公开(公告)号：CN111725042A

公开(公告)日：2020-09-29

申请号：CN202010173268.0

申请日：2020-03-13

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 松下浩

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/141 ,  H01J37/147 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明的课题在于以低成本适当地监控中子射线的产生状况。离子注入装置(100)具备：多个装置，沿着传输离子束的射束线(BL)配置；多个中子射线测定器(51、52、53、54)，配置于射束线的附近的多个位置，并测定由于高能量的离子束的碰撞而可能在射束线的多个部位产生的中子射线；及控制装置，根据多个中子射线测定器(51～54)中的至少一个中子射线测定器的测定值来监控多个装置中的至少一个。

公开(公告)号：CN110137067A

公开(公告)日：2019-08-16

申请号：CN201910102055.6

申请日：2019-02-01

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 井门德安 ,  狩谷宏行 ,  大浦正英

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/244

Abstract: 一种离子注入装置及测定装置。本发明实现离子束的角度分布的评价的高速化。本发明的测定装置(50)包括：多个狭缝(74a～74c)，使离子束入射；束电流测定部(54)，设置于从多个狭缝沿射束行进方向分离的位置；及测定控制部。束电流测定部(54)构成为能够在与射束行进方向正交的第1方向的位置不同的多个测定位置测定束电流。多个狭缝(74a～74c)以第1方向与狭缝宽度方向一致的方式沿第1方向隔着间隔配置，且以沿第1方向可移动的方式构成。测定控制部一边使多个狭缝沿第1方向移动，一边获取通过束电流测定部在第1方向的位置不同的多个测定位置测定的多个束电流值。

公开(公告)号：CN110137066A

公开(公告)日：2019-08-16

申请号：CN201910095982.X

申请日：2019-01-31

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 河津翔 ,  井门德安

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/265 ,  H01L21/67

Abstract: 一种离子注入装置及离子注入方法，实现离子束的角度分布的评价的高速化。射束线装置包括对离子束(B)施加电场或磁场中的至少一种而使其向与射束行进方向正交的第1方向偏转的偏转装置。狭缝(52)配置成使第1方向与狭缝宽度方向一致。射束电流测定装置(54)构成为能够在第1方向的位置不同的多个测定位置测定射束电流。控制装置(50)一边通过偏转装置改变离子束在第1方向的偏转量，一边获取通过射束电流测定装置(54)在第1方向的位置不同的多个测定位置测定的多个射束电流值，并计算出离子束的第1方向的角度信息。

公开(公告)号：CN108987226A

公开(公告)日：2018-12-11

申请号：CN201810529973.2

申请日：2018-05-29

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 松下浩

IPC: H01J37/317

CPC classification number: H01J37/304 ,  H01J37/08 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/0473 ,  H01J2237/30472 ,  H01J2237/31703

Abstract: 本发明的课题在于提供一种离子注入装置，应对由于使用具有比较高的能量的离子束而有可能产生的核反应。离子注入装置(100)具备：离子源，构成为生成包含非放射性核种的离子的离子束；射束线，构成为支承离子束被照射体；控制装置(50)，构成为运算通过入射于离子束被照射体(70)的非放射性核种的离子与作为之前进行的离子束照射的结果而积蓄在离子束被照射体(70)的非放射性核种的核反应而产生的放射线的推断线量。

公开(公告)号：CN108505009A

公开(公告)日：2018-09-07

申请号：CN201810163692.X

申请日：2018-02-27

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 佐佐木玄 ,  藤田胜士

IPC: C23C14/48 ,  H01L21/265

Abstract: 本发明提供一种离子注入装置。其课题在于提高离子注入装置中的射束能量测定的校正精度。离子注入装置(100)具备：离子源(10)，能够输出包含具有与引出电压相应的已知的能量的多价离子的校正用离子束；上游射束线(102)，包括质谱分析磁铁(22a)和高能量多级直线加速单元(14)；能量分析磁铁(24)；射束能量测定装置(200)，在能量分析磁铁(24)的下游测定校正用离子束的能量；及校正序列部，制作表示已知的能量与通过射束能量测定装置(200)测定出的校正用离子束的能量之间的对应关系的能量校正表。上游射束线压力在离子注入处理期间被调整为第1压力，在制作能量校正表的期间被调整为高于第1压力的第2压力。

公开(公告)号：CN111725042B

公开(公告)日：2024-12-24

申请号：CN202010173268.0

申请日：2020-03-13

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 松下浩

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/141 ,  H01J37/147 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明的课题在于以低成本适当地监控中子射线的产生状况。离子注入装置(100)具备：多个装置，沿着传输离子束的射束线(BL)配置；多个中子射线测定器(51、52、53、54)，配置于射束线的附近的多个位置，并测定由于高能量的离子束的碰撞而可能在射束线的多个部位产生的中子射线；及控制装置，根据多个中子射线测定器(51～54)中的至少一个中子射线测定器的测定值来监控多个装置中的至少一个。

公开(公告)号：CN111725043B

公开(公告)日：2024-11-22

申请号：CN202010173407.X

申请日：2020-03-13

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 松下浩 ,  大西亮太

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/244 ,  H01J37/147

Abstract: 本发明的课题在于抑制装置外的中子剂量率。离子注入装置(100)具备装置主体(58)及至少局部包围装置主体(58)的框体(60)。装置主体(58)包括沿着传输离子束的射束线(BL)配置的多个单元(12、14、16、18)及配置在射束线(BL)的最下游的基板传送处理单元(20)，并且具有由于高能量的离子束的碰撞而可能产生中子射线的中子射线产生源。离子注入装置(100)还具备中子射线散射部件，该中子射线散射部件配置在从中子射线产生源到框体(60)的距离成为规定以下的方向上从中子射线产生源射出的中子射线可能射入的位置。

公开(公告)号：CN118901120A

公开(公告)日：2024-11-05

申请号：CN202380027613.1

申请日：2023-02-13

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 中岛刚 ,  石川雅基 ,  松下浩

IPC: H01L21/265 ,  G01N23/09 ,  G01T3/00 ,  H01J37/244 ,  H01J37/317 ,  H05H9/00

Abstract: 本发明涉及监测中子射线的方法及离子注入装置，该方法包括：将时序数据记录于记录装置，该时序数据将包括沿着离子注入装置内的射束线传输的离子束的离子种类、能量及射束电流的射束条件与在离子注入装置内的规定的测定位置测定的中子剂量率建立对应关系；沿着射束线传输高能量离子束；获取在传输高能量离子束时在规定的测定位置测定的中子剂量率的测定值；使用时序数据和高能量离子束的射束条件，运算在传输高能量离子束时在规定的测定位置推断的中子剂量率的推断值；及比较测定值与推断值。

公开(公告)号：CN114999879A

公开(公告)日：2022-09-02

申请号：CN202210196986.9

申请日：2022-03-02

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 佐佐木玄 ,  河合骏 ,  稻田耕二

IPC: H01J37/145 ,  H01J37/30 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明可抑制污垢附着于静电四极透镜装置中所包含的电极体或支承电极体的绝缘部件，以提高射束线的真空度。静电四极透镜装置具备：多个透镜电极(82)，在对置的多个透镜电极之间隔着射束线(BL)在与射束线(BL)所延伸的轴向正交的径向上对置，且在与轴向及径向这两个方向正交的周向上隔着间隔配置；上游侧覆盖电极(84a)，包覆多个透镜电极(82)的射束线上游侧，且具有在轴向开口的射束入射口(92a)；及下游侧覆盖电极(84b)，包覆多个透镜电极(82)的射束线下游侧，且具有在轴向开口的射束射出口(92b)。上游侧覆盖电极(84a)及下游侧覆盖电极(84b)中至少一者具有在径向开口的至少一个气体排出口(94a、94b、96a、96b)。

公开(公告)号：CN114823261A

公开(公告)日：2022-07-29

申请号：CN202210057445.8

申请日：2022-01-19

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 二口泰成

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/304

Abstract: 本发明涉及离子注入方法及离子注入装置，可加速射束能量的调整。离子注入方法具备如下工序：根据用于将从高能量多级线性加速单元输出的离子束(IB)的射束能量设为第1输出值的第1数据集，决定用于将射束能量设为第2输出值的第2数据集。高能量多级线性加速单元具有多级的高频加速部(101～115)。各级的高频加速部(101～115)的加速相位在多级的高频加速部(101～115)的全部中在第1数据集与第2数据集之间相同。各级的高频加速部(101～115)的电压振幅在多级的高频加速部(101～115)的至少一级的的高频加速部中在第1数据集与第2数据集之间不同。