公开(公告)号：CN116615405A

公开(公告)日：2023-08-18

申请号：CN202180086595.5

申请日：2021-12-21

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 大松祯 ,  冈田悠 ,  小熊威 ,  松本正裕 ,  新美结士 ,  越后雅敏

IPC: C07C39/373

Abstract: 提供能得到曝光灵敏度优异的抗蚀剂的、化合物、聚合物、组合物、膜形成用组合物、图案形成方法、绝缘膜的形成方法及化合物的制造方法。下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，RA为氢原子、甲基或三氟甲基，RX为ORB或氢原子，RB为取代或未取代的碳数1～30的烷基，P为羟基、烷氧基、酯基、缩醛基、羧基烷氧基、碳酸酯基、硝基、氨基、羧基、硫醇基、醚基、硫醚基、膦基、膦酸基、氨基甲酸酯基、脲基、酰胺基、酰亚胺基或磷酸基。)

公开(公告)号：CN113227028A

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN201980086268.2

申请日：2019-12-23

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 大松祯 ,  松本正裕 ,  由利道裕 ,  片冈健太郎 ,  佐藤隆 ,  越后雅敏

IPC: C07C33/46 ,  C07C69/653 ,  C08F20/22 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  C07C67/14

Abstract: 本发明的目的在于，提供可形成具有高分辨率且高灵敏度的膜的组合物等。前述目的可以通过以下的化合物来达成。一种含碘(甲基)丙烯酸酯化合物，其由通式(1)表示。(式(1)中，R1表示氢原子、甲基、或卤素，R2各自独立地表示氢原子、碳数1～20的直链状的有机基团、碳数3～20的支链状的有机基团、或碳数3～20的环状的有机基团，A表示碳数1～30的有机基团，n1表示0或1，n2表示1～20的整数。)

公开(公告)号：CN119451998A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202380050145.X

申请日：2023-06-28

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 大松祯 ,  片冈健太郎 ,  松本正裕 ,  新美结士 ,  小熊威 ,  堀内淳矢 ,  山本拓央 ,  饭沼雅崇 ,  松浦耕大 ,  佐藤隆 ,  冈田悠 ,  牧野岛高史 ,  越后雅敏

IPC: C08F12/00 ,  C08F246/00 ,  C08F220/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 一种组合物，其包含下述式(1)所示的化合物(A)与下述式(2)所示的化合物(B)。(式(1)中，各定义示于说明书中。)(式(2)中，X、L1、Y、Ra、Rb、Rc、A、Z、p、m、n及r与式(1)的记载为相同内容，k表示0以上且2以下的整数。)#imgabs0#

公开(公告)号：CN115605517A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202180035126.0

申请日：2021-05-12

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社(JP)

Inventor： 大松祯 ,  松本正裕 ,  由利道裕 ,  片冈健太郎 ,  佐藤隆 ,  越后雅敏

IPC: C08F20/26 ,  C07C69/653 ,  C08F8/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 一种含碘的(甲基)丙烯酸酯化合物，其用式(1)表示。式(1)中，R1表示氢原子、甲基或卤素，R2各自独立地表示氢原子、碳数1～20的直链状的有机基团、碳数3～20的支链状的有机基团、或碳数3～20的环状的有机基团，A表示碳数1～30的有机基团，A包含至少1个酰基，n1表示0或1，n2表示1～20的整数。

公开(公告)号：CN114245792A

公开(公告)日：2022-03-25

申请号：CN202080056621.5

申请日：2020-08-07

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 大松祯 ,  片冈健太郎 ,  松本正裕 ,  新美结士 ,  牧野岛高史 ,  越后雅敏

IPC: C07C69/712 ,  C07C39/27 ,  C07C25/24 ,  C07C69/96 ,  C07C39/373 ,  C07C49/825 ,  C07C69/157 ,  C07C37/62 ,  C07C67/08 ,  C07C45/63 ,  C07C17/35 ,  C07C37/00 ,  C08F12/16 ,  C08J5/18 ,  C08L25/18 ,  G03F7/039

Abstract: 一种化合物，其具有不饱和双键和一个以上的卤素。一种含碘乙烯基单体的制造方法，其包括：a)准备具戊酰基有式(1‑1)所示的一般结构(式(1‑1)中的可变部分的定义如说明书所记载)的含碘醇性基质的工序；和b)对所述含碘醇性基质进行脱水，得到具有式(1)所示的一般结构(式(1)中的可变部分的定义如说明书所记载)的含碘乙烯基单体的工序。

公开(公告)号：CN118973989A

公开(公告)日：2024-11-15

申请号：CN202380032674.7

申请日：2023-04-10

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 松本正裕 ,  饭沼雅崇 ,  大松祯 ,  佐藤隆 ,  越后雅敏

IPC: C07C43/23 ,  C07C35/52 ,  C07C69/94 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

Abstract: 下述式(1)所示的化合物。(式中，RG为包含至少1个环状结构的基团，I为碘原子，R1为任选相同或不同的碳原子数0～30且不含聚合性不饱和键的一价官能团，n为1～5的整数，m为1～5的整数。)#imgabs0#

公开(公告)号：CN115605517B

公开(公告)日：2024-09-06

申请号：CN202180035126.0

申请日：2021-05-12

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 大松祯 ,  松本正裕 ,  由利道裕 ,  片冈健太郎 ,  佐藤隆 ,  越后雅敏

IPC: C08F20/26 ,  C07C69/653 ,  C08F8/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 一种含碘的(甲基)丙烯酸酯化合物，其用式(1)表示。式(1)中，R1表示氢原子、甲基或卤素，R2各自独立地表示氢原子、碳数1～20的直链状的有机基团、碳数3～20的支链状的有机基团、或碳数3～20的环状的有机基团，A表示碳数1～30的有机基团，A包含至少1个酰基，n1表示0或1，n2表示1～20的整数。#imgabs0#

公开(公告)号：CN115053183A

公开(公告)日：2022-09-13

申请号：CN202180012942.X

申请日：2021-02-02

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 大松祯 ,  松本正裕 ,  佐藤隆 ,  越后雅敏

IPC: G03F7/11 ,  C07C39/15 ,  C07C39/367 ,  C07C39/38 ,  C07D207/20 ,  C08F12/16 ,  C08G61/00 ,  C07D311/80 ,  C07D311/82 ,  C08F212/14 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

Abstract: 本发明的目的在于提供：能形成曝光灵敏度优异的图案、且可以得到与抗蚀层接触的膜、下层膜的光刻用组合物等。前述目的可以通过前述光刻用组合物而实现，所述光刻用组合物包含具有选自由碘、碲和氟组成的组中的至少1种元素的化合物、或包含具有源自前述化合物的结构单元的树脂，前述化合物中的前述原子的总质量为15质量％以上且75质量％以下。