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公开(公告)号：CN113512714A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110771701.5
申请日：2021-07-08
申请人： 贵研铂业股份有限公司
IPC分类号： C23C16/14 , C23C16/448 , C30B35/00 , C30B29/16
摘要： 本发明提供了一种铼‑钨复合坩埚及其制备方法和应用，属于金属材料制备技术领域。本发明的铼‑钨复合坩埚包括基体钨坩埚以及铼层，所述铼层位于所述基体钨坩埚的内表面。本发明将难熔金属钨和铼的优点结合起来，创新设计并制备铼‑钨复合坩埚，可大幅降低坩埚的成本；本发明采用CVD法制备复合坩埚内部的铼层，且铼层与氧化物熔体直接接触，在提高坩埚材料的致密度和纯度的同时，还能保证所制备激光晶体的高品质，所发明的铼/钨复合坩埚主要用于难熔金属氧化物，如稀土氧化物、碱土金属氧化物等高熔点晶体的生长。
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公开(公告)号：CN111235536A
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN202010186255.7
申请日：2020-03-17
申请人： 贵研铂业股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种晶粒高定向取向的铱溅射靶材及其制备方法，铱溅射靶材呈现(111)晶面高定向取向，致密度不低于99.5%，晶粒尺寸1-10μm，氧含量100 ppm以内；所述(111)晶面与(200)晶面积分强度比不低于4。所述制备方法包括以下步骤：选择4N及以上纯度，粒度为1-10μm的铱粉；随后将粉末进行冷压成型；再将冷压成型的锭坯进行低温微波烧结；再将锭坯进行低温真空热压烧结进一步提高致密度；最后机加工获得靶材。本发明采用较低的烧结温度、低温真空热压技术及充氢气形成还原气氛，使得铱溅射靶材性能优异，高致密度和(111)晶面高定向取向有助于获得高溅射速率、厚度均匀的铱薄膜，制备工艺简便，条件温和易于操控，而且可大大提高了生产效率，极大地节约制备成本。
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公开(公告)号：CN108296491A
公开(公告)日：2018-07-20
申请号：CN201810066926.9
申请日：2018-01-24
申请人： 贵研铂业股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种微米级类球形铱(Ir)粉体及其制备方法，所制备的微米级Ir粉体的纯度可达99.99％，颗粒尺寸为1～5μm，平均粒径为4μm。本发明以氯铱酸铵[(NH4)2IrCl6]为原料，采用雾化干燥结合微波煅烧技术制备了微米级类球形Ir粉体，本发明通过雾化干燥和微波煅烧工艺，制备的微米级Ir粉体，具有纯度高，尺寸均匀，近似球形和分散性好的优点，这使得粉体具有很好的流动性和烧结性能。这种铱粉体可以用于制备高温性能优异、高强度硬度、耐腐蚀和耐氧化的各种铱制品，广泛应用于电光、电气、航空航天和核反应堆领域。
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公开(公告)号：CN115570136A
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN202211350845.4
申请日：2022-10-31
申请人： 东北大学 , 贵研铂业股份有限公司
摘要： 本发明公开了铱及铱合金材料及其制备方法，解决了高致密、细晶粒、晶粒择优取向的大尺寸铱及铱合金材料制备难题。本发明通过氢气气氛脱气除杂提高坯体纯度，并通过陶瓷压头进行原位真空无模具热压延缓慢变形，提高了材料致密度，避免了杂质污染，解决了模具使用难题，实现大尺寸高性能铱及铱合金材料制备。本发明工艺合理，易于实现，所制备的铱及铱合金材料性能优异。
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公开(公告)号：CN114293157A
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN202111501941.X
申请日：2021-12-09
申请人： 贵研铂业股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种由易氧化金属镀膜保护制备的高均质NiCrPt合金溅射靶材及其制备方法，所述溅射靶材之基材原料由纯度≥99.99wt％的Ni、Cr、Pt金属组成，其中Cr10~30at%，Pt1~4.5at%，余量为Ni，外加总质量比0.01~0.08%的除氧剂；基材表面保护镀膜厚度≤5μm；所述溅射靶材致密度≥99.5%，且无肉眼可见的缺陷，氧含量≤30ppm，靶材晶粒均匀，其平均粒径为20~100μm；所述溅射靶材之表层机加工处理的去除深度≤0.5mm。其制备方法由基材铸锭与清洗处理、基材镀膜、坯材轧制、再结晶处理和机加工处理工艺实现。本发明基于“控氧+优先保护”原理，降低基材氧含量，基材表面优先溅射易氧化金属保护镀层，抑制“夹生”脆性氧化物，提高了靶材优材率，降低了表层去除深度，减少靶材浪费，节约成本。
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公开(公告)号：CN114289727A
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN202111501964.0
申请日：2021-12-09
申请人： 贵研铂业股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种高均质微粒径高纯钌粉及其制备方法，所述高纯钌粉的由重量百分浓度的钌离子水溶液、沉淀剂和分散保护剂制备得到；所述高纯钌粉纯度≥99.999%，近球形，分散性好，平均粒径＜3μm；所述高纯钌粉由前驱体制备、前驱体煅烧、前驱体还原、钌粉纯化工艺制备获得。本发明采用化学液相法通过改变反应条件的一种或几种可以有效低控制反应进程，有效控制反应生成物的粒径、形貌；选择了不参与反应、易溶于水的高分子树脂作为分散保护剂，通过物理吸附作用，能有效控制反应生成物的粒径大小，使形貌趋于球形生长，同时改善分散性，助于获得高均质优分散性的产物。本发明获得具有尺寸稳定的微米粒径钌粉，其尺度在1~3μm之间得到控制。从附图可见钌粒子具有尺度均匀、呈类球形的特点，颗粒间分散性好。
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公开(公告)号：CN111411251B
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：CN202010376203.6
申请日：2020-05-07
申请人： 贵研铂业股份有限公司
摘要： 本发明提供了一种铼喷管用抗氧化涂层及其制备方法、铼‑抗氧化涂层喷管，属于涂层制备技术领域。本发明的抗氧化涂层具有高致密性和成分均匀性。熔炼是制备贵金属材料普遍采用的传统方法，优点是制备速度快、工艺成熟、设备简单。通过熔炼预合金化、均匀化热处理、热锻和热等静压加工，材料进一步均匀化和致密化，可以获得相对密度超过99.9％的高致密涂层材料；采用机加工制备涂层，涂层的厚度和加工精度完全按照图纸设计要求进行加工，厚度均匀性可控，尺寸精度可达±10μm。
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公开(公告)号：CN111411251A
公开(公告)日：2020-07-14
申请号：CN202010376203.6
申请日：2020-05-07
申请人： 贵研铂业股份有限公司
摘要： 本发明提供了一种铼喷管用抗氧化涂层及其制备方法、铼-抗氧化涂层喷管，属于涂层制备技术领域。本发明的抗氧化涂层具有高致密性和成分均匀性。熔炼是制备贵金属材料普遍采用的传统方法，优点是制备速度快、工艺成熟、设备简单。通过熔炼预合金化、均匀化热处理、热锻和热等静压加工，材料进一步均匀化和致密化，可以获得相对密度超过99.9％的高致密涂层材料；采用机加工制备涂层，涂层的厚度和加工精度完全按照图纸设计要求进行加工，厚度均匀性可控，尺寸精度可达±10μm。
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公开(公告)号：CN108411135B
公开(公告)日：2020-04-24
申请号：CN201810120855.6
申请日：2018-02-07
申请人： 东北大学 , 贵研铂业股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种银镁镍合金带(片)、丝材的制备方法，以银镁合金粉、含镍粉体为原料，将银镁合金粉、含镍粉体球磨混料，混合料空气中煅烧后再经还原气氛加热处理，处理后粉体经烧结成致密体，致密体经轧制成带(片)或经挤压成丝，带(片)、丝材再经内氧化制备成银镁镍合金带(片)、丝材。不同于传统熔炼铸造工艺，本发明通过将银镁合金粉、含镍粉体均匀混合，进而控制镍在银基体中的分布，实现银镁镍合金成分分布、显微组织的可控制备。
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公开(公告)号：CN115415351B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202211047631.X
申请日：2022-08-30
申请人： 贵研铂业股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种高纯铜靶材的制备方法及靶材的用途，所制备的铜靶材平均晶粒尺寸≤1μm，且分布均匀。制备步骤包括：将纯度≥4N的铜原料依次进行1)连续铸造；2)坯料切割；3)等通道侧向挤压；4)轧制；5)热处理，制得高纯铜靶材。该方法制备的高纯铜靶材具有晶粒尺寸均匀细小、取向较为一致、靶材尺寸较大且较厚等特点，可应用于大规模集成电路互连线的溅射镀膜。
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