薄膜晶体管及其制造方法

    公开(公告)号:CN100481509C

    公开(公告)日:2009-04-22

    申请号:CN200410075895.1

    申请日:2004-12-31

    Abstract: 本发明涉及薄膜晶体管及其制造方法。通过均匀控制晶化催化剂的低浓度和控制晶化位置使得在薄膜晶体管的沟道层中不存在籽晶并且不存在晶界或只存在一个晶界,从而开发出一种具有改进的特性和均匀性的薄膜晶体管。薄膜晶体管包括:衬底;在衬底上形成的半导体层图案,该半导体层图案具有不存在籽晶且不存在晶界的沟道层;在半导体层图案上形成的栅绝缘膜;以及在栅绝缘膜上形成的栅电极。一种用于制造薄膜晶体管的方法包括:在衬底上形成非晶硅层;通过晶化并构图非晶硅层,形成具有其中不存在籽晶且不存在晶界的沟道层的半导体层图案;在半导体层图案上形成栅绝缘膜;以及在栅绝缘膜上形成栅电极。

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