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公开(公告)号：CN110073481A
公开(公告)日：2019-07-30
申请号：CN201780051374.8
申请日：2017-11-23
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 安德里亚斯·索尔 , 迈克尔·雷纳·舒尔特海斯 , 沃尔夫冈·布什贝克 , 安德里亚斯·勒普 , 马蒂亚斯·赫曼尼斯 , 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧
IPC: H01L21/677
Abstract: 本公开内容提供了根据独立权利要求的一种用于在真空腔室中支撑基板的基板载体、一种掩模夹持设备、一种真空处理系统和一种用于操作电永磁体元件的方法。根据本公开内容的一个方面，提供了一种用于在真空腔室中支撑基板的基板载体。所述基板载体包括电永磁体元件，其中所述电永磁体元件被配置为用于向掩模施加磁保持力。根据本公开内容的另一方面，提供了一种真空处理系统。所述真空处理系统包括真空处理腔室，所述真空处理腔室具有根据本公开内容的其它方面的至少一个基板载体或掩模夹持设备。根据本公开内容的另一方面，提供了一种用于在包括电永磁体元件的系统中操作电永磁体元件的方法。所述方法包括：在由所述基板载体支撑的基板的表面上提供掩模载体；通过施加电磁体的电流将所述电永磁体元件从非磁化状态切换到磁化状态；以及移除所述电流。
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公开(公告)号：CN110024100A
公开(公告)日：2019-07-16
申请号：CN201780045236.9
申请日：2017-11-10
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 萨伊亚穆图西·哥文达萨米 , 沃尔夫冈·克莱因 , 斯里尼瓦斯·萨鲁古 , 安德烈亚斯·索尔 , 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧
IPC: H01L21/677 , H01L21/68
Abstract: 描述对准载体、特别是掩模载体的方法。根据实施方式，所述方法包括：在运输方向(T)上运输载体(110)；将对准组件(150)的第一对准元件(152)插入所述载体的第二对准元件中，或将所述载体的第二对准元件插入对准组件(150)的第一对准元件(152)中；和通过在将所述第一对准元件插入所述第二对准元件中或将所述第二对准元件插入所述第一对准元件中时降低所述载体来在所述运输方向(T)上相对于所述对准组件(150)水平地对准所述载体。根据另外的实施方式，提供一种用于对准载体的设备。所述设备可经构造以从掩模载体更换掩模装置。进一步地，提供一种掩模载体。
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公开(公告)号：CN109072412A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780006507.X
申请日：2017-03-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 安德烈亚斯·索尔
Abstract: 本公开内容提供一种用于基板的真空处理的设备(100)。此设备(100)包括处理真空腔室(110)、维护真空腔室(120)、开口(130)、及磁性闭合布置(140)。开口(130)用于在处理真空腔室(110)及维护真空腔室(120)之间传送材料沉积源(1000)的至少一部分。磁性闭合布置(140)用于磁性地关闭开口(130)。
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公开(公告)号：CN108738330A
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201780006027.3
申请日：2017-02-24
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 马蒂亚斯·海曼斯 , 斯特凡·班格特 , 奥利弗·海梅尔 , 安德烈亚斯·索尔 , 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧
CPC classification number: C23C14/042 , C23C14/56 , H01L21/67709 , H01L21/67712 , H01L21/6776 , H01L21/682
Abstract: 本公开内容提供一种用于基板(10)的真空处理的设备(200)。设备(200)包括真空腔室、输送基板载具(120)的第一轨道布置(110)、输送掩模载具(140)的第二轨道布置(130)以及将基板载具(120)和掩模载具(140)相对于彼此定位的保持布置。第一轨道布置(110)包括经配置以在基板(10)的第一端(12)支撑基板载具(120)的第一部分和经配置以在与基板(10)的第一端(12)相对的基板(10)的第二端(14)支撑基板载具(120)的第二部分。第二轨道布置(120)包括经配置以在掩模(20)的第一端(22)支撑掩模载具(140)的另外第一部分和经配置以在与掩模(20)的第一端(22)相对的掩模(20)的第二端(24)支撑掩模载具(140)的另外第二部分。第一轨道布置(110)的第一部分和第二部分之间的第一距离(D)与第二轨道布置(130)的另外第一部分和另外第二部分之间的第二距离(D’)实质上相同。
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公开(公告)号：CN108966676B
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN201780007122.5
申请日：2017-04-12
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 安德烈亚斯·索尔
IPC: H01L21/677
Abstract: 说明一种处理掩模装置的方法，所述掩模装置经构造以用于在基板上的带掩模的沉积。所述方法包括：装载(Y1)掩模装置(10)至真空系统(100)中；在真空系统中附接(Y3)掩模装置(10)至掩模载体(15)；和在真空系统(100)中以非水平定向沿着输送路径输送保持掩模装置(10)的掩模载体(15)。一种其他掩模处理方法包括：在真空系统(100)中以非水平定向(V)沿着输送路径输送保持掩模装置(10)的掩模载体(15)；在真空系统(100)中从掩模载体(15)分离(X1)掩模装置(10)；和从真空系统(100)卸载(X3)掩模装置(10)。根据其他方面，说明一种用于处理掩模装置的掩模处理组件(20)以及具有至少一个掩模处理组件的真空系统。
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公开(公告)号：CN112204164B
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN201880093518.0
申请日：2018-05-29
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 斯蒂芬·班格特 , 栗田真一 , 于尔根·亨里奇 , 安德里亚斯·索尔
IPC: C23C14/04 , C23C14/56 , H01L21/677
Abstract: 描述一种在真空系统中处理掩模的方法。所述方法包括(a)在真空系统中沿着传送路径以非水平定向(V)传送运载第一掩模(11)的掩模载体(10)；(b)将运载第一掩模(11)的掩模载体(10)的定向从非水平定向(V)改变为基本上水平的定向(H)；和(c)从在真空系统中以基本上水平定向(H)布置的掩模载体(10)卸载第一掩模(11)。根据另外的方面，描述一种真空系统，包括掩模处理模块，所述掩模处理模块用于处理掩模。(图1C)。
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公开(公告)号：CN114127909A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN201980098401.6
申请日：2019-07-25
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 于尔根·亨里奇
IPC: H01L21/677
Abstract: 描述了一种用于基板处理系统的真空取向模块。所述模块包括至少第一真空取向腔室，包含：真空腔室；运输轨道，所述运输轨道在所述真空腔室内，所述运输轨道具有支撑结构和驱动结构并且限定运输方向；和取向致动器，所述取向致动器用于在非竖直取向与非水平取向之间改变基板取向，所述真空腔室在所述运输方向上在所述真空腔室的相对侧壁处具有两个狭缝开口、特别是两个基本上竖直的狭缝开口。
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公开(公告)号：CN112771198A
公开(公告)日：2021-05-07
申请号：CN201880098048.7
申请日：2018-10-22
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·班格特 , 于尔根·亨里奇 , 安德里亚斯·索尔 , 马蒂亚斯·赫曼尼斯 , 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧
Abstract: 描述了用于在真空腔室中的基板上沉积材料的材料沉积设备。所述材料沉积设备包括：掩模台，所述掩模台被配置为支撑具有掩模框架和掩模的掩模组件；基板传输轨道，所述基板传输轨道的至少一部分提供于真空腔室中，所述基板传输轨道被配置为支撑基板载体；保持装置，所述保持装置耦接至所述掩模台且被配置为用于将所述掩模组件沿基本上垂直的定向转移至所述掩模台上；和对准组件，所述对准组件具有两个或更多个对准致动器，所述对准组件耦接至所述掩模台且被配置为耦接至所述基板载体以使所述基板载体和所述掩模组件相对于彼此移动。
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公开(公告)号：CN109673158B
公开(公告)日：2021-04-02
申请号：CN201780029724.0
申请日：2017-08-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 安德烈亚斯·索尔
Abstract: 一种用于在真空涂布工艺中处理若干掩模的方法。每个掩模被配置为在涂布工艺中使用预定涂布应用时间。方法包括：提供若干匣盒，每个匣盒具有若干掩模狭槽；和根据每个掩模的涂布应用时间，将所述若干掩模分类成至少两个群集群组。方法进一步包括：将所述至少两个群集群组分配到所述若干匣盒中的一个或多个；和根据分配，将所述若干掩模存储在所述若干匣盒中。
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公开(公告)号：CN110972483A
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：CN201880046285.9
申请日：2018-07-30
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 安德烈亚斯·索尔 , 马蒂亚斯·克雷布斯 , 安娜贝儿·霍夫曼 , 杰里·西格蒙德
Abstract: 描述一种用于处理基板的真空处理设备。所述真空处理设备包括：真空腔室；和沉积源，所述沉积源设置在所述真空腔室中。所述设备进一步包括第一轨道布置，所述第一轨道布置具有适于输送基板的第一输送轨道和适于输送掩模的第二输送轨道。此外，所述设备包括第三输送轨道，所述第三输送轨道适于在所述沉积源与所述掩模之间输送掩模遮蔽件，以避免所述掩模的污染。所述第三输送轨道适于将所述掩模遮蔽件输送到真空腔室外，所以拆下及清洁受到来自沉积源的材料污染的掩模遮蔽件是可行的。
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