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公开(公告)号:CN102386069A
公开(公告)日:2012-03-21
申请号:CN201110241085.9
申请日:2011-08-22
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L21/20 , H01L21/336 , H01L29/786 , H01L27/32
CPC classification number: H01L27/3244 , H01L21/0245 , H01L21/02532 , H01L21/02667 , H01L21/02672 , H01L27/1277 , H01L27/3262 , H01L29/1033 , H01L29/66765 , H01L29/78609 , H01L29/78675 , H01L29/78678
Abstract: 一种形成多晶硅层的方法,包括形成第一非晶硅层和形成第二非晶硅层,使得所述第一非晶硅层和所述第二非晶硅层具有彼此不同的膜性质;和用金属催化剂使所述第一非晶硅层和所述第二非晶硅层结晶,以形成第一多晶硅层和第二多晶硅层。一种薄膜晶体管包括由所述方法形成的多晶硅层,和一种有机发光装置包括所述薄膜晶体管。
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公开(公告)号:CN101866853A
公开(公告)日:2010-10-20
申请号:CN201010128599.9
申请日:2010-03-03
Applicant: 三星移动显示器株式会社
Inventor: 罗兴烈 , 李基龙 , 徐晋旭 , 郑珉在 , 洪钟元 , 姜有珍 , 张锡洛 , 郑胤谟 , 梁泰勋 , 苏炳洙 , 朴炳建 , 李东炫 , 李吉远 , 朴钟力 , 崔宝京 , 伊凡·迈丹丘克 , 白原奉 , 郑在琓
IPC: H01L21/324 , H01L21/00
CPC classification number: H01L21/67109
Abstract: 本发明公开一种基板处理设备,其通过均匀地加热基板,在多个基板上形成薄膜和热处理基板。该基板处理设备包括处理室、其中堆叠基板的船形器皿、位于处理室外部的外部加热器、将船形器皿移进和移出处理室的输送器、位于输送器下方的下部加热器、和位于船形器皿中间的中间加热器。
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公开(公告)号:CN102312218A
公开(公告)日:2012-01-11
申请号:CN201110006623.6
申请日:2011-01-10
Applicant: 三星移动显示器株式会社
Inventor: 郑珉在 , 李基龙 , 洪钟元 , 罗兴烈 , 姜有珍 , 张锡洛 , 徐晋旭 , 梁泰勋 , 郑胤谟 , 苏炳洙 , 朴炳建 , 李东炫 , 李吉远 , 白原奉 , 朴钟力 , 崔宝京 , 伊凡·马伊达楚克 , 郑在琓
IPC: C23C16/448 , C23C16/455 , C23C16/44
CPC classification number: C23C16/4481 , C23C16/45525 , C23C16/52
Abstract: 一种用于沉积装置的罐和使用罐的沉积装置,并且更为具体地,一种能够提供包含在供应到沉积室中的反应气体中的均匀量的原材料并且提高原材料供应的安全性的沉积装置的罐,以及使用罐的沉积装置。该沉积装置包括:沉积室;将反应气体供应到该沉积室的罐;以及用于将载气供应到罐的载气供应器,其中该罐包括主体、加热该主体的加热单元以及布置在该主体下方的温度测量单元。
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公开(公告)号:CN102082077A
公开(公告)日:2011-06-01
申请号:CN201010517117.9
申请日:2010-10-15
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L21/02 , H01L29/786 , H01L21/336 , H01L27/32 , H01L51/56
CPC classification number: H01L21/02672 , H01L21/0206 , H01L21/02488 , H01L21/02491 , H01L21/02532 , H01L21/477 , H01L27/1277 , H01L27/3244 , H01L29/66757 , H01L29/78603 , H01L29/78675
Abstract: 本发明提供了一种制造多晶硅层的方法、一种使用该多晶硅层的薄膜晶体管、一种包括该多晶硅层的有机发光二极管显示装置及它们的制造方法。制造多晶硅层的方法包括:将缓冲层形成在基底上;将金属催化剂层形成在缓冲层上;使金属催化剂层中的金属催化剂扩散到缓冲层中;去除金属催化剂层;将非晶硅层形成在缓冲层上;对基底进行退火以使非晶硅层结晶成多晶硅层。薄膜晶体管包括:基底;缓冲层,设置在基底上;半导体层,设置在缓冲层上;栅绝缘层,设置在基底的上方并设置在半导体层上;栅电极,设置在栅绝缘层上;源电极和漏电极,均电连接到半导体层;金属硅化物,设置在缓冲层和半导体层之间。
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公开(公告)号:CN102064197A
公开(公告)日:2011-05-18
申请号:CN201010287308.0
申请日:2010-09-16
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L29/786 , H01L29/10 , H01L21/336 , H01L27/32
CPC classification number: H01L29/66757 , H01L27/1277 , H01L27/3262
Abstract: 本发明涉及薄膜晶体管、其制造方法和具有该薄膜晶体管的有机发光二极管显示器装置。所述薄膜晶体管包括:基板;缓冲层,位于所述基板上;半导体层,包括在所述缓冲层上的源/漏区和沟道区;栅绝缘层,对应于所述沟道区;栅极,对应于所述沟道区;和源/漏极,与所述半导体层电连接。所述沟道区的多晶硅层可仅包括小角度晶界,且大角度晶界可布置在所述半导体层的除所述沟道区外的区域中。
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公开(公告)号:CN102386235A
公开(公告)日:2012-03-21
申请号:CN201110259212.8
申请日:2011-09-02
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L29/786 , H01L21/336 , H01L27/32
CPC classification number: H01L29/4908 , H01L21/02532 , H01L21/02672 , H01L27/1277 , H01L27/3262 , H01L29/66757 , H01L29/78675
Abstract: 本发明公开了一种薄膜晶体管及其制造方法和利用该薄膜晶体管的显示设备。该薄膜晶体管包括:基板、提供在所述基板上并且通过利用金属催化剂被结晶化的半导体层、与所述半导体层绝缘并且被设置在所述半导体层上的栅电极、以及设置在所述半导体层与所述栅电极之间的吸气层,所述吸气层利用具有比所述半导体层中的金属催化剂的扩散系数小的扩散系数的金属氧化物形成。
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公开(公告)号:CN102214556A
公开(公告)日:2011-10-12
申请号:CN201110041351.3
申请日:2011-02-14
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L21/02 , H01L21/20 , H01L21/336 , H01L29/786 , H01L29/08 , H01L29/10
CPC classification number: H01L21/02532 , H01L21/02488 , H01L21/02672 , H01L27/1277 , H01L29/66757 , H01L29/66765
Abstract: 本发明公开了一种使非晶硅层结晶的方法、利用该方法来制造薄膜晶体管的方法以及利用该制造方法制造的薄膜晶体管,所述结晶方法包括以下步骤:形成非晶硅层;在非晶硅层上彼此分开地设置结晶催化剂颗粒;从非晶硅层的一部分选择性地去除结晶催化剂颗粒;通过热处理使非晶硅层结晶。
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公开(公告)号:CN102194890A
公开(公告)日:2011-09-21
申请号:CN201110064215.6
申请日:2011-03-15
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L29/786 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/78645
Abstract: 本发明提供了一种薄膜晶体管(TFT),所述TFT包括基底和在基底上的有源区域,该有源区域包括在有源区域的相对端处的源极区域和漏极区域、至少一个与源极区域或漏极区域相邻的轻掺杂区域、多个沟道区域和在所述多个沟道区域中的两个沟道区域之间的高掺杂区域。所述TFT包括在有源区域上的栅绝缘层和多栅电极,所述多栅电极包括在栅绝缘层上的多个栅电极,所述多个沟道区域设置在对应的栅电极下方,所述源极区域和漏极区域被设置为与所述多栅电极的最外部相邻。所述TFT包括在所述多栅电极上的第一层间绝缘层和源电极与漏电极,所述源电极与漏电极延伸通过第一层间绝缘层并与各自的源极区域和漏极区域接触。
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公开(公告)号:CN102386090A
公开(公告)日:2012-03-21
申请号:CN201110235311.2
申请日:2011-08-16
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L21/324 , H01L29/786 , H01L51/50
CPC classification number: H01L29/78675 , H01L21/3226 , H01L27/1277 , H01L27/3262 , H01L29/66757
Abstract: 一种形成多晶硅层的方法,包括:在基板上形成非晶硅层;在所述非晶硅层上形成金属催化剂;在形成所述金属催化剂的所述非晶硅层的整个表面上形成吸杂金属层;以及执行热处理。一种薄膜晶体管包括所述多晶硅层,并且一种有机发光器件包括所述薄膜晶体管。
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公开(公告)号:CN101942640A
公开(公告)日:2011-01-12
申请号:CN201010224415.9
申请日:2010-07-07
Applicant: 三星移动显示器株式会社
Inventor: 罗兴烈 , 李基龙 , 徐晋旭 , 郑珉在 , 洪钟元 , 姜有珍 , 张锡洛 , 梁泰勋 , 郑胤谟 , 苏炳洙 , 朴炳建 , 伊凡·马伊达楚克 , 李东炫 , 李吉远 , 白原奉 , 朴钟力 , 崔宝京 , 郑在琓
IPC: C23C14/24 , C23C16/448 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45525 , C23C16/4481 , C23C16/45544 , C23C16/52 , Y10T137/6416
Abstract: 本发明公开一种用于沉积装置的罐和一种利用该罐的沉积装置和方法,所述罐在原料通过原子层沉积被沉积在基板上时能够保持包含在供应到沉积室的反应气体中的原料的预定量,该罐包括:主体、被配置为存储原料的原料存储器、设置在所述主体的外侧的加热器以及被配置为控制所述原料从所述原料存储器供应到所述主体的第一供给控制器。
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