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公开(公告)号：CN102681353A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210060737.3
申请日：2012-03-09
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： F·J·J·范鲍克斯台尔 , R·F·德格拉夫 , A·J·范德奈特 , J·A·M·M·范尤杰叔格 , L·H·范德霍伊维尔
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70858
摘要： 本发明公开了一种投影系统、光刻设备和器件制造方法。其中公开了投影系统、光刻设备和器件制造方法的各种配置。根据所公开的配置，所述投影系统配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。所述投影系统包括光学元件，所述光学元件包括第一面和第二面。所述第一面配置成暴露于连接至所述光刻设备的外面的外部气体环境。所述第二面配置成暴露于内部气体环境，所述内部气体环境实质上与所述外部气体环境隔离。所述投影系统还包括压强补偿系统，配置成响应于所述外部气体环境中的压强变化、或内部气体环境与外部气体环境之间的压差来调整所述内部气体环境中的压强。
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公开(公告)号：CN102385260A
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN201110325529.7
申请日：2006-02-06
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 汉斯·詹森 , 马克·凯尔特·斯坦温哥 , 杰克布思·约翰纳思·利昂纳得斯·亨朱克思·沃斯贝 , 弗朗西斯克思·约翰内思·圣约瑟·詹森 , 安东尼·奎吉普
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70858 , G03F7/2041 , G03F7/70341
摘要： 提供了一种浸没液体，包括：具有相对较高蒸汽压力的离子形成成分，例如酸或基剂。还提供了使用该浸没液体的光刻方法和光刻系统。
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公开(公告)号：CN102298268A
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN201110165289.9
申请日：2011-06-20
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： S·N·L·当德斯
CPC分类号： G03F7/70858 , F28D15/0266 , F28F27/00
摘要： 本发明涉及一种光刻设备和光刻设备冷却方法，所述光刻设备包括：照射系统，配置成调节辐射束；支撑件，构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束横截面中将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束；衬底台，构造成保持衬底；投影系统，配置成将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；和冷却系统，用于冷却所述光刻设备中的零件，增加了冷却能力，以降低从所述零件至所述设备的其它零件的热传递。
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公开(公告)号：CN102144192A
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN200980134829.8
申请日：2009-04-30
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F7/70175 , G03F7/70858 , G03F7/70983 , H05G2/003 , H05G2/005
摘要： 一种辐射系统，配置成产生辐射束。所述辐射系统包括：辐射源(50)，配置成产生发射辐射和碎片的等离子体；辐射收集器(70)，配置成引导所收集的辐射至辐射束发射孔(60)。磁场产生装置(200)配置成产生具有磁场强度梯度的磁场，以将等离子体引导离开辐射收集器(70)。
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公开(公告)号：CN101086629B
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN200710126411.5
申请日：2007-06-06
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/70116 , G03F7/70291 , G03F7/70858
摘要： 一种反射镜阵列装置包括用来支撑多个单独可调的反射元件的承载体。至少一个执行器与各反射元件相关联，该执行器配置成可调整相关联的反射元件相对于承载体的取向或位置。该装置还包括与反射元件的至少一部分相接触的液体。
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公开(公告)号：CN101952780A
公开(公告)日：2011-01-19
申请号：CN200980105437.9
申请日：2009-02-19
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·H·J·莫尔斯 , N·B·考斯特 , E·R·卢普斯特拉 , M·F·P·斯密特思 , A·T·W·凯姆彭
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70808 , G03F7/70858 , G03F7/70916
摘要： 一种光刻设备(1)，所述光刻设备(1)包括磁体(100)，所述磁体(100)被包含在保护性外罩(110)内，所述保护性外罩(110)被布置以保护磁体(100)不与包含H2或包含H原子的气体接触。外罩(110)还可以包含氢气吸气剂(120)、磁体表面修饰气体(130)或非包含氢的气体(130)。非包含氢的气体流可以被提供或磁体表面修饰气体流可以被提供通过保护性外罩(110)的至少一部分。
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公开(公告)号：CN1991591B
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN200610171747.9
申请日：2006-12-29
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： K·J·J·M·扎尔 , J·J·奥坦斯
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70716 , G03F7/70341 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/70783 , G03F7/7085 , G03F7/70858 , G03F7/70875
摘要： 公开了一种光刻装置，其具有与基底台隔开地形成的盖板和通过控制该盖板的温度来稳定基底台的温度的装置。公开了一种光刻装置，其具有布置在盖板和基底台之间的热绝缘体，使得该盖板用作基底台的热屏蔽。公开了一种光刻装置，其包括确定基底台的变形并参考该基底台的变形来改善对基底位置控制的装置。
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公开(公告)号：CN101140426B
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200710148346.6
申请日：2007-08-31
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 约翰尼斯·卡萨瑞纳斯·休伯特斯·穆尔肯斯
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F7/70341 , G03F7/70858 , G03F7/70916
摘要： 描述了一种在浸没式液体光刻设备中的再循环浸没流体的系统。公开了一种包括多条并行路径的循环路径，其中每一条路径具有其自身的并行液体处理单元，所述并行液体处理单元被优化用于处理通过其引导的流体。
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公开(公告)号：CN101713732A
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200910175167.0
申请日：2009-09-25
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： L·范道仁 , J·H·W·雅各布斯 , W·A·琼格尔
CPC分类号： G01N21/39 , G01N21/274 , G01N21/314 , G01N21/3554 , G01N2021/399 , G03F7/70341 , G03F7/70775 , G03F7/7085 , G03F7/70858 , G03F7/70916
摘要： 本发明公开了一种光刻设备和例如用于光刻设备的湿度测量系统。湿度测量系统包括可调谐激光二极管，配置以发射测量辐射束，所述测量辐射束具有在一波长范围内的波长。所述波长范围包括与水分子的吸收峰相关的第一波长。信号处理单元连接至辐射探测器。信号处理单元配置以测量经受吸收的所述可调谐激光二极管的测量辐射束的强度。所述信号处理单元还被连接至所述可调谐激光二极管，用于获得波长信息。所述信号处理单元被布置以探测作为所述波长的函数的在测量强度中的极限值和由所探测的极限值计算湿度值。
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公开(公告)号：CN1997943B
公开(公告)日：2010-05-05
申请号：CN200580019979.6
申请日：2005-06-06
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70858 , G03F7/70341 , G03F7/70841
摘要： 一种用于从光刻机具抽取多相流体流的真空系统(30)，包括用于从所述机具抽取所述流体的泵吸设备(36、38)，以及设置在所述泵吸设备的上游、用于将从所述机具抽取的所述流体分离为气相及液相的分离罐(32)。所述泵吸设备包括用于从所述罐抽取气体的第一泵(36)以及用于从所述罐(32)抽取液体的第二泵(38)。为了最小化从真空系统回传至机具内流体的任何压力波动，压力控制系统(54、56)通过调节所述罐(32)内的液体及气体的量来在罐(32)内维持大体恒定的压力。
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