用于过程监测的高动态范围测量系统

    公开(公告)号:CN106066206B

    公开(公告)日:2018-09-04

    申请号:CN201610171306.2

    申请日:2016-03-24

    Abstract: 本发明涉及用于过程监测的高动态范围测量系统。提供了一种闪光灯控制系统,其具有静态电连接到高电压电源的电容器,接着电流感测部件电连接到静态电容器和数字控制电子器件以监测静态电容器的充电电流和/或放电电流。动态可开关的电容器也可以电连接到高电压电源和数字控制电子器件,用于基于所监测的充电电流和/或放电电流将动态可开关的电容器与高电压电源相隔离。一个或多个均质化元件,包括空气间隙、漫射均质化元件、成像元件、非成像元件或光管均质化元件,可以被布置在接近于闪光灯的光路中,例如多通道分配器如果存在的话,以在时间上或光谱上或者在这二者上降低光学信号的变化系数。

    用于故障检验和过程监测的辐射光学监测系统的校准

    公开(公告)号:CN101689222B

    公开(公告)日:2012-12-26

    申请号:CN200880015308.6

    申请日:2008-05-06

    CPC classification number: G01J3/443 G01J3/28 G01J2003/2866

    Abstract: 本发明涉及一种在故障检验和过程监测中使用的光谱设备辐射校准系统和方法。首先,将参考摄谱仪校准到本地基本标准(具有已知光谱强度和可追溯到参考标准的经校准的光源)。然后根据参考摄谱仪而非本地基本校准标准来校准其它摄谱仪。这通过用参考摄谱仪和待校准的摄谱仪两者观察光源来完成。来自待校准的摄谱仪的输出与参考摄谱仪的输出相比较,然后进行调整以与该输出一致。当前的校准过程能分两个阶段完成,第一阶段将摄谱仪校准到参考摄谱仪,然后在等离子腔室微调到窄带光源。作为替代,参考摄谱仪能校准到本地基本标准而光学耦合到等离子腔室。在此,本地基本标准校准光源临时定位在等离子腔室内、或者在沿着腔室内部布置的光腔室中,用于校准参考摄谱仪。当耦合到具有本地基本标准校准光源的等离子腔室时,其它摄谱仪能校准到参考摄谱仪,从而将整个光学路径中的每个组件校准到参考光源。

    用于薄膜厚度监测的外差式反射计及其实现方法

    公开(公告)号:CN101128718B

    公开(公告)日:2010-11-03

    申请号:CN200680006135.2

    申请日:2006-02-21

    CPC classification number: G01B11/0641

    Abstract: 一种用于根据外差光学信号获取相移信息的外差式反射计系统和方法,根据这些信号可以计算薄膜的深度。具有两个彼此正交、具有分离光学频率线性极化分量的线性极化光定向朝向薄膜,促使其中一个光学极化分量滞后于另一个分量,因为该分量在薄膜中的光学路径的增加。一对探测器分别接收从薄膜层反射的波束并且产生测量信号、以及入射到薄膜层之前的波束并且产生参考信号。测量信号和参考信号由鉴相器分析以获得相移。然后探测的相移供给厚度计算器以获得薄膜厚度结果。可以在外差式反射计系统中结合光栅干涉计,其中的光栅将反射的波束衍射到零阶和一阶带。

    用于在反应环境中的视口窗口上减少窗口模糊效应的方法和装置

    公开(公告)号:CN101681802A

    公开(公告)日:2010-03-24

    申请号:CN200880016054.X

    申请日:2008-04-29

    CPC classification number: H01J37/32477 H01J37/3244 H01J37/32449

    Abstract: 本发明提供了多通道阵列结构和一种机制,用于在多通道阵列中建立粘滞流来阻止导致窗口模糊的微粒流入。提供反应腔室用于将反应压力限制在反应容积中,沿着该腔室具有视口窗口用于查看至少部分反应容积。在反应腔室中设置有进入口,连接至反应容积,用于在反应容积中接收反应气体,而排出口设置在反应腔室中,连接至反应容积用于从反应容积提取出气体流。多通道阵列(MCA)设置在视口窗口和反应腔室的反应容积之间。MCA具有多个通道,每个通道具有直径和长度。窗口腔室限制在视口窗口和MCA之间,具有腔室窗口开口用于接收气体进入腔室容积。在MCA的通道的窗口侧形成粘滞流阻止微粒进入窗口腔室和附着在窗口上。通过腔室窗口开口提高窗口腔室的压力来建立粘滞流,其中窗口腔室压力超出了反应压力,但不足以充分地提高反应容积的气体流动的速率。粘滞流速率实际上低于反应气体流入反应容积的速率。

    用于薄膜厚度监测的外差式反射计及其实现方法

    公开(公告)号:CN101128718A

    公开(公告)日:2008-02-20

    申请号:CN200680006135.2

    申请日:2006-02-21

    CPC classification number: G01B11/0641

    Abstract: 一种用于根据外差光学信号获取相移信息的外差式反射计系统和方法,根据这些信号可以计算薄膜的深度。具有两个彼此正交、具有分离光学频率线性极化分量的线性极化光定向朝向薄膜,促使其中一个光学极化分量滞后于另一个分量,因为该分量在薄膜中的光学路径的增加。一对探测器分别接收从薄膜层反射的波束并且产生测量信号、以及入射到薄膜层之前的波束并且产生参考信号。测量信号和参考信号由鉴相器分析以获得相移。然后探测的相移供给厚度计算器以获得薄膜厚度结果。可以在外差式反射计系统中结合光栅干涉计,其中的光栅将反射的波束衍射到零阶和一阶带。

    多模式可配置光谱仪
    29.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113218935B

    公开(公告)日:2025-02-25

    申请号:CN202110490515.4

    申请日:2018-03-30

    Abstract: 本发明提供多模式可配置光谱仪、操作多模式可配置光谱仪的方法及光学监测系统。在一个实施例中,所述多模式可配置光谱仪包含:(1)光学传感器,其经配置以接收光学输入且将所述光学输入转换成电信号,其中所述光学传感器包含用于将所述光学输入转换成所述电信号的多个有源像素区域;及(2)转换电路,其具有多个可选择转换电路,所述转换电路经配置以接收所述电信号且根据所述可选择转换电路中的所选择者将所述电信号转换成数字输出。

    多模式可配置光谱仪
    30.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113218935A

    公开(公告)日:2021-08-06

    申请号:CN202110490515.4

    申请日:2018-03-30

    Abstract: 本发明提供多模式可配置光谱仪、操作多模式可配置光谱仪的方法及光学监测系统。在一个实施例中,所述多模式可配置光谱仪包含:(1)光学传感器,其经配置以接收光学输入且将所述光学输入转换成电信号,其中所述光学传感器包含用于将所述光学输入转换成所述电信号的多个有源像素区域;及(2)转换电路,其具有多个可选择转换电路,所述转换电路经配置以接收所述电信号且根据所述可选择转换电路中的所选择者将所述电信号转换成数字输出。

Patent Agency Ranking