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公开(公告)号：CN104216046B
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CN201310346904.5
申请日：2013-08-09
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
CPC分类号： G02B6/136 , G02B6/12004 , G02B6/43
摘要： 本发明提供了形成波导结构的实施例。波导结构包括衬底，并且衬底具有互连区域和波导区域。波导结构还包括形成在衬底中的沟槽，并且沟槽具有倾斜的侧壁表面和基本平坦的底部。波导结构还包括形成在衬底上的底部覆层，并且底部覆层自互连区域延伸至波导区域，底部覆层充当互连区域中的绝缘层。波导结构还包括形成在倾斜的侧壁表面上的底部覆层上的金属层。本发明还提供了该波导结构的制造方法。
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公开(公告)号：CN103941313A
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201310141615.1
申请日：2013-04-22
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
CPC分类号： B05D5/06 , G02B3/00 , G02B3/0012 , G02B3/0043 , G02B6/136
摘要： 本发明提供了一种光学元件结构和该光学元件结构的制造工艺。光学元件制造工艺包括提供其上形成有突出物的衬底；以及通过沉积方案在突出物和衬底上方形成上覆涂层以形成光学元件。
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公开(公告)号：CN103972250B
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：CN201310158698.5
申请日：2013-05-02
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC分类号： H01L27/146 , H01L21/68
CPC分类号： G02B6/122 , B05D5/06 , G02B6/425 , G02B6/4298 , G02B2006/12102 , G02B2006/12173 , G03F7/0002 , Y10T428/24612
摘要： 一些实施例涉及一种加工工件的方法。该工件包括具有第一润湿性系数的第一表面区域和具有第二润湿性系数的第二表面区域，第二润湿性系数不同于第一润湿性系数。在工件的第一表面区域和第二表面区域上分配对应于光学结构的液体，其中，由于第一润湿性系数和第二润湿性系数的差异，该液体与第二表面区域自对准。硬化自对准的液体以形成光学结构。本发明还提供了界面的润湿性差异产生的自对准。
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公开(公告)号：CN103941313B
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201310141615.1
申请日：2013-04-22
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC分类号： G02B6/136
CPC分类号： B05D5/06 , G02B3/00 , G02B3/0012 , G02B3/0043 , G02B6/136
摘要： 本发明提供了一种光学元件结构和该光学元件结构的制造工艺。光学元件制造工艺包括提供其上形成有突出物的衬底；以及通过沉积方案在突出物和衬底上方形成上覆涂层以形成光学元件。
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公开(公告)号：CN104051953A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201310245216.X
申请日：2013-06-19
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC分类号： H01S5/026
CPC分类号： H01S5/0267 , G02B6/421 , H01L2224/32225 , H01L2224/48091 , H01L2224/48227 , H01L2224/48464 , H01L2224/73265 , H01L2224/8592 , H01L2924/15311 , H01L2924/181 , H01S5/02276 , H01S5/02284 , H01S5/02288 , H01S5/026 , H01S5/183 , H01L2924/00014 , H01L2924/00 , H01L2924/00012
摘要： 本发明提供了一种半导体器件的实施例，该半导体器件包括：位于第一衬底上方的光学器件；位于光学器件的顶面上的垂直波导，垂直波导具有第一折射率；以及位于垂直波导上方的覆盖层，覆盖层被配置成用于垂直波导的透镜并且覆盖层具有第二折射率。本发明还提供了光耦合器件及其形成方法。
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公开(公告)号：CN104051953B
公开(公告)日：2017-08-25
申请号：CN201310245216.X
申请日：2013-06-19
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC分类号： H01S5/026
CPC分类号： H01S5/0267 , G02B6/421 , H01L2224/32225 , H01L2224/48091 , H01L2224/48227 , H01L2224/48464 , H01L2224/73265 , H01L2224/8592 , H01L2924/15311 , H01L2924/181 , H01S5/02276 , H01S5/02284 , H01S5/02288 , H01S5/026 , H01S5/183 , H01L2924/00014 , H01L2924/00 , H01L2924/00012
摘要： 本发明提供了一种半导体器件的实施例，该半导体器件包括：位于第一衬底上方的光学器件；位于光学器件的顶面上的垂直波导，垂直波导具有第一折射率；以及位于垂直波导上方的覆盖层，覆盖层被配置成用于垂直波导的透镜并且覆盖层具有第二折射率。本发明还提供了光耦合器件及其形成方法。
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公开(公告)号：CN104051286A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201310288142.8
申请日：2013-07-10
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC分类号： H01L21/60 , H01L23/488 , H01L25/065
CPC分类号： H01L2224/16225 , H01L2224/48091 , H01L2924/19107 , H01L2924/00014 , H01S5/0268 , H01S5/026 , H01S5/0267
摘要： 本发明公开了一种半导体器件、封装结构及它们的形成方法。一个实施例是半导体器件，该半导体器件包括位于第一衬底上方的第一光学器件；位于第一光学器件的顶面上的垂直波导；以及位于垂直波导上方的第二衬底。该半导体器件还包括：位于第二衬底的顶面上的透镜保护层，其中，透镜保护层与垂直波导对准；以及位于透镜保护层上方的第二光学器件。
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公开(公告)号：CN103972250A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201310158698.5
申请日：2013-05-02
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC分类号： H01L27/146 , H01L21/68
CPC分类号： G02B6/122 , B05D5/06 , G02B6/425 , G02B6/4298 , G02B2006/12102 , G02B2006/12173 , G03F7/0002 , Y10T428/24612
摘要： 一些实施例涉及一种加工工件的方法。该工件包括具有第一润湿性系数的第一表面区域和具有第二润湿性系数的第二表面区域，第二润湿性系数不同于第一润湿性系数。在工件的第一表面区域和第二表面区域上分配对应于光学结构的液体，其中，由于第一润湿性系数和第二润湿性系数的差异，该液体与第二表面区域自对准。硬化自对准的液体以形成光学结构。本发明还提供了界面的润湿性差异产生的自对准。
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公开(公告)号：CN104051286B
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CN201310288142.8
申请日：2013-07-10
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC分类号： H01L21/60 , H01L23/488 , H01L25/065
CPC分类号： H01L2224/16225 , H01L2224/48091 , H01L2924/19107 , H01L2924/00014
摘要： 本发明公开了一种半导体器件、封装结构及它们的形成方法。一个实施例是半导体器件，该半导体器件包括位于第一衬底上方的第一光学器件；位于第一光学器件的顶面上的垂直波导；以及位于垂直波导上方的第二衬底。该半导体器件还包括：位于第二衬底的顶面上的透镜保护层，其中，透镜保护层与垂直波导对准；以及位于透镜保护层上方的第二光学器件。
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公开(公告)号：CN106094125A
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：CN201610239811.6
申请日：2016-04-18
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC分类号： G02B6/42
CPC分类号： G02B6/4267 , G02B6/4214
摘要： 一种光具座包括其中具有沟槽的衬底和在沟槽内的光发射器件。该光具座还包括光学连接至光发射器件的光接收器件。该光具座还包括电连接至光发射器件的至少一个有源电路。该光具座还包括沟槽中的波导，其中，波导光学地位于光发射器件和光接收器件之间。该光具座还包括位于光发射器件和波导之间的透光材料。本发明实施例涉及衬底上的光具座及其制造方法。
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