公开(公告)号：WO2015042051A1

公开(公告)日：2015-03-26

申请号：PCT/US2014/055898

申请日：2014-09-16

申请人： KLA-TENCOR CORPORATION

发明人： PLETTNER, Tomas ,  GERLING, John

IPC分类号： H01J37/26

CPC分类号： H01J37/244 ,  H01J37/22 ,  H01J37/28 ,  H01J37/304 ,  H01J2237/24485 ,  H01J2237/24507 ,  H01J2237/24535 ,  H01J2237/24542 ,  H01J2237/2482

摘要： An electromagnetic wakefield detector placed in close proximity to a design trajectory of a non-relativistic charged particle beam produces an optical signal in response to passage of the charged particle beam without interrupting the charged particle beam. A photon detector receives the optical signal and produces a corresponding output. The wakefield detector may be based on the electro optic effect. Specifically, the detector may measure the effect of the charged particle beam a beam of radiation on the phase of radiation travelling parallel to the beam in a nearby electro optic waveguide. This abstract is provided to comply with rules requiring an abstract that will allow a searcher or other reader to quickly ascertain the subject matter of the technical disclosure. It is submitted with the understanding that it will not be used to interpret or limit the scope or meaning of the claims.

摘要翻译： 放置在非相对论带电粒子束的设计轨迹附近的电磁尾迹检测器响应于带电粒子束的通过而产生光信号，而不中断带电粒子束。 光子检测器接收光信号并产生相应的输出。 唤醒场检测器可以基于电光效应。 具体地，检测器可以测量带电粒子束的辐射束对在附近的电光波导中平行于光束传播的辐射的相位的影响。 提供本摘要是为了符合要求摘要的规则，允许搜索者或其他读者快速确定技术公开内容的主题。 提交它的理解是，它不会用于解释或限制权利要求的范围或含义。

公开(公告)号：WO2012075182A3

公开(公告)日：2012-10-04

申请号：PCT/US2011062701

申请日：2011-11-30

申请人： KLA TENCOR CORP ,  MANKOS MARIAN ,  HAN LIQUN ,  JIANG XINRONG ,  RUNYON REX

发明人： MANKOS MARIAN ,  HAN LIQUN ,  JIANG XINRONG ,  RUNYON REX

IPC分类号： H01J37/26 ,  H01J37/06 ,  H01L21/66

CPC分类号： H01J37/04 ,  H01J2237/0458 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/063 ,  H01J2237/1035 ,  H01J2237/14 ,  H01J2237/186 ,  H01J2237/24535

摘要： In one embodiment, a first vacuum chamber of an electron beam column has an opening which is positioned along an optical axis so as to pass a primary electron beam that travels down the column. A source that emits electrons is positioned within the first vacuum chamber. A beam-limiting aperture is configured to pass a limited angular range of the emitted electrons. A magnetic immersion lens is positioned outside of the first vacuum chamber and is configured to immerse the electron source in a magnetic field so as to focus the emitted electrons into the primary electron beam. An objective lens is configured to focus the primary electron beam onto a beam spot on a substrate surface so as to produce scattered electrons from the beam spot. Controllable deflectors are configured to scan the beam spot over an area of the substrate surface.

摘要翻译： 在一个实施例中，电子束列的第一真空室具有沿光轴定位的开口，以便通过沿着该列行进的一次电子束。 发射电子的源被定位在第一真空室内。 光束限制孔被配置成通过发射电子的有限角度范围。 磁浸透镜位于第一真空室的外部，并且被配置为将电子源浸入磁场中，以将发射的电子聚焦到一次电子束中。 物镜被配置为将一次电子束聚焦到衬底表面上的束斑上，以便从束斑产生散射的电子。 可控制偏转器被配置为在衬底表面的区域上扫描束斑。

公开(公告)号：WO2008042668A2

公开(公告)日：2008-04-10

申请号：PCT/US2007/079547

申请日：2007-09-26

申请人： VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. ,  GUPTA, Atul ,  RENAU, Anthony ,  SMATLAK, Donna, L. ,  OLSON, Joseph, C.

发明人： GUPTA, Atul ,  RENAU, Anthony ,  SMATLAK, Donna, L. ,  OLSON, Joseph, C.

CPC分类号： H01J37/3171 ,  H01J37/302 ,  H01J37/304 ,  H01J2237/20207 ,  H01J2237/20214 ,  H01J2237/20228 ,  H01J2237/24507 ,  H01J2237/24535 ,  H01J2237/30455 ,  H01J2237/30488 ,  H01J2237/31703

摘要： A technique for improving ion implantation throughput and dose uniformity is disclosed. In one exemplary embodiment, a method for improving ion implantation throughput and dose uniformity may comprise measuring an ion beam density distribution in an ion beam. The method may also comprise calculating an ion dose distribution across a predetermined region of a workpiece that results from a scan velocity profile, wherein the scan velocity profile comprises a first component and a second component that control a relative movement between the ion beam and the workpiece in a first direction and a second direction respectively, and wherein the ion dose distribution is based at least in part on the ion beam density distribution. The method may further comprise adjusting at least one of the first component and the second component of the scan velocity profile to achieve a desired ion dose distribution in the predetermined region of the workpiece.

摘要翻译： 公开了一种改善离子注入通量和剂量均匀性的技术。 在一个示例性实施例中，用于改善离子注入生产量和剂量均匀性的方法可包括测量离子束中的离子束密度分布。 该方法还可以包括计算由扫描速度分布导致的工件的预定区域上的离子剂量分布，其中扫描速度分布包括第一组分和第二组分，其控制离子束和工件之间的相对运动 在第一方向和第二方向上，并且其中所述离子剂量分布至少部分地基于所述离子束密度分布。 该方法还可以包括调整扫描速度分布的第一分量和第二分量中的至少一个，以在工件的预定区域中实现期望的离子剂量分布。

公开(公告)号：WO2008009139A1

公开(公告)日：2008-01-24

申请号：PCT/CA2007/001304

申请日：2007-07-23

申请人： FIBICS INCORPORATED ,  LAGAREC, Ken, Guillaume ,  PHANEUF, Michael, William

发明人： LAGAREC, Ken, Guillaume ,  PHANEUF, Michael, William

IPC分类号： H01J37/28 ,  G01N15/10 ,  G01N23/225

CPC分类号： H01J37/3005 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/226 ,  H01J2237/24507 ,  H01J2237/24535 ,  H01J2237/2806 ,  H01J2237/30488 ,  H01J2237/31742 ,  H01J2237/31749

摘要： An apparatus for visualizing an ion beam editing operation of a sample. The apparatus comprises a charged particle beam column for producing an charged particle beam and for directing the charged particle beam onto the sample and beam rastering electronics (BRE) for controlling a movement and a dwell time of the charged particle beam. The apparatus further comprises a detector for detecting charged particles stemming from the sample as a result of the charged particle beam impinging on the sample and a multi-channel scalar (MCS) coupled to the detector and to the IBRE, and time-correlated with the BRE, the MCS for binning events detected at the detector as a function of time duration from a start event. Finally, the apparatus comprises an analysis module connected to the MCS for processing data from the MCS into a display signal, and a display module connected to the analysis module for displaying the display signal.

摘要翻译： 一种可视化样品的离子束编辑操作的装置。 该装置包括用于产生带电粒子束的带电粒子束柱，并用于将带电粒子束引导到用于控制带电粒子束的运动和驻留时间的样品和射束扫描电子装置（BRE）上。 该装置还包括一个检测器，用于检测由于带电粒子束入射在样本上而导致样品产生的带电粒子以及耦合到检测器和IBRE的多通道标量（MCS），并与时间相关 BRE，作为起始事件的持续时间的函数的在检测器处检测到的合并事件的MCS。 最后，该装置包括连接到MCS的用于处理来自MCS的数据到显示信号的分析模块，以及连接到分析模块的用于显示显示信号的显示模块。

公开(公告)号：WO2016106421A2

公开(公告)日：2016-06-30

申请号：PCT/US2015067715

申请日：2015-12-28

申请人： AXCELIS TECH INC

发明人： VANDERBERG BO ,  RAY ANDY

IPC分类号： H01J37/304 ,  H01J37/317

CPC分类号： H01J37/3045 ,  H01J37/3007 ,  H01J37/304 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/24405 ,  H01J2237/24514 ,  H01J2237/24528 ,  H01J2237/24535

摘要： A method for improving the productivity of a hybrid scan implanter by determining an optimum scan width is provided. A method of tuning a scanned ion beam is provided, where a desired beam current is determined to implant a workpiece with desired properties. The scanned beam is tuned utilizing a setup Faraday cup. A scan width is adjusted to obtain an optimal scan width using setup Faraday time signals. Optics are tuned for a desired flux value corresponding to a desired dosage. Uniformity of a flux distribution is controlled when the desired flux value is obtained. An angular distribution of the ion beam is further measured.

摘要翻译： 提供了一种通过确定最佳扫描宽度来提高混合扫描注入机的生产率的方法。 提供了一种调整扫描离子束的方法，其中确定期望的束电流以将具有期望特性的工件植入。 扫描的光束利用设置的法拉第杯进行调谐。 调整扫描宽度以使用设置法拉第时间信号获得最佳扫描宽度。 调整光学对应于期望剂量的期望通量值。 当获得期望的通量值时，控制通量分布的均匀性。 进一步测量离子束的角度分布。

公开(公告)号：WO2008117398A1

公开(公告)日：2008-10-02

申请号：PCT/JP2007/056246

申请日：2007-03-26

申请人： 株式会社アドバンテスト ,  山田 章夫 ,  安田 洋 ,  中野 光浩 ,  木内 隆

发明人： 山田 章夫 ,  安田 洋 ,  中野 光浩 ,  木内 隆

IPC分类号： H01L21/027

CPC分类号： B82Y40/00 ,  B82Y10/00 ,  H01J37/3045 ,  H01J37/3174 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/24507 ,  H01J2237/24521 ,  H01J2237/24535 ,  H01J2237/24542

摘要： 【課題】マルチコラム電子ビーム露光装置においてコラムセル相互間のパターンのつなぎ精度を向上させることが可能なマルチコラム電子ビーム露光装置及びマルチコラム電子ビーム露光方法を提供すること。 【解決手段】マルチコラム電子ビーム露光装置は、複数個のコラムセルと、電子ビーム特性を測定する電子ビーム特性検出部を備えたウエハステージと、電子ビーム特性検出部を用いて、すべてのコラムセルで使用する電子ビームのビーム特性を測定し、各コラムセルで使用する電子ビームの特性を略同一にするように各コラムセルの電子ビームを調整する制御部とを有する。前記電子ビーム特性は、照射される電子ビームのビーム位置、ビーム強度、ビーム形状のうちのいずれかであってもよく、前記電子ビーム特性検出部は、基準マークが形成されたキャリブレーション用チップ又はファラデーカップであってもよい。

摘要翻译： [问题]提供多柱电子束曝光装置和多列电子束曝光方法，其可以提高柱单元之间的图案的耦合精度。 解决问题的手段多列电子束曝光装置具有列单元，设置有用于测量电子束特性的电子束特性检测部的晶片台和测量所有电子束中使用的电子束的光束特性的控制部 使用电子束特性检测部分的列单元，并且调节每个列单元的电子束，以使每个列单元格中使用的电子束的性质几乎相等。 电子束特性可以是发射电子束的光束位置，光束强度和光束形状中的任何一个，并且电子束特性检测部分可以是校准芯片或形成参考标记的法拉第杯。

公开(公告)号：WO2007143110A2

公开(公告)日：2007-12-13

申请号：PCT/US2007012966

申请日：2007-06-01

申请人： AXCELIS TECH INC ,  HUANG YONGZHANG ,  YE JOHN ,  GRAF MICHAEL ,  FREER BRIAN ,  GODFREY CHRISTOPHER ,  SPLINTER PATRICK

发明人： HUANG YONGZHANG ,  YE JOHN ,  GRAF MICHAEL ,  FREER BRIAN ,  GODFREY CHRISTOPHER ,  SPLINTER PATRICK

CPC分类号： H01J37/304 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/24507 ,  H01J2237/24535 ,  H01J2237/31703

摘要： A method derives a terminal return current to adjust and/or compensate for variations in beam current during ion implantation. One or more individual upstream current measurements are obtained from a region of an ion implantation system. A terminal return current, or composite upstream current, is derived from the one or more current measurements. The terminal return current is then employed to adjust scanning or dose of an ion beam in order to facilitate beam current uniformity at a target wafer.

摘要翻译： 一种方法导出终端返回电流来调整和/或补偿离子注入期间束流的变化。 从离子注入系统的区域获得一个或多个单独的上游电流测量。 从一个或多个电流测量导出终端返回电流或复合上游电流。 然后使用端子返回电流来调整离子束的扫描或剂量，以便于目标晶片处的束电流均匀性。

公开(公告)号：WO2003044824A1

公开(公告)日：2003-05-30

申请号：PCT/FR2002/003937

申请日：2002-11-18

申请人： CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE ,  GIERAK, Jacques ,  HAWKES, Peter

发明人： GIERAK, Jacques ,  HAWKES, Peter

IPC分类号： H01J37/304

CPC分类号： B82Y30/00 ,  B82Y10/00 ,  H01J37/304 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/0653 ,  H01J2237/21 ,  H01J2237/24535 ,  H01J2237/2485 ,  H01J2237/28 ,  H01J2237/30438 ,  H01J2237/30472 ,  H01J2237/31749

摘要： Dispositif de réglage d'un faisceau de particules chargées.Ce dispositif comprend des moyens de réglage (40) pour mémoriser les caractéristiques souhaitées pour le faisceau (14), déterminer les valeurs des paramètres de réglage de l'appareil (2) en fonction de ces caractéristiques, mémoriser ces valeurs et donner ces valeurs mémorisées aux paramètres de réglage de l'appareil. L'invention s'applique notamment à la fabrication de nano-structures.

摘要翻译： 本发明涉及用于控制产生带电粒子束的装置的装置。 所述装置包括用于存储所述光束（14）的所需特性的控制装置（40），基于所述特性确定用于控制装置（2）的参数值，存储所述值并将所述存储的值提供给控制装置的参数。 本发明特别适用于纳米结构的制造。

公开(公告)号：WO2015118316A1

公开(公告)日：2015-08-13

申请号：PCT/GB2015/050287

申请日：2015-02-03

申请人： THE WELDING INSTITUTE

发明人： RIBTON, Colin

IPC分类号： H01J37/244 ,  G01T1/29

CPC分类号： H01J37/244 ,  H01J2237/24535 ,  H01J2237/24542 ,  H01J2237/30483 ,  H01J2237/3104

摘要： A system is disclosed for measuring properties of a charged particle beam (8) output by a charged particle beam generator (15). The system comprises: a probe assembly (21), a beam deflection control module (23) and a detection module (22). The probe assembly comprises a plurality of probes (30) arrayed across a plane on a mount, each probe comprising at least two elongate, electrically conductive elements (32, 33, 34) arranged such that their respective elongate directions make a non-zero angle with one another in the plane of the array. The beam deflection control module is adapted to control the deflection of the charged particle beam along a measurement path which crosses sequentially at least two of the elongate, electrically conductive elements of at least one of the probes. The detection module is connected to the electrically conductive elements of each of the plurality of probes, and is adapted to detect electric signals output sequentially by the electrically conductive elements of each probe upon intersection of the charged particle beam therewith. The detected electric signals from each probe are indicative of properties of the charged particle beam when directed to the location of the respective probe across the probe assembly by the charged particle beam generator. A corresponding method of measuring properties of a charged particle beam output by a charged particle beam generator is also disclosed.

摘要翻译： 公开了一种用于测量由带电粒子束发生器（15）输出的带电粒子束（8）的性质的系统。 该系统包括：探针组件（21），光束偏转控制模块（23）和检测模块（22）。 探针组件包括穿过安装件上的平面排列的多个探针（30），每个探针包括至少两个细长的导电元件（32,33,34），其被布置成使得它们各自的细长方向形成非零角 在阵列的平面上彼此。 光束偏转控制模块适于控制带电粒子束沿着至少一个探针的细长的导电元件中的至少两个的测量路径的偏转。 检测模块连接到多个探针中的每一个的导电元件，并且适于在与带电粒子束交叉时检测由每个探针的导电元件依次输出的电信号。 来自每个探针的检测到的电信号指示带电粒子束在通过带电粒子束发生器穿过探针组件的相应探针的位置时的性质。 还公开了一种测量由带电粒子束发生器输出的带电粒子束的性质的相应方法。

公开(公告)号：WO2015077400A1

公开(公告)日：2015-05-28

申请号：PCT/US2014/066516

申请日：2014-11-20

申请人： AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.

发明人： SATOH, Shu

IPC分类号： G01T1/34

CPC分类号： H01J37/3171 ,  H01J37/304 ,  H01J2237/24535 ,  H01J2237/24542 ,  H01J2237/30472

摘要： An ion implantation system and method are provided where an ion source generates an ion and a mass analyzer mass analyzes the ion beam. A beam profiling apparatus translates through the ion beam along a profiling plane in a predetermined time, wherein the beam profiling apparatus measures the beam current across a width of the ion beam concurrent with the translation, therein defining a time and position dependent beam current profile of the ion beam. A beam monitoring apparatus is configured to measure the ion beam current at an edge of the ion beam over the predetermined time, therein defining a time dependent ion beam current, and a controller determines a time independent ion beam profile by dividing the time and position dependent beam current profile of the ion beam by the time dependent ion beam current, therein by cancelling fluctuations in ion beam current over the predetermined time.

摘要翻译： 提供离子注入系统和方法，其中离子源产生离子并且质量分析器质量分析离子束。 光束分析装置在预定时间内沿着成像平面翻转离子束，其中光束分布装置测量与平移同时的跨越离子束的宽度的束流，其中限定了时间和位置相关的束电流分布 离子束。 光束监测装置被配置为在预定时间内测量在离子束的边缘处的离子束电流，其中限定了时间依赖的离子束电流，并且控制器通过将时间和位置相关的分配来确定时间独立的离子束分布 离子束的束电流分布由时间依赖的离子束电流引入，其中通过在预定时间内消除离子束电流的波动。