Abstract:
An apparatus comprising a burst-mode laser(610) comprising an active layer(720) and configured to emit an optical signal during a burst period, wherein a temperature change of the burst-mode laser(610) causes the optical signal to shift in wavelength, and a heater(620) thermally coupled to the active layer(720) and configured to reduce a wavelength shift of the optical signal during the burst period by applying heat to the active layer(720) based on timing of the burst period.
Abstract:
A laser includes an active ring, a passive waveguide, and a reflector. The active ring is to generate light. The passive waveguide is associated with the active ring to capture generated light. The reflector is associated with the passive waveguide to cause captured light from the waveguide to be coupled into the active ring to trigger domination of unidirectional lasing in the active ring to generate light.
Abstract:
Es handelt sich um eine Laserdiodenanordnung mit mindestens einem Halbleitersubstrat (2; 2x, 2y), mit mindestens zwei Laserstapeln (30, 31, 32) mit jeweils einer aktiven Zone (6, 12, 18) und mit mindestens einer Zwischenschicht (9, 15; 56, 58). Die Laserstapel (30, 31, 32) und die Zwischenschicht (9, 15; 56, 58) sind monolithisch auf das Halbleitersubstrat (2; 2x, 2y) aufgewachsen. Die Zwischenschicht (9, 15; 56, 58) ist zwischen den Laserstapeln (30, 31, 32) angeordnet. Die aktive Zone (6) des ersten Laserstapel (30) ist von der aktiven Zone (12, 18) des mindestens einen weiteren Laserstapels (31, 32) getrennt ansteuerbar. Die Zwischenschicht kann als Tunneldiode (9, 15) aufweisen, die insbesondere einen elektrischen Durchlassbereich innerhalb einer Stromblende (55, 57) darstellen kann. Alternativ kann die Zwischenschicht (4009, 4015) einen Isolator aufweisen. Die aktiven Zonen (6, 12, 18) sind insbesondere so ausgelegt, dass Laserdioden aus verschiedenen Laserstapeln (30, 31, 32) elektromagnetische Strahlung in voneinander verschiedenen Wellenlängenbereichen emittieren.
Abstract:
An RF-photonics integrated communications module (100) including: a plurality of RF input channels (111,121,131 and 141); a plurality of modulators (110,120,130 and 140) each being responsive to one of the RF input channels; and, a plurality of photonic output channels (114, 124, 134 and 144) coupled to the modulators via a switching network. The switching network includes a plurality of resonating elements coupled between the modulators and the output channels to selectively apply outputs of the modulators to the output channels.
Abstract:
A semiconductor vertical light source includes an upper mirror and a lower mirror. An active region is between the upper and lower mirror. The light source includes an inner mode confinement region and outer current blocking region. The outer current blocking region includes a common epitaxial layer that includes an epitaxially regrown interface which is between the active region and upper mirror, and a conducting channel including acceptors is in the inner mode confinement region. The current blocking region includes a first impurity doped region with donors between the epitaxially regrown interface and active region, and a second impurity doped region with acceptors is between the first doped region and lower mirror. The outer current blocking region provides a PNPN current blocking region that includes the upper mirror or a p-type layer, first doped region, second doped region, and lower mirror or an n-type layer.
Abstract:
Es wird ein kantenemittierender Halbleiterlaser mit einem Halbleiterkörper (10) angegeben, der einen Wellenleiterbereich (4) aufweist, wobei der Wellenleiterbereich (4) eine erste Wellenleiterschicht (2A), eine zweite Wellenleiterschicht (2B) und eine zwischen der ersten Wellenleiterschicht (2A) und der zweiten Wellenleiterschicht (2B) angeordnete aktive Schicht (3) zur Erzeugung von Laserstrahlung (17) aufweist, der Wellenleiterbereich (4) zwischen einer ersten Mantelschicht (1A) und einer dem Wellenleiterbereich (4) in Wachstumsrichtung des Halbleiterkörpers (10) nachfolgenden zweiten Mantelschicht (1B) angeordnet ist, in dem Halbleiterkörper (10) eine Phasenstruktur (6) zur Selektion lateraler Moden der von der aktiven Schicht (3) emittierten Laserstrahlung ausgebildet ist, wobei die Phasenstruktur (6) mindestens eine Ausnehmung (7) umfasst, die sich von einer Oberfläche (5) des Halbleiterkörpers (10) in die zweite Mantelschicht (1B) hinein erstreckt, in die zweite Mantelschicht (1B) mindestens eine erste Zwischenschicht (11) aus einem von dem Halbleitermaterial der zweiten Mantelschicht (1B) verschiedenen Halbleitermaterial eingebettet ist, und sich die Ausnehmung (7) von der Oberfläche (5) des Halbleiterkörpers (10) zumindest teilweise bis in die erste Zwischenschicht (11) erstreckt.