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公开(公告)号:CN102082077A
公开(公告)日:2011-06-01
申请号:CN201010517117.9
申请日:2010-10-15
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L21/02 , H01L29/786 , H01L21/336 , H01L27/32 , H01L51/56
CPC classification number: H01L21/02672 , H01L21/0206 , H01L21/02488 , H01L21/02491 , H01L21/02532 , H01L21/477 , H01L27/1277 , H01L27/3244 , H01L29/66757 , H01L29/78603 , H01L29/78675
Abstract: 本发明提供了一种制造多晶硅层的方法、一种使用该多晶硅层的薄膜晶体管、一种包括该多晶硅层的有机发光二极管显示装置及它们的制造方法。制造多晶硅层的方法包括:将缓冲层形成在基底上;将金属催化剂层形成在缓冲层上;使金属催化剂层中的金属催化剂扩散到缓冲层中;去除金属催化剂层;将非晶硅层形成在缓冲层上;对基底进行退火以使非晶硅层结晶成多晶硅层。薄膜晶体管包括:基底;缓冲层,设置在基底上;半导体层,设置在缓冲层上;栅绝缘层,设置在基底的上方并设置在半导体层上;栅电极,设置在栅绝缘层上;源电极和漏电极,均电连接到半导体层;金属硅化物,设置在缓冲层和半导体层之间。
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公开(公告)号:CN102064197A
公开(公告)日:2011-05-18
申请号:CN201010287308.0
申请日:2010-09-16
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L29/786 , H01L29/10 , H01L21/336 , H01L27/32
CPC classification number: H01L29/66757 , H01L27/1277 , H01L27/3262
Abstract: 本发明涉及薄膜晶体管、其制造方法和具有该薄膜晶体管的有机发光二极管显示器装置。所述薄膜晶体管包括:基板;缓冲层,位于所述基板上;半导体层,包括在所述缓冲层上的源/漏区和沟道区;栅绝缘层,对应于所述沟道区;栅极,对应于所述沟道区;和源/漏极,与所述半导体层电连接。所述沟道区的多晶硅层可仅包括小角度晶界,且大角度晶界可布置在所述半导体层的除所述沟道区外的区域中。
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公开(公告)号:CN101252150B
公开(公告)日:2011-04-06
申请号:CN200710307439.9
申请日:2007-12-27
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L29/786 , H01L21/336 , H01L27/32
CPC classification number: H01L29/78675 , H01L27/1277 , H01L27/3244 , H01L29/04 , H01L29/66757
Abstract: 一种薄膜晶体管,包括:衬底;设置在衬底上的半导体层,包括源极区域、漏极区域和沟道区域,并且由多晶硅层构成;设置成与半导体层的沟道区域对应的栅极电极;设置在半导体层和栅极电极之间的栅极绝缘层;以及分别电连接到半导体层的源极区域和漏极区域的源极电极和漏极电极,其中,多晶硅层包括相互具有不同拉曼谱峰值的多个区域。
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公开(公告)号:CN101826556A
公开(公告)日:2010-09-08
申请号:CN201010124380.1
申请日:2010-02-26
Applicant: 三星移动显示器株式会社
Inventor: 朴炳建 , 梁泰勋 , 徐晋旭 , 李基龙 , 马克西姆·利萨琴科 , 崔宝京 , 李大宇 , 李吉远 , 李东炫 , 朴钟力 , 安志洙 , 金永大 , 罗兴烈 , 郑珉在 , 郑胤谟 , 洪钟元 , 姜有珍 , 张锡洛 , 郑在琓 , 尹祥渊
IPC: H01L29/786 , H01L21/336 , H01L27/32
CPC classification number: H01L29/6675 , H01L21/02422 , H01L21/02488 , H01L21/02532 , H01L21/02667 , H01L21/02672 , H01L27/1277 , H01L29/66757 , H01L29/66765 , H01L29/78696
Abstract: 本发明涉及薄膜晶体管(TFT)和有机发光二极管(OLED)显示器装置。所述TFT和OLED显示器装置包括基板;缓冲层,所述缓冲层位于所述基板上;半导体层,所述半导体层位于所述缓冲层上;栅电极,所述栅电极与所述半导体层绝缘;栅绝缘层,所述栅绝缘层将所述半导体层与所述栅电极绝缘;以及源电极和漏电极,所述源电极和漏电极与所述栅电极绝缘,且部分连接所述半导体层,其中所述半导体层由金属催化剂结晶化的多晶硅层形成,且所述金属催化剂通过使用蚀刻剂吸杂来去除。此外,OLED显示器装置包括绝缘层,所述绝缘层位于所述基板的整个表面上;第一电极,所述第一电极位于所述绝缘层上,且电连接所述源电极和漏电极其中之一;有机层;和第二电极。
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公开(公告)号:CN101826555A
公开(公告)日:2010-09-08
申请号:CN201010122246.8
申请日:2010-03-02
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L29/786 , H01L21/336 , H01L27/32
CPC classification number: H01L21/02532 , H01L21/02422 , H01L21/02488 , H01L21/02672 , H01L27/1277 , H01L29/66757 , H01L29/78603 , H01L29/78675
Abstract: 本发明提供了一种薄膜晶体管、其制造方法及具有其的有机发光二极管显示装置,所述薄膜晶体管包括:基底;硅层,形成在基底上;扩散层,形成在硅层上;利用金属催化剂结晶化的半导体层,形成在扩散层上;栅电极,设置在扩散层上,面对半导体层的沟道区;栅极绝缘层,设置在栅电极和半导体层之间;源电极和漏电极,分别电连接到半导体层的源极区和漏极区。
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公开(公告)号:CN100585838C
公开(公告)日:2010-01-27
申请号:CN200610166981.2
申请日:2006-12-13
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L23/00 , H01L29/786 , H01L27/32 , H01L21/20 , H01L21/336 , H01L21/84 , C30B29/06
CPC classification number: H01L21/02672 , H01L21/02532 , H01L27/1277
Abstract: 提供了一种多晶硅层、采用所述多晶硅层的平板显示器和制造所述多晶硅层的方法。在基板上形成非晶硅层。在非晶硅层上形成第一图案层、第二图案层和金属催化剂层。形成第一图案层和第二图案层以界定一个至少400μm2的区域,金属催化剂层的金属催化剂在所述区域内扩散到非晶硅层内。通过扩散的金属催化剂使晶种区结晶。在结晶区从晶种区生长之后,在结晶区上形成半导体层,从而制造具有良好特性的薄膜晶体管。采用其制造平板显示器。
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公开(公告)号:CN100552976C
公开(公告)日:2009-10-21
申请号:CN200510082116.5
申请日:2005-06-29
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L29/786 , H01L27/02 , H01L21/00 , H01L21/336 , G02F1/136 , G09G3/38
CPC classification number: H01L21/02672 , H01L21/02422 , H01L21/02532 , H01L21/2022 , H01L27/1255 , H01L27/1277
Abstract: 一种半导体器件中的薄膜晶体管的半导体层和电容器的第一电极是由非晶硅形成的,而且半导体层的源/漏极区的整个部分或一部分和电容器的第一电极是通过金属诱导晶化方法晶化的,半导体层的沟道区是通过金属诱导横向晶化方法晶化的。
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公开(公告)号:CN100517730C
公开(公告)日:2009-07-22
申请号:CN200610110090.5
申请日:2004-07-16
Applicant: 三星移动显示器株式会社
Abstract: 本发明涉及一种包括多晶硅薄膜晶体管的平板显示装置和互补金属氧化物半导体。形成于这种平板显示装置的驱动电路部分和象素部分的薄膜晶体管的有源沟道区域中的多晶硅晶粒的晶粒大小彼此不相同。而且,这种平板显示装置包括彼此具有不同晶粒形状的P型和N型薄膜晶体管。对于诸如电流迁移率这样的电特性,在驱动电路部分中要好于在所述象素部分中。而且,由于晶粒大小在象素部分中比在驱动电路部分中更为均匀,所以在象素部分中具有更好的电流一致性。
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公开(公告)号:CN100481509C
公开(公告)日:2009-04-22
申请号:CN200410075895.1
申请日:2004-12-31
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L29/786 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/78654 , H01L29/66757 , H01L29/66772 , H01L29/78675 , H01L29/78696
Abstract: 本发明涉及薄膜晶体管及其制造方法。通过均匀控制晶化催化剂的低浓度和控制晶化位置使得在薄膜晶体管的沟道层中不存在籽晶并且不存在晶界或只存在一个晶界,从而开发出一种具有改进的特性和均匀性的薄膜晶体管。薄膜晶体管包括:衬底;在衬底上形成的半导体层图案,该半导体层图案具有不存在籽晶且不存在晶界的沟道层;在半导体层图案上形成的栅绝缘膜;以及在栅绝缘膜上形成的栅电极。一种用于制造薄膜晶体管的方法包括:在衬底上形成非晶硅层;通过晶化并构图非晶硅层,形成具有其中不存在籽晶且不存在晶界的沟道层的半导体层图案;在半导体层图案上形成栅绝缘膜;以及在栅绝缘膜上形成栅电极。
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公开(公告)号:CN101866853B
公开(公告)日:2012-07-18
申请号:CN201010128599.9
申请日:2010-03-03
Applicant: 三星移动显示器株式会社
Inventor: 罗兴烈 , 李基龙 , 徐晋旭 , 郑珉在 , 洪钟元 , 姜有珍 , 张锡洛 , 郑胤谟 , 梁泰勋 , 苏炳洙 , 朴炳建 , 李东炫 , 李吉远 , 朴钟力 , 崔宝京 , 伊凡·迈丹丘克 , 白原奉 , 郑在琓
IPC: H01L21/324 , H01L21/00
CPC classification number: H01L21/67109
Abstract: 本发明公开一种基板处理设备,其通过均匀地加热基板,在多个基板上形成薄膜和热处理基板。该基板处理设备包括处理室、其中堆叠基板的船形器皿、位于处理室外部的外部加热器、将船形器皿移进和移出处理室的输送器、位于输送器下方的下部加热器、和位于船形器皿中间的中间加热器。
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