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    PELLISTOR
    51.
    发明申请
    PELLISTOR 审中-公开
    催化燃烧

    公开(公告)号：WO00014307A1

    公开(公告)日：2000-03-16

    申请号：PCT/GB1999/002644

    申请日：1999-08-11

    IPC: C25D3/50 ,  C25D5/02 ,  C25D7/00 ,  G01N27/16

    CPC classification number: C25D7/00 ,  C25D3/50 ,  C25D5/02 ,  G01N27/16

    Abstract: A method of manufacturing a pellistor comprises providing a porous catalyst layer (11) on a heater by electrodepositing material from a mixture containing the catalyst and a structure-directing agent in an amount sufficient to form an homogenous lyotropic liquid crystalline phase in the mixture.

    Abstract translation: 一种制造薄膜敏感器的方法包括通过从含有催化剂和结构导向剂的混合物的电解沉积材料在加热器上提供多孔催化剂层（11），其量足以在混合物中形成均匀的溶致液晶相。

    VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG HOCHGENAU LOKALISIERTER BREITBANDABSORBER FÜR 2D- UND 3D-OBERFLÄCHEN
    52.
    发明申请
    VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG HOCHGENAU LOKALISIERTER BREITBANDABSORBER FÜR 2D- UND 3D-OBERFLÄCHEN 审中-公开

    公开(公告)号：WO2022253385A1

    公开(公告)日：2022-12-08

    申请号：PCT/DE2022/100407

    申请日：2022-05-31

    Applicant: LEIBNIZ-INSTITUT FÜR PHOTONISCHE TECHNOLOGIEN E.V.

    Inventor： STANCA, Sarmiza-Elena ,  IHRING, Andreas ,  HÄNSCHKE, Frank ,  ZIEGER, Gabriel ,  SCHMIDT, Heidemarie

    IPC: C25D3/50 ,  C25D5/02 ,  C25D5/00

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung hochgenau lokalisierter Breitbandabsorber für strukturierte 2D- und 3D-Oberflächen. Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein Verfahren zur Herstellung hochgenau lokalisierter Breitbandabsorber für 2D- und 3D-Oberflächen, anzugeben, welches zu hochgenau lokalisierten, porösen Edelmetall-Breitbandabsorber-Nanoschichten mit einem niedrigen Reflexionsvermögen und einem hohen Absorptionsvermögen für sichtbares Licht und Infrarotstrahlung im Wellenlängenbereich mit Wellenzahlen von 25000 cm-1 bis 600 cm-1 und darüber hinaus führt und gleichzeitig eine hohe Skalierbarkeit und Reproduzierbarkeit bei deren Herstellung ermöglicht, wird dadurch gelöst, dass in situ mittels wasserfreier Mikroelektrochemie in einer elektrochemischen Zelle auf mikrostrukturierten 2D- und 3D-Metall-Mehrkontaktkomponenten poröse Edelmetall-Breitbandabsorber-Nanoschichten abgeschieden werden.

    PROCEDE DE PREPARATION PAR ELECTRODEPOSITION D'UN ASSEMBLAGE MEMBRANE ELECTRODE POUR PILE A COMBUSTIBLE
    57.
    发明申请
    PROCEDE DE PREPARATION PAR ELECTRODEPOSITION D'UN ASSEMBLAGE MEMBRANE ELECTRODE POUR PILE A COMBUSTIBLE 审中-公开
    通过电沉积制备燃料电池膜组件的方法

    公开(公告)号：WO2015124838A1

    公开(公告)日：2015-08-27

    申请号：PCT/FR2015/050137

    申请日：2015-01-20

    Applicant: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES

    Inventor： FOUDA-ONANA, Frédéric

    IPC: C25D5/56 ,  H01M4/88 ,  H01M4/90 ,  H01M4/92 ,  C25D3/50

    CPC classification number: H01M4/881 ,  C25D3/50 ,  C25D5/56 ,  C25D15/00 ,  H01M4/885 ,  H01M4/8853 ,  H01M4/92

    Abstract: Ce procédé de préparation par électrodéposition d'un assemblage membrane électrode pour pile à combustible, comprend les étapes suivantes: -dépôt d'une composition contenant au moins un précurseur d'un métal de transitionet des particules électroniquement conductrices, sur une face principale d'une membrane échangeusede protons; -séchage du dépôt; -positionnement de la membrane échangeuse de protons dans une cellule d'électrodéposition; -réduction du précurseur d'un métal de transition en particules de métal de transition présentant un degré d'oxydation égal à 0, par circulation d'un courant électrique dans la cellule d'électrodéposition; -obtention d'un assemblage membrane électrode dont la membrane échangeuse de protonscomprend une face principale contenant des particules du métal de transition présentant un degré d'oxydation égal à 0.

    Abstract translation: 本发明涉及一种通过电沉积制备燃料电池电极膜组件的方法，包括以下步骤：在质子交换膜的主表面上沉积含有至少一种过渡金属前体和电子导电颗粒的组合物; 干燥沉积物; 将质子交换膜定位在电沉积池中; 通过使电流在电沉积电池中流动，将过渡金属前体还原为具有等于0的氧化度的过渡金属颗粒; 并且获得电极膜组件，其质子交换膜包括含有氧化程度等于0的过渡金属颗粒的主表面。

    PROCEDE DE FABRICATION D'UN BAIN ELECTROLYTIQUE POUR LA REALISATION D'UNE SOUS-COUCHE METALLIQUE A BASE DE PLATINE SUR UN SUBSTRAT METALLIQUE
    58.
    发明申请
    PROCEDE DE FABRICATION D'UN BAIN ELECTROLYTIQUE POUR LA REALISATION D'UNE SOUS-COUCHE METALLIQUE A BASE DE PLATINE SUR UN SUBSTRAT METALLIQUE 审中-公开
    用于制造金属基底上的基于铂金属的金属层的电解槽的方法

    公开(公告)号：WO2013156737A1

    公开(公告)日：2013-10-24

    申请号：PCT/FR2013/050855

    申请日：2013-04-18

    Applicant: SNECMA

    Inventor： HUGOT, Juliette ,  LAGRANGE, Frédéric ,  MOLET, Hervé

    IPC: C25D3/50 ,  C25D3/52 ,  C25D5/34

    CPC classification number: C25D3/52 ,  C25D3/50 ,  C25D5/34

    Abstract: L'invention concerne un procédé de fabrication d'un bain électrolytique pour la réalisation d'une sous-couche métallique à base de platine sur un substrat métallique, qui comporte les étapes suivantes : a) on fournit un premier système comportant des ligands et des groupements fonctionnels aminés, ledit premier système étant constitué d'une solution aqueuse avec ligand aminé comprenant au moins un composé X-(NH 2 ) n´ avec X appartenant au groupe constitué de (CH 3 , CH3-CH2, CH3-(CH 2 ) m ), ou NH 3 ou un sel x P- (NH 4 ) + p avec x un radical acide appartenant au groupe constitué de (PO 4 3- , HPO 4 2- , H 2 PO 4 - , HPO 4 2- et H 2 PO 4 - , SO4 2- , HSO 4 - , CH 3 COO - ), n, m et p étant des entiers non nuls, b) on fournit un deuxième système formant un système tampon, c) on fournit un troisième système fournissant un sel métallique, et constitué d'une solution aqueuse avec du platine, d) on fournit un quatrième système permettant d'apporter la propriété conductrice au milieu, e) on mélange les quatre systèmes, ce par quoi on obtient le dit bain électrolytique. Le premier système, le troisième système et le quatrième système sont regroupés en une seule première solution notée B; lors de l'étape c), le troisième système forme une deuxième solution notée A, constituée d'une solution aqueuse avec du platine IV et comprenant de la soude (NaOH). Lors de l'étape e), on réalise les sous étapes suivantes: el) on couvre la première solution B et on porte sa température à 50°C minimum pendant au moins lh30, e2) on ajoute la deuxième solution A dans la première solution B pour former un bain électrolytique qui comporte un complexe de platine aminé. Application à la fabrication d'une sous-couche métallique pour une barrière thermique sur une pièce en superalliage.

    Abstract translation: 本发明涉及一种制造用于在金属基底上生产铂基金属子层的电解槽的方法，其包括以下步骤：a）提供包含配体和胺官能团的第一体系，所述第一体系包括 的含有至少一种化合物X-（NH 2）n的化合物的胺配体的水溶液，其中X属于（CH3，CH3-CH2，CH3-（CH2）m）或NH3或盐xP-（ NH4）+ p，其中x是属于（PO4 3-，HPO4 2-，H 2 PO 4 -HPO 4 2-和H 2 PO 4 - ，SO 4 2-，HSO 4 - ，CH 3 COO-），n，m和p的酸基 非零整数，b）提供形成缓冲系统的第二系统，c）提供金属盐并由铂水溶液组成的第三系统，d）使第四系统能够赋予 提供了介质的导电性能，e）将四个系统混合，通过该系统，所述电解浴为o btained。 第一系统，第三系统和第四系统被分组为由B表示的单个第一解; 在步骤c）期间，第三系统形成由A表示的第二溶液，其由含铂IV的水溶液组成并包含氢氧化钠（NaOH）。 在步骤e）中，执行以下子步骤：e1）第一溶液B被覆盖，其温度至少为50℃至少1小时30分钟，e2）将第二溶液A加入到 第一溶液B以形成包含胺铂络合物的电解浴。 适用于在由超级合金制成的部件上制造用于热障的金属子层。

    メッキ構造体
    60.
    发明申请
    メッキ構造体 审中-公开
    镀层结构

    公开(公告)号：WO2009099067A1

    公开(公告)日：2009-08-13

    申请号：PCT/JP2009/051798

    申请日：2009-02-03

    Applicant: 積水化学工業株式会社 ,  久保田敬士

    Inventor： 久保田敬士

    IPC: C23C18/44 ,  C25D3/50

    CPC classification number: C23C18/44 ,  C25D3/50 ,  H05K3/244

    Abstract: 本発明は、極めて高い導電性を実現したメッキ構造体を提供することを目的とする。 本発明は、金属基材の表面にパラジウムメッキ層が形成されたメッキ構造体であって、前記パラジウムメッキ層は、Ｘ線回折法によって測定される（１１１）面の結晶配向率が４５～６０％、かつ、（２００）面の結晶配向率と（２２０）面の結晶配向率との合計が４０～５５％であるメッキ構造体である。

    Abstract translation: 公开了具有极高导电性的电镀结构。 具体公开了在金属基体的表面形成有钯镀层的电镀结构。 在钯镀层中，通过X射线衍射测定的（111）面的结晶取向率为45〜60％，（200）面的结晶取向率和晶体取向率的总和 （220）平面为40-55％。

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