半導体レーザ装置組立体
    2.
    发明申请
    半導体レーザ装置組立体 审中-公开
    半导体激光器件组件

    公开(公告)号:WO2013153999A1

    公开(公告)日:2013-10-17

    申请号:PCT/JP2013/060163

    申请日:2013-04-03

    Abstract: 半導体レーザ装置組立体は、(A)半導体レーザ素子10、及び、(B)外部共振器を構成し、0次以外の回折光を半導体レーザ素子10に戻し、0次回折光を外部に出力する回折格子101を備えており、回折格子101の回折面の延びる方向と、回折格子101に入射するレーザ光の電界の主たる振動方向とは概ね平行である。

    Abstract translation: 该半导体激光器件组件具有:(A)半导体激光元件(10); 和(B)构成外部谐振器的衍射光栅(101),其向半导体激光元件(10)返回除了0级衍射光以外的衍射光,并将0级衍射光输出到外部 它们。 衍射光栅(101)的衍射面延伸的方向与入射在衍射光栅(101)上的激光的电场中的主振荡方向基本平行。

    LASERDIODENANORDNUNG UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER LASERDIODENANORDNUNG
    4.
    发明申请
    LASERDIODENANORDNUNG UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER LASERDIODENANORDNUNG 审中-公开
    激光二极管及其制造方法的激光二极管组件,

    公开(公告)号:WO2011113638A1

    公开(公告)日:2011-09-22

    申请号:PCT/EP2011/051282

    申请日:2011-01-31

    Abstract: Es handelt sich um eine Laserdiodenanordnung mit mindestens einem Halbleitersubstrat (2; 2x, 2y), mit mindestens zwei Laserstapeln (30, 31, 32) mit jeweils einer aktiven Zone (6, 12, 18) und mit mindestens einer Zwischenschicht (9, 15; 56, 58). Die Laserstapel (30, 31, 32) und die Zwischenschicht (9, 15; 56, 58) sind monolithisch auf das Halbleitersubstrat (2; 2x, 2y) aufgewachsen. Die Zwischenschicht (9, 15; 56, 58) ist zwischen den Laserstapeln (30, 31, 32) angeordnet. Die aktive Zone (6) des ersten Laserstapel (30) ist von der aktiven Zone (12, 18) des mindestens einen weiteren Laserstapels (31, 32) getrennt ansteuerbar. Die Zwischenschicht kann als Tunneldiode (9, 15) aufweisen, die insbesondere einen elektrischen Durchlassbereich innerhalb einer Stromblende (55, 57) darstellen kann. Alternativ kann die Zwischenschicht (4009, 4015) einen Isolator aufweisen. Die aktiven Zonen (6, 12, 18) sind insbesondere so ausgelegt, dass Laserdioden aus verschiedenen Laserstapeln (30, 31, 32) elektromagnetische Strahlung in voneinander verschiedenen Wellenlängenbereichen emittieren.

    Abstract translation: 有一个激光二极管阵列与至少一个半导体衬底(2; 2X,2Y),具有至少两个激光叠层(30,31,32),每个具有有源区(6,12,18)和至少一个中间层(9,15 ; 56,58)。 激光堆(30,31,32)和中间层(9,15; 56,58)是整体地在半导体基板上(2; 2X,2Y)生长。 布置在所述激光叠层(30,31,32)之间;所述中间层(56,58 9,15)。 从所述至少一个另外的激光堆(31,32)的有源区(12,18)与第一激光叠层(30)的有源区(6)可分别控制。 该中间层可以被用作隧道二极管(9,15),其尤其可以是一个当前的光圈(55,57)内的电通带。 可替换地,中间层(4009,4015)有一个绝缘体。 有源区(6,12,18)是特别设计了不同的激光叠层(30,31,32)在相互不同的波长范围发射的电磁辐射,使得激光二极管。

    モノリシック型半導体レーザ
    5.
    发明申请
    モノリシック型半導体レーザ 审中-公开
    单片半导体激光器

    公开(公告)号:WO2007023845A1

    公开(公告)日:2007-03-01

    申请号:PCT/JP2006/316476

    申请日:2006-08-23

    Inventor: 田邉 哲弘

    CPC classification number: H01S5/22 H01S5/323 H01S5/40

    Abstract:  半導体基板(1)上に、たとえば赤外光用の第1導電形クラッド層(2a)、活性層(3a)、第2導電形クラッド層(4a)を有する赤外光用の発光層形成部(9a)が少なくとも形成された赤外素子(10a)と、赤色光用の第1導電形クラッド層(2b)、活性層(3b)、第2導電形クラッド層(4b)を有する赤色光用の発光層形成部(9b)が少なくとも形成された赤色素子とが同一の半導体基板面(1)上に形成され、かつ、それぞれの第2導電形クラッド層(4a、4b)が同一材料で形成されている。その結果、リッジ形成プロセスを共通化でき、また、両素子共に高出力動作が可能な窓構造を有する構造にすることができる。

    Abstract translation: 红外线元件(10a)至少包括由例如用于红外光的第一导电覆盖层(2a),有源层(3a)和第二导电覆盖层(...)形成的发光层形成部(9a) 图4a)。 红色元件至少包括由例如用于红光的第一导电覆盖层(2b),有源层(3b)和第二导电覆盖层(4b)形成的发光层形成部分(9b)。 红外元件(10a)和红色元件形成在相同的半导体衬底(1)上,并且它们的第二导电覆盖层(4a,4b)由相同的材料形成。 结果,可以共享脊形成工艺,并且它们可以具有能够对两个元件进行高输出操作的窗口结构。

    LOW RESISTANCE VERTICAL CAVITY LIGHT SOURCE WITH PNPN BLOCKING
    7.
    发明申请
    LOW RESISTANCE VERTICAL CAVITY LIGHT SOURCE WITH PNPN BLOCKING 审中-公开
    具有PNPN阻塞的低阻抗垂直腔光源

    公开(公告)号:WO2018013717A1

    公开(公告)日:2018-01-18

    申请号:PCT/US2017/041761

    申请日:2017-07-12

    Abstract: A semiconductor vertical light source includes an upper mirror and a lower mirror. An active region is between the upper and lower mirror. The light source includes an inner mode confinement region and outer current blocking region. The outer current blocking region includes a common epitaxial layer that includes an epitaxially regrown interface which is between the active region and upper mirror, and a conducting channel including acceptors is in the inner mode confinement region. The current blocking region includes a first impurity doped region with donors between the epitaxially regrown interface and active region, and a second impurity doped region with acceptors is between the first doped region and lower mirror. The outer current blocking region provides a PNPN current blocking region that includes the upper mirror or a p-type layer, first doped region, second doped region, and lower mirror or an n-type layer.

    Abstract translation: 半导体垂直光源包括上部反射镜和下部反射镜。 有源区位于上下镜之间。 光源包括内模式限制区域和外部电流阻挡区域。 外部电流阻挡区域包括共同的外延层,该共同的外延层包括位于有源区和上部反射镜之间的外延再生长的界面,并且包含受体的导电沟道处于内部模式限制区中。 电流阻挡区包括在外延再生长界面和有源区之间具有施主的第一杂质掺杂区,并且具有受主的第二杂质掺杂区位于第一掺杂区和下镜之间。 外部电流阻挡区域提供PNPN电流阻挡区域,其包括上部反射镜或p型层,第一掺杂区域,第二掺杂区域和下部反射镜或n型层。

    KANTENEMITTIERENDER HALBLEITERLASER
    9.
    发明申请
    KANTENEMITTIERENDER HALBLEITERLASER 审中-公开
    边发射半导体激光器

    公开(公告)号:WO2011051013A1

    公开(公告)日:2011-05-05

    申请号:PCT/EP2010/062416

    申请日:2010-08-25

    Abstract: Es wird ein kantenemittierender Halbleiterlaser mit einem Halbleiterkörper (10) angegeben, der einen Wellenleiterbereich (4) aufweist, wobei der Wellenleiterbereich (4) eine erste Wellenleiterschicht (2A), eine zweite Wellenleiterschicht (2B) und eine zwischen der ersten Wellenleiterschicht (2A) und der zweiten Wellenleiterschicht (2B) angeordnete aktive Schicht (3) zur Erzeugung von Laserstrahlung (17) aufweist, der Wellenleiterbereich (4) zwischen einer ersten Mantelschicht (1A) und einer dem Wellenleiterbereich (4) in Wachstumsrichtung des Halbleiterkörpers (10) nachfolgenden zweiten Mantelschicht (1B) angeordnet ist, in dem Halbleiterkörper (10) eine Phasenstruktur (6) zur Selektion lateraler Moden der von der aktiven Schicht (3) emittierten Laserstrahlung ausgebildet ist, wobei die Phasenstruktur (6) mindestens eine Ausnehmung (7) umfasst, die sich von einer Oberfläche (5) des Halbleiterkörpers (10) in die zweite Mantelschicht (1B) hinein erstreckt, in die zweite Mantelschicht (1B) mindestens eine erste Zwischenschicht (11) aus einem von dem Halbleitermaterial der zweiten Mantelschicht (1B) verschiedenen Halbleitermaterial eingebettet ist, und sich die Ausnehmung (7) von der Oberfläche (5) des Halbleiterkörpers (10) zumindest teilweise bis in die erste Zwischenschicht (11) erstreckt.

    Abstract translation: 提供了一种边发射半导体激光器包括具有波导区域的半导体主体(10)(4),其中,所述波导区(4)包括第一波导层(2A),第二波导层(2B)与第一波导层之间(2A)和 具有第二波导层(2B)(3)为第二包覆层之下产生激光辐射(17),一个第一包层(1A)和在半导体本体(10)的生长方向的波导区域(4)之间的波导区域(4)布置的有源层 (1B)被布置在所述半导体主体(10),一个相结构(6)(3)形成所发射的激光辐射的有源层的横向模式的选择中,所述相位结构(6)包括(7)延伸的至少一个凹部 从表面(5)在所述第二包覆层(1B)的半导体主体(10)的,延伸到第二Mantelschich 吨第二包层(1B)不同的半导体材料的半导体材料中的一个的(1B)嵌入在至少一个第一中间层(11)和所述凹部(7)的表面(5)的半导体主体(10)至少部分地进入所述的 第一中间层(11)。

    モノリシック型半導体レーザ
    10.
    发明申请
    モノリシック型半導体レーザ 审中-公开
    单片半导体激光器

    公开(公告)号:WO2007023844A1

    公开(公告)日:2007-03-01

    申请号:PCT/JP2006/316475

    申请日:2006-08-23

    Inventor: 田邉 哲弘

    CPC classification number: H01S5/22 H01S5/323 H01S5/40

    Abstract:  半導体基板(1)上に、n形クラッド層(2a)、活性層(3a)、リッジ部が形成されるp形クラッド層(4a)を有する赤外発光層形成部(9a)、リッジ部側部に設けられる電流狭窄層(5a)からなるAlGaAs系半導体レーザ素子(10a)と、n形クラッド層(2b)、活性層(3b)、リッジ部が形成されるp形クラッド層(4b)を有する赤色発光層形成部(9b)、そのリッジ部側部に設けられる電流狭窄層(5a)からなるInGaAlP系半導体レーザ素子(10b)とが設けられ、両素子の電流狭窄層が同じ材料で、かつ、赤色発光層形成部の活性層(3b)のバンドギャップよりも大きいバンドギャップ材料により形成されている。その結果、結晶成長の回数を増やすことなく、高温高出力動作可能なモノリシック型半導体レーザを得ることができる。

    Abstract translation: 公开了一种在半导体衬底(1)上形成AlGaAs半导体激光元件(10a)和InGaAlP半导体层元件(10b)的单片半导体激光器。 AlGaAs半导体激光元件(10a)由具有n型覆层(2a),有源层(3a)和p型覆层(4a)的红外发光层形成部(9a) ),并且形成在所述脊部的一侧的电流变窄层(5a),而所述InGaAlP半导体层元件(10b)由红色发光层形成部(9b)构成,所述半导体层 具有设置有脊部的n型包覆层(2b),有源层(3b)和p型覆盖层(4b),以及形成在所述脊部的一侧的电流变窄层(5b) 。 两个元件的电流变窄层由具有比红色发光层形成部分的有源层(3b)更大的带隙的相同带隙材料制成。 因此,可以获得能够在不增加晶体生长的情况下进行高温,高输出操作的单片半导体激光器。

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