, which adversely lead to the formation of deposits on the surface of the lens (10) can be inferred from the difference ensuing from said comparison. A signal is generated as a result of the comparison and can be used to take preventive measures against a degradation of the lens (10). Measuring devices (60), which can be mass spectrometers, electric or optical sensors, and other known methods can be used for performing substance analysis.

Abstract translation: 通过用于确定物质的比例在气体或气体混合物中的气体或气体混合物的测量在用于的图案的基板（100）上投影的投影装置（41），冲洗的透镜（10）的装置（60）的装置执行。 在透镜上的第一测量结果（10）供给的气体与从透镜移除（10）的气体的测量结果进行比较。 如果是在特定的一个污染物质，其通过照明源（14）产生高能量辐射的影响下，透镜（10）上的沉积，然后在不利地导致光化学反应的沉积在透镜的表面上的差 （10）是关闭的。 作为比较的结果可以用针对所述透镜（10）的降解的预防措施进行时产生的信号。 作为测量设备（60）质谱仪，电或光学传感器以及其它已知的方法可用于分析物质。

公开(公告)号：WO2004066455A2

公开(公告)日：2004-08-05

申请号：PCT/EP2004/000330

申请日：2004-01-17

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  HAHNEMANN, Otto

Inventor： HAHNEMANN, Otto

IPC: H01S

CPC classification number: G03F7/70883 ,  G03F7/70933

Abstract: Eine Projektionsbelichtungsanlage (1) ist mit einer Beleuchtungseinrichtung (3) mit einer Lichtquelle, insbesondere einem UV-Licht emitierenden Laser, mit einem Projektionsobjektiv (7), mit einer Reticle-Ebene, in der ein Reticle (5) angeordnet ist, mit einer Wafer-Ebene, in der ein Wafer (2) angeordnet ist, und mit einem Spülgassystem zum Spülen des Innenraumes des Projektionsobjektives (7) und/oder der äusseren Bereiche, insbesondere der Reticle-Ebene und der Wafer-Ebene, versehen. Wenigstens eine Einrichtung (25,32,33) zur Überwachung wenigstens eines Spülgasstromes, die bei Unterschreiten einer vorgegebenen Spülgasdurchflussmenge die Strahlung der Lichtquelle zu dem Projektionsobjektiv (7) unterbricht, ist vorgesehen. Die Einrichtung (25,32,33) zur Überwachung des Spülgasstromes ist über eine Steuereinrichtung mit der Lichtquelle verbunden. Die Steuereinrichtung (27) ist mit einer Zeitschalteinrichtung (36) versehen.

Abstract translation: 投射曝光系统（1）用的照明装置（3），其具有光源，特别是UV光emitierenden激光，具有投影透镜（7），具有一个光罩平面，其中一个标线片（5）被布置成与晶片 平面，其中一个晶片（2）布置，并用吹扫气体提供吹扫投射物镜（7）和/或外部区域的内部，特别是线网面和晶片平面。 至少一个装置（25,32,33），用于监视至少一个净化气体流，其中断光源到投射透镜（7）下降到低于预定Spülgasdurchflussmenge提供的辐射。 用于监测清洗气体流的装置（25,32,33）通过与所述光源的控制装置连接。 所述控制装置（27）设置有一个计时器装置（36）。

公开(公告)号：WO2003044598A1

公开(公告)日：2003-05-30

申请号：PCT/US2002/036746

申请日：2002-11-15

Applicant: ZYGO CORPORATION ,  HILL, Henry, A.

Inventor： HILL, Henry, A.

IPC: G03B27/58

CPC classification number: G01B9/02052 ,  G01B9/02003 ,  G01B9/0207 ,  G01B2290/45 ,  G01B2290/70 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70883

Abstract: Methods and system for compensating for effects of changes and variations of gas refractivity in a measurment and/or reference beam path of an interferometer are disclosed.

Abstract translation: 公开了用于补偿干涉仪的测量和/或参考光束路径中的气体折射率的变化和变化的影响的方法和系统。

公开(公告)号：WO2003036695A1

公开(公告)日：2003-05-01

申请号：PCT/JP2002/010985

申请日：2002-10-23

Applicant: 株式会社 ニコン ,  西川 仁 ,  大和 壮一

Inventor： 西川 仁 ,  大和 壮一

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70808 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70933

Abstract: A method for purging a light−absorbing material from an optical path of exposure light with high efficiency and economically. When an exposure apparatus body (12) and a light source (11) are started up, a purge gas is fed to the exposure apparatus at a high flow rate. The illuminance of the exposure light is measured at an illumination optical system (20) relatively near the light source (11), and at a place near a substrate (W) relatively far from the light source (11). When the ratio between the measured illuminances is in a predetermined range, the purge gas feed mode is changed to a low flow rate mode.

Abstract translation: 一种高效率，经济地从曝光光的光路中吹扫光吸收材料的方法。 当曝光装置主体（12）和光源（11）启动时，净化气体以高流量被供给到曝光装置。 曝光光的照度在相对靠近光源（11）的照明光学系统（20）处和在与光源（11）相对较远的衬底（W）附近的位置处被测量。 当测量的照度之间的比例在预定范围内时，净化气体供给模式变为低流量模式。

公开(公告)号：WO2003030229A1

公开(公告)日：2003-04-10

申请号：PCT/JP2002/009954

申请日：2002-09-26

Applicant: 株式会社ニコン ,  大和 壮一 ,  長坂 博之

Inventor： 大和 壮一 ,  長坂 博之

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70866 ,  G03F7/70883

Abstract: An aligner in which light absorbing substances can be removed appropriately from the space between a projection optical system and a substrate without having any effect on the peripheral apparatus. The aligner has a gas supply port for supplying an energy-beam-permeable gas to the space between the projection optical system and the substrate, and an exhaust port provided on the outside of the gas supply port while being directed toward the space and discharging a gas containing the permeable gas from the space at a rate higher than the supply rate of the permeable gas.

Abstract translation: 可以从投影光学系统和基板之间的空间适当地去除光吸收物质而不对外围设备产生任何影响的对准器。 对准器具有用于向投影光学系统和基板之间的空间提供能量透过性气体的气体供给口，以及设置在气体供给口的外侧并朝向该空间排出的排气口 以比可渗透气体的供给速率高的速度从空间容纳可渗透气体的气体。

公开(公告)号：WO2002065213A1

公开(公告)日：2002-08-22

申请号：PCT/US2001/042992

申请日：2001-11-07

Applicant: ASML US, INC.

Inventor： HELMUS, June, L. ,  MCCULLOUGH, Andrew, W.

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70258 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70933

Abstract: The present invention provides a method and system for controlling the refractive index of gaseous mixture of the projection optics of a lithographic tool. In one embodiment, the present invetion corrects projection optic aberrations due to altitude specific barometric pressure variations. Furthermore, the present invetion provides control over the aberrations of an optical system, the ability to compensate for altitude changes, teh ability to compensate for pressure changes, and the ability to purge gases fro teh optical system. In an embodiment, the system of the present inveiton includes at least one gas supply to provide a gas for a mixture, at least one mass flow controller associated with each gas supple, where the mass flow controller measures and controls the quantity of a respective gas for the mixture, and at least one flow gauge, or filter arrangement, to substantially maintain laminar flow within the lithography apparatus. According to another embodiment of the present invention, the system further includes at least one filter to purify each gas for each gas supply, and at least one temperature control unit to maintain the temperature of the mixture at predetermined thermal specifications.

Abstract translation: 本发明提供了一种用于控制光刻工具的投影光学器件的气体混合物的折射率的方法和系统。 在一个实施例中，由于高度特异性大气压力变化，本投影校正投影光学像差。 此外，本次投入提供对光学系统的像差的控制，补偿高度变化的能力，补偿压力变化的能力以及清除光学系统中的气体的能力。 在一个实施例中，本发明的系统包括至少一个气体供应以提供用于混合物的气体，至少一个与每个气体柔性相关联的质量流量控制器，其中质量流量控制器测量和控制相应气体的量 以及至少一个流量计或过滤器装置，以基本维持光刻设备内的层流。 根据本发明的另一个实施例，系统还包括至少一个净化每个气体供应源的气体的过滤器和至少一个温度控制单元，以将混合物的温度保持在预定的热规格。

公开(公告)号：WO01011665A1

公开(公告)日：2001-02-15

申请号：PCT/JP2000/005245

申请日：2000-08-04

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70866 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70916

Abstract: An optical device for illumination includes a first space (SP1) surrounding an optical path of an energy beam for irradiating an object, a second space (SP2) surrounding the first space (SP1), and a third space (SP3) surrounding the second space (SP2). The first to third spaces (SP1, SP2, SP3) are controlled to have different target doping concentrations. A source of contamination such as an actuator can thus be isolated to maintain the space surrounding the optical path chemically clean.

Abstract translation: 用于照明的光学装置包括围绕用于照射物体的能量束的光路的第一空间（SP1），围绕第一空间（SP1）的第二空间（SP2）和围绕第二空间的第三空间（SP3） （SP2）。 第一至第三空间（SP1，SP2，SP3）被控制为具有不同的目标掺杂浓度。 因此可以隔离诸如致动器的污染源，以保持光路周围的空间化学清洁。

公开(公告)号：WO01008204A1

公开(公告)日：2001-02-01

申请号：PCT/JP2000/004871

申请日：2000-07-21

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70866 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70933

Abstract: An exposing method in which the gas present at least along a part of the optical path of an exposing beam can be stably replaced with a gas through which the exposing beam is transmitted at low operating cost. The gas in a gas-tight unit (8) enclosing a beam matching unit, an illuminating optical system, a reticle stage system, a projection optical system, or a wafer stage system of an exposing apparatus is replaced with a low-absorption gas (GA, GB) through which the exposing beam is transmitted by a gas replacing unit (S). After a predetermined repetition of a step of reducing the pressure of the gas in the gas-tight unit (8) to a first pressure lower than the atmospheric pressure by using a gas evacuating device (7) and a step of supplying the low-absorption gas (GA, GB) in to the gas-tight unit (8) to a pressure between the first pressure and the atmospheric pressure, the low-absorption gas (GA, GB) is supplied into the gas-tight unit (8) to nearly the atmospheric pressure.

Abstract translation: 一种曝光方法，其中至少沿着曝光光束的光路的一部分存在的气体可以以低运行成本透过曝光光束的气体被稳定地代替。 封闭曝光装置的光束匹配单元，照明光学系统，标线片平台系统，投影光学系统或晶片台系统的气密单元（8）中的气体被替换为低吸收气体 GA，GB），通过气体置换单元（S）透射曝光光束。 在通过使用气体排出装置（7）预定重复将气密单元（8）中的气体的压力降低到低于大气压的第一压力的步骤之后，以及提供低吸收 气体（GA，GB）输送到气密单元（8）中至第一压力和大气压之间的压力，将低吸收气体（GA，GB）供给到气密单元（8）至 接近大气压力。

公开(公告)号：WO00074118A1

公开(公告)日：2000-12-07

申请号：PCT/JP2000/003267

申请日：2000-05-22

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70858 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70891

Abstract: Air conditioners (52, 56, 58) arranged in a machine room (14) communicate through channels (26, 24) with an exposure room (16) to be air-conditioned. Exhaust from the exposure room returns to the machine room through the exhaust channel provided with a chemical filter (CF1), which removes substantially all contaminant attributed to the gassing of the exposure system (22) and included in the exhaust from the exposure room to the machine room. As a result, the exposure room is kept chemically clean. Accurate exposure controls and high throughput are maintained over a long period.

Abstract translation: 布置在机房（14）中的空调（52,56,58）通过通道（26,24）与曝光室（16）进行通信，以进行空调。 曝光室的排气通过设置有化学过滤器（CF1）的排气通道返回到机房，其基本上除去归因于曝光系统（22）的放气并且包括在从曝光室排出的废气中的所有污染物 机房。 因此，曝光室保持化学清洁。 长时间保持准确的曝光控制和高通量。