利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

52 条记录 (耗时 0.022 秒)

    光刻设备
    13.
    发明公开
    光刻设备 无效

    公开(公告)号：CN102141740A

    公开(公告)日：2011-08-03

    申请号：CN201110084754.6

    申请日：2009-09-25

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： L·范道仁 ,  J·H·W·雅各布斯 ,  W·A·琼格尔

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G01N21/39

    CPC分类号： G01N21/39 ,  G01N21/274 ,  G01N21/314 ,  G01N21/3554 ,  G01N2021/399 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70916

    摘要： 本发明公开了一种光刻设备，所述光刻设备包括：湿度测量系统，所述湿度测量系统包括：可调谐激光二极管，配置以发射测量辐射束，所述测量辐射束具有在一波长范围内的波长，所述波长范围包括与水分子的吸收峰相关的第一波长；和连接至辐射探测器的信号处理单元，所述辐射探测器被配置以测量经受吸收的所述可调谐激光二极管的测量辐射束的强度，并且所述信号处理单元被连接至所述可调谐激光二极管，用于获得波长信息，和一个或多个浸没系统部件，其中所述湿度测量系统配置成测量从所述一个或多个浸没系统部件中抽取的空气的湿度，用于确定所述一个或多个浸没系统部件上的热负载。

    光刻装置、部件制造方法及其所制造的部件
    14.
    发明公开
    光刻装置、部件制造方法及其所制造的部件 无效 复审申请

    公开(公告)号：CN1841212A

    公开(公告)日：2006-10-04

    申请号：CN200610077418.8

    申请日：2006-03-28

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： J·H·W·雅各布斯 ,  V·Y·巴尼内 ,  B·D·布里威斯特 ,  V·V·伊弗诺夫 ,  B·M·默滕斯 ,  J·H·J·穆尔斯 ,  R·G·利夫西 ,  B·T·沃尔施里恩

    IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/70933

    摘要： 一种光刻投影装置，包括：·用于提供辐射投影光束的辐射系统；·具有掩模架用于保持掩模的掩模台；·具有基底架用于保持基底的基底台；·用于将掩模的辐射部分成像在基底的靶部分上的投影系统。由此：a)用介入空间将投影系统与基底台分隔开，该介入空间至少能部分地被抽真空，并且其在投影系统位置处由固体表面界定，所用的辐射从该表面指向基底台；b)介入空间包括位于固体表面和基底台之间的并围绕辐射路径设置的中空管，该管的形状和尺寸是这样的：使得投影系统聚焦在基底台上的辐射不会与该中空管壁交叉。c)提供用于利用气流连续冲洗中空管内部的部件，其中所述气体为氢气、氦气、氘化氢、氘或氩气和氢气的混合物，并且该气体的流动与来自基底的污染物的流动相反，并且/或中空管与介入空间流体连通。

    阀系统、液体目标材料供应设备、燃料发射器、辐射源、光刻设备和流量调节方法
    15.
    发明公开
    阀系统、液体目标材料供应设备、燃料发射器、辐射源、光刻设备和流量调节方法 审中-公开

    公开(公告)号：CN118285157A

    公开(公告)日：2024-07-02

    申请号：CN202280077258.4

    申请日：2022-10-26

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： J·H·W·雅各布斯 ,  D·J·M·狄莱克斯 ,  W·P·范德伦特

    IPC分类号： H05G2/00

    摘要： 本发明涉及一种用于将目标材料供应到辐射源的设备的阀系统，所述目标材料具有高于室温的熔化温度且处于至少200巴的压力下，其中，阀系统包括：‑腔室，所述腔室具有圆形横截面；‑圆形阀体，所述圆形阀体布置于腔室中并且匹配腔室的圆形横截面，其中，腔室包括第一端口和第二端口，其中，阀体能够围绕旋转轴线在平行于圆形横截面的平面的平面中在打开位置与关闭位置之间旋转；在打开位置处，阀体中的通道在第一端口与第二端口之间提供流动路径；在关闭位置处，阀体中的通道至少与第一端口断开连接。