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公开(公告)号:CN101866853B
公开(公告)日:2012-07-18
申请号:CN201010128599.9
申请日:2010-03-03
Applicant: 三星移动显示器株式会社
Inventor: 罗兴烈 , 李基龙 , 徐晋旭 , 郑珉在 , 洪钟元 , 姜有珍 , 张锡洛 , 郑胤谟 , 梁泰勋 , 苏炳洙 , 朴炳建 , 李东炫 , 李吉远 , 朴钟力 , 崔宝京 , 伊凡·迈丹丘克 , 白原奉 , 郑在琓
IPC: H01L21/324 , H01L21/00
CPC classification number: H01L21/67109
Abstract: 本发明公开一种基板处理设备,其通过均匀地加热基板,在多个基板上形成薄膜和热处理基板。该基板处理设备包括处理室、其中堆叠基板的船形器皿、位于处理室外部的外部加热器、将船形器皿移进和移出处理室的输送器、位于输送器下方的下部加热器、和位于船形器皿中间的中间加热器。
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公开(公告)号:CN102386070A
公开(公告)日:2012-03-21
申请号:CN201110259627.5
申请日:2011-08-31
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L21/20 , H01L21/336 , H01L29/786 , H01L27/32
CPC classification number: H01L29/66757 , H01L21/02422 , H01L21/02488 , H01L21/02532 , H01L21/02672 , H01L27/1218 , H01L27/1277 , H01L27/3262 , H01L29/78603
Abstract: 本发明公开了一种形成多晶硅层的方法、一种形成薄膜晶体管的方法、一种薄膜晶体管和一种有机发光显示装置。形成多晶硅层的方法包括:在基底上形成缓冲层;利用氢等离子体处理所述缓冲层;在所述缓冲层上形成非晶硅层;在所述非晶硅层上形成用于使所述非晶硅层晶化的金属催化剂层;以及对所述非晶硅层热处理以形成多晶硅层。
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公开(公告)号:CN102290335A
公开(公告)日:2011-12-21
申请号:CN201110167103.3
申请日:2011-06-16
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L21/20 , H01L21/02 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/66757 , H01L21/02422 , H01L21/02488 , H01L21/02491 , H01L21/02502 , H01L21/02532 , H01L21/02672 , H01L27/1277 , H01L29/78609 , H01L29/78675
Abstract: 一种使硅层结晶的方法和制造薄膜晶体管的方法,该使硅层结晶的方法包括:在基板上形成催化剂金属层;在所述催化剂金属层上形成催化剂金属压盖图案;在所述催化剂金属压盖图案上形成第二非晶硅层;以及对所述第二非晶硅层进行热处理以形成多晶硅层。
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公开(公告)号:CN102270570A
公开(公告)日:2011-12-07
申请号:CN201110156773.5
申请日:2011-06-03
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L21/02 , H01L21/314 , H01L21/336
CPC classification number: H01L21/02672 , H01L21/02532 , H01L27/1277
Abstract: 本发明公开了一种使硅层结晶的方法及一种使用该方法制造薄膜晶体管的方法,使硅层结晶的方法包括:在基底上形成非晶硅层;对非晶硅层的表面执行疏水性处理,以在非晶硅层上获得疏水性表面;在经历过疏水性处理的非晶硅层上形成金属催化剂;以及热处理其上包括金属催化剂的非晶硅层,以使非晶硅层结晶成多晶硅层。
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公开(公告)号:CN102201443A
公开(公告)日:2011-09-28
申请号:CN201110055020.5
申请日:2011-03-07
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L29/78 , H01L27/12 , H01L21/336 , H01L21/77 , H01L27/32
CPC classification number: H01L29/66742 , H01L27/124 , H01L27/1248 , H01L27/3262 , H01L27/3274 , H01L29/66757 , H01L29/78618 , H01L51/0081
Abstract: 本发明公开了一种基底、制造该基底的方法及包括该基底的有机发光显示装置。该基底包括:有源层,设置在基底上,有源层包括沟道区及源区和漏区;栅电极,设置在有源层上,沟道区与栅电极对应;栅极绝缘层,设置在有源层和栅电极之间;层间绝缘层,设置为覆盖有源层和栅电极,层间绝缘层具有部分地暴露有源层的第一接触孔和第二接触孔;源电极和漏电极,设置在层间绝缘层上,源区和漏区与源电极和漏电极对应;欧姆接触层,欧姆接触层设置在层间绝缘层与源电极和漏电极之间,并通过第一接触孔和第二接触孔接触源区和漏区。
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公开(公告)号:CN101546782B
公开(公告)日:2011-01-12
申请号:CN200910127094.8
申请日:2009-03-27
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L29/786 , H01L29/06 , H01L29/423 , H01L21/336 , H01L27/32
CPC classification number: H01L29/78615 , H01L27/1277 , H01L29/66757
Abstract: 薄膜晶体管、其制造方法及有机发光二极管显示装置。该薄膜晶体管包括:基板;布置在所述基板上的半导体层,包括沟道区、源极区、漏极区和基体接触区;布置在所述半导体层上从而使所述第一基体接触区暴露的栅极绝缘层;布置在所述栅极绝缘层上从而接触所述第一基体接触区的栅电极;布置在所述栅电极上的层间绝缘层;以及布置在所述层间绝缘层上并且被电连接至所述源极区和所述漏极区的源电极和漏电极。所述基体接触区被形成在所述半导体层的边缘中。
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公开(公告)号:CN101826548A
公开(公告)日:2010-09-08
申请号:CN201010123974.0
申请日:2010-02-26
Applicant: 三星移动显示器株式会社
CPC classification number: H01L51/52 , H01L27/3265 , H01L2227/323
Abstract: 本发明提供了一种有机发光二极管(OLED)显示装置及其制造方法。所述OLED显示装置包括:基底,具有薄膜晶体管区域和电容器区域;缓冲层,设置在所述基底上;栅极绝缘层,设置在基底上;下电容器电极,设置在电容器区域中的栅极绝缘层上;层间绝缘层,设置在基底上;上电容器电极,设置在层间绝缘层上并且面对下电容器电极,其中,缓冲层、栅极绝缘层、层间绝缘层、下电容器电极和上电容器电极中的每个的区域具有这样的表面,在这些表面中形成形状与半导体层的晶界的形状相同的突起。所得电容器具有增加的表面面积,因此增大了电容。
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公开(公告)号:CN101826548B
公开(公告)日:2012-10-24
申请号:CN201010123974.0
申请日:2010-02-26
Applicant: 三星移动显示器株式会社
CPC classification number: H01L51/52 , H01L27/3265 , H01L2227/323
Abstract: 本发明提供了一种有机发光二极管(OLED)显示装置及其制造方法。所述OLED显示装置包括:基底,具有薄膜晶体管区域和电容器区域;缓冲层,设置在所述基底上;栅极绝缘层,设置在基底上;下电容器电极,设置在电容器区域中的栅极绝缘层上;层间绝缘层,设置在基底上;上电容器电极,设置在层间绝缘层上并且面对下电容器电极,其中,缓冲层、栅极绝缘层、层间绝缘层、下电容器电极和上电容器电极中的每个的区域具有这样的表面,在这些表面中形成形状与半导体层的晶界的形状相同的突起。所得电容器具有增加的表面面积,因此增大了电容。
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公开(公告)号:CN102386090A
公开(公告)日:2012-03-21
申请号:CN201110235311.2
申请日:2011-08-16
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L21/324 , H01L29/786 , H01L51/50
CPC classification number: H01L29/78675 , H01L21/3226 , H01L27/1277 , H01L27/3262 , H01L29/66757
Abstract: 一种形成多晶硅层的方法,包括:在基板上形成非晶硅层;在所述非晶硅层上形成金属催化剂;在形成所述金属催化剂的所述非晶硅层的整个表面上形成吸杂金属层;以及执行热处理。一种薄膜晶体管包括所述多晶硅层,并且一种有机发光器件包括所述薄膜晶体管。
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公开(公告)号:CN101942640A
公开(公告)日:2011-01-12
申请号:CN201010224415.9
申请日:2010-07-07
Applicant: 三星移动显示器株式会社
Inventor: 罗兴烈 , 李基龙 , 徐晋旭 , 郑珉在 , 洪钟元 , 姜有珍 , 张锡洛 , 梁泰勋 , 郑胤谟 , 苏炳洙 , 朴炳建 , 伊凡·马伊达楚克 , 李东炫 , 李吉远 , 白原奉 , 朴钟力 , 崔宝京 , 郑在琓
IPC: C23C14/24 , C23C16/448 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45525 , C23C16/4481 , C23C16/45544 , C23C16/52 , Y10T137/6416
Abstract: 本发明公开一种用于沉积装置的罐和一种利用该罐的沉积装置和方法,所述罐在原料通过原子层沉积被沉积在基板上时能够保持包含在供应到沉积室的反应气体中的原料的预定量,该罐包括:主体、被配置为存储原料的原料存储器、设置在所述主体的外侧的加热器以及被配置为控制所述原料从所述原料存储器供应到所述主体的第一供给控制器。
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