显示装置及其制造方法
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119486488A

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202411038350.7

    申请日:2024-07-31

    Abstract: 本发明涉及显示装置及其制造方法。根据一个实施方式,显示装置的制造方法为形成下电极,形成无机绝缘层,依次形成下部层及上部层,形成图案化了的第1抗蚀剂,进行将第1抗蚀剂作为掩模的蚀刻,依次除去从第1抗蚀剂露出的上部层及下部层,在除去第1抗蚀剂后,形成覆盖下部层及上部层且露出无机绝缘层的第2抗蚀剂,进行将第2抗蚀剂作为掩模的蚀刻,在无机绝缘层形成与下电极重叠的开口,在除去第2抗蚀剂后,进行下部层的蚀刻,形成具有位于无机绝缘层之上的下部和位于下部之上且从下部的侧面突出的上部的隔壁,进行将隔壁作为掩模的蒸镀,在开口中,在下电极之上形成包含有机层及上电极的层叠膜。

    显示装置及显示装置的制造方法
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119095434A

    公开(公告)日:2024-12-06

    申请号:CN202410695189.4

    申请日:2024-05-31

    Inventor: 石田有亲

    Abstract: 本发明涉及显示装置及其制造方法。根据一个实施方式,显示装置具备:基板;有机绝缘层,其配置于上述基板的上方;下电极,其配置于上述有机绝缘层之上;平坦化层,其配置于上述有机绝缘层之上并与上述下电极的侧面接触;无机绝缘层,其覆盖上述平坦化层,并且覆盖上述下电极的周缘部;隔壁,其具有下部和上部,所述下部配置于上述无机绝缘层之上且由导电材料形成,所述上部配置于上述下部之上且从上述下部的侧面突出;有机层,其被上述隔壁包围、配置于上述下电极之上、并包含发光层;和上电极,其被上述隔壁包围、配置于上述有机层之上、并与上述隔壁的上述下部接触。

    显示装置及其制造方法
    18.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117956864A

    公开(公告)日:2024-04-30

    申请号:CN202311400024.1

    申请日:2023-10-26

    Inventor: 石田有亲

    Abstract: 本发明涉及显示装置及其制造方法。显示装置具备:配置在显示区域的连接电极;配置在比显示区域靠外侧的周边区域的端子电极;具有通至连接电极的接触孔并与端子电极周缘部重叠的绝缘层;配置在绝缘层之上并在接触孔中与连接电极电连接的下电极;由无机绝缘材料形成并与下电极周缘部重叠的肋部;具有配置在肋部之上并由导电材料形成的下部和配置在下部之上并从下部的侧面突出的上部的隔壁;配置在下电极之上并包含发光层的有机层;覆盖有机层并与隔壁的下部接触的上电极;和覆盖从绝缘层露出的端子电极的罩电极,下电极具备第1透明电极、第1透明电极之上的第1金属电极和第1金属电极之上的第2透明电极,罩电极由与第1透明电极相同的材料形成。

    显示装置及其制造方法
    19.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117915686A

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202311332466.7

    申请日:2023-10-16

    Inventor: 石田有亲

    Abstract: 本发明涉及显示装置及其制造方法。根据实施方式,显示装置包括:下电极;肋部,其具有与所述下电极重叠的像素开口;隔壁,其包含配置在所述肋部之上的下部、配置在所述下部之上并从所述下部的侧面突出的第1层、及配置在所述第1层之上并具有比所述第1层小的宽度的第2层;有机层,其通过所述像素开口而覆盖所述下电极、并对应于电压的施加而发光;和上电极,其覆盖所述有机层、并与所述下部的所述侧面接触。

    显示装置的制造方法
    20.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116507180A

    公开(公告)日:2023-07-28

    申请号:CN202310083077.9

    申请日:2023-01-18

    Abstract: 本发明涉及显示装置的制造方法。根据一个实施方式,在显示装置的制造方法中,准备在基板的上方形成有下电极、肋部和包含下部及上部的隔壁的处理基板,形成覆盖下电极的第1有机层、和与第1有机层分离并位于上部之上的第2有机层,形成位于第1有机层之上并与下部相接的第1上电极、和与第1上电极分离并位于第2有机层之上的第2上电极,形成位于第1上电极和第2上电极的上方并覆盖隔壁的封固层,形成覆盖封固层的一部分的抗蚀剂,以抗蚀剂为掩模进行各向异性干式蚀刻,减小从抗蚀剂露出的封固层的膜厚,以抗蚀剂为掩模,使用氟系气体与氧的混合气体进行各向同性干式蚀刻,将从抗蚀剂露出的封固层除去。

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