表面处理铜箔、附载体铜箔、基材、及树脂基材

    公开(公告)号:CN109951964A

    公开(公告)日:2019-06-28

    申请号:CN201910187117.8

    申请日:2014-07-23

    Abstract: 本发明涉及一种表面处理铜箔、附载体铜箔、基材、及树脂基材。提供一种可在去除铜箔后赋予基材面的轮廓形状的表面处理铜箔,该轮廓形状可维持微细配线形成性,且实现无电镀铜被膜的良好密合力。提供一种基材,从表面处理层侧将表面处理铜箔贴合在基材,将该表面处理铜箔去除时,该基材的该铜箔去除侧表面的三维表面积B与二维表面积A的比B/A为1.01~1.5。提供一种树脂基材,从表面处理层侧将表面处理铜箔贴合在树脂基材,将该表面处理铜箔去除时,该树脂基材的该铜箔去除侧表面的黑色面积率为10~50%,且该树脂基材的该铜箔去除侧表面的孔的直径平均值为0.03~1.0μm。

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