3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリル誘導体とその製造方法
    2.
    发明申请
    3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリル誘導体とその製造方法 审中-公开
    3-甲基-5-三氟甲基苯并噻吩衍生物及其制备方法

    公开(公告)号:WO2005090289A1

    公开(公告)日:2005-09-29

    申请号:PCT/JP2005/002399

    申请日:2005-02-17

    CPC classification number: C07C253/14 C07C17/12 C07C255/56

    Abstract: A process for producing 3-formyl-5-trifluoromethylbenzonitrile which comprises a first step in which a 3-dihalogenomethylbenzotrifluoride represented by the general formula [1]: [Chemical formula 12] [1] [wherein X and Y represent the same or different halogeno (fluorine, chlorine, bromine, or iodine)] is brominated to obtain a 1-bromo-3-dihalogenomethyl-5-trifluoromethylbenzene represented by the general formula [2]: [Chemical formula 13] [2] [wherein X and Y represent the same or different halogeno (fluorine, chlorine, bromine, or iodine)], a second step in which the 1-bromo-3-dihalogenomethyl-5-trifluoromethylbenzene is hydrolyzed to obtain 1-bromo-3-formyl-5-trifluoromethylbenzene, and a third step in which the 1-bromo-3-formyl-5-trifluoromethylbenzene is cyanated with a cyano compound to obtain 3-formyl-5-trifluoromethylbenzonitrile.

    Abstract translation: 制备3-甲酰基-5-三氟甲基苄腈的方法,其包括第一步,其中由通式[1]表示的3-二卤甲基三氟甲苯:[化学式12] [1] [其中X和Y表示相同或不同的卤代 (氟,氯,溴或碘)]溴化,得到由通式[2]表示的1-溴-3-二卤代甲基-5-三氟甲基苯:[化学式13] [2] [其中X和Y表示 相同或不同的卤代(氟,氯,溴或碘)],其中1-溴-3-二卤代甲基-5-三氟甲基苯水解得到1-溴-3-甲酰基-5-三氟甲基苯的第二步, 和第三步,其中1-溴-3-甲酰基-5-三氟甲基苯用氰基化合物氰化,得到3-甲酰基-5-三氟甲基苄腈。

    含フッ素ジアミンおよびそれを用いた高分子化合物
    4.
    发明申请
    含フッ素ジアミンおよびそれを用いた高分子化合物 审中-公开
    氟化二胺和聚合物形成

    公开(公告)号:WO2008075516A1

    公开(公告)日:2008-06-26

    申请号:PCT/JP2007/071980

    申请日:2007-11-13

    Abstract:  式(1) で表される含フッ素ジアミンが提供される。この式中、R 1 は縮合多環式芳香族炭化水素基を表し、少なくとも1つの-C(CF 3 ) 2 OH基は、少なくとも1つの-NH 2 基と、該縮合多環式芳香族炭化水素基を構成する炭素原子のうち、隣接する炭素同士に結合する関係にある。この含フッ素ジアミンに由来する高分子化合物は優れた低誘電性、低吸水性能を有し、それに加えて、低熱膨張性、高ガラス転移温度を示す。

    Abstract translation: 由式(1)表示的氟化二胺。 在该式中,R 1表示稠合的多环芳族烃基,并且至少一个-C(CF 3)2个OH基团 并且至少一个NH 2基团分别键合到构成稠合多环芳烃基团的碳原子中的两个相邻的碳原子。 来自该氟化二胺的聚合物的低介电特性和低吸水性优异,并且具有降低的热膨胀和高的玻璃化转变温度。

    新規スルホン酸塩及びその誘導体、光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
    6.
    发明申请
    新規スルホン酸塩及びその誘導体、光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 审中-公开
    新型磺酸盐及其衍生物,光致发生剂,耐光材料和图案形成方法,使用光致发生剂

    公开(公告)号:WO2009057769A1

    公开(公告)日:2009-05-07

    申请号:PCT/JP2008/069928

    申请日:2008-10-31

    Abstract:  下記一般式(A)で示される構造を有する含フッ素スルホン酸塩もしくは、含フッ素スルホン酸基含有化合物が開示されている。 【化101】 式中、nは1~10の整数を示す。Rは置換もしくは非置換の炭素数1~20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数1~20の直鎖状、分岐状又は環状のアルケニル基、置換もしくは非置換の炭素数6~15のアリール基又は炭素数4~15のヘテロアリール基を示す。aは1又は0である。前記含フッ素スルホン酸塩もしくは含フッ素スルホン酸基含有化合物を含む光酸発生剤はArFエキシマレーザー光等に対して高感度で、人体蓄積性にも問題がなく、しかも発生する酸(光発生酸)の酸性度が十分高く、かつ、レジスト溶剤に対する高い溶解性及び樹脂に対する優れた相溶性を有する。

    Abstract translation: 公开了具有由通式(A)表示的结构的氟化磺酸盐或具有氟化磺酸盐基团的化合物。 (A)其中n表示1〜10的整数, R表示取代或未取代的具有1至20个碳原子的直链,支链或环状烷基,取代或未取代的具有1至20个碳原子的直链,支链或环状烯基,取代或未取代的碳原子数6〜15的芳基 ,或碳原子数为4〜15的杂芳基。 a表示1或0的数字。包含氟化磺酸盐或具有氟化磺酸盐基团的化合物的光酸产生剂对ArF准分子激光束等高度敏感,不考虑在 人体可以产生具有足够高酸度的酸(光酸),在抗蚀剂溶剂中具有高溶解度,并且与树脂高度相容。

    含フッ素重合性単量体及びそれを用いた高分子化合物
    10.
    发明申请
    含フッ素重合性単量体及びそれを用いた高分子化合物 审中-公开
    含氟聚合性单体和使用该聚合物的聚合物化合物

    公开(公告)号:WO2006043501A1

    公开(公告)日:2006-04-27

    申请号:PCT/JP2005/019024

    申请日:2005-10-17

    CPC classification number: C07C215/68 C08G69/26 C08G73/06 C08G73/1039

    Abstract:  本発明は、式[1] で表される含フッ素重合性単量体(式[1]中、aは、1~4の整数を表す。)に関する。この単量体は、分子内に複数の重合性アミンを有し、かつ同時にヘキサフルオロイソプロピル基を有することで、撥水性、撥油性、低吸水性、耐熱性、耐候性、耐腐食性、透明性、感光性、低屈折率性、低誘電性などを発現できる有効な重合性単量体として使用することができ、先端高分子材料分野に供することが可能である。

    Abstract translation: 公开了下述式[1]表示的含氟聚合性单体。 (式[1]中,a表示1-4的整数。)通过在含有六氟异丙基的情况下在分子中具有多个聚合性胺,该含氟聚合性单体可以用作显示水的有效的聚合性单体 拒水性,拒油性,低吸水性,耐热性,耐候性,耐腐蚀性,透明性,光敏性,低折射率,低介电性等,因此可以应用于先进的聚合物材料领域。

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