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公开(公告)号：CN101256365B
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN200810092608.6
申请日：2006-04-04
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70716 , G03F7/70341 , G03F7/70808
摘要： 光刻装置和器件制造方法，用于湿浸式光刻装置的液体供给系统可以在投影系统的最后一个元件和基底之间提供层流的浸液。控制系统可使溢出的概率最小化，并且引出装置包括配置成使振动最小化的出口阵列。
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公开(公告)号：CN101571677B
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN200910134770.4
申请日：2009-04-22
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： R·D·沃森 , Y·J·L·M·凡达麦乐恩 , J·H·W·雅各布斯 , H·詹森 , M·H·A·里恩德尔斯 , J·J·S·M·梅坦斯 , P·P·斯汀贾尔特 , A·M·C·P·德琼 , J·M·W·范德温克尔 , J·P·达派兹赛纳 , M·M·J·范德李 , H·M·D·范里尔 , G·塔纳撒
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70925
摘要： 本发明公开了一种光刻设备和运行光刻设备的方法，还公开了一种光刻投影设备，其包括清洁站。本发明公开了几个清洁站的实施例。在实施例中，采取了措施避免清洁流体与投影系统的最终元件接触。在实施例中，采取了措施避免清洁流体的起泡。本发明还公开了热隔离岛的使用以及其最佳位置。
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公开(公告)号：CN101681124A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880021208.4
申请日：2008-06-20
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： R·T·P·克姆蓬 , J·H·W·雅各布斯 , M·H·A·李恩德尔斯 , J·J·奥腾斯 , M·F·P·斯密特斯
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H01L21/6831 , G03F7/707 , G03F7/70783 , H01L21/6838 , H01L21/68714
摘要： 本发明涉及一种夹持装置，其配置用以将物体(20，120)夹持在支撑件(1，101)上。夹持装置包括：第一装置，其配置用以采用第一力驱使物体和支撑件彼此离开；和第二装置，其配置用以采用第二力驱使物体和支撑件朝向彼此。第一装置和第二装置配置成在完成物体在支撑件上的夹持之前，同步地分别施加第一力和第二力以将物体成形为所需形状。
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公开(公告)号：CN101571677A
公开(公告)日：2009-11-04
申请号：CN200910134770.4
申请日：2009-04-22
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： R·D·沃森 , Y·J·L·M·凡达麦乐恩 , J·H·W·雅各布斯 , H·詹森 , M·H·A·里恩德尔斯 , J·J·S·M·梅坦斯 , P·P·斯汀贾尔特 , A·M·C·P·德琼 , J·M·W·范德温克尔 , J·P·达派兹赛纳 , M·M·J·范德李 , H·M·D·范里尔 , G·塔纳撒
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70925
摘要： 本发明公开了一种光刻设备和运行光刻设备的方法，还公开了一种光刻投影设备，其包括清洁站。本发明公开了几个清洁站的实施例。在实施例中，采取了措施避免清洁流体与投影系统的最终元件接触。在实施例中，采取了措施避免清洁流体的起泡。本发明还公开了热隔离岛的使用以及其最佳位置。
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公开(公告)号：CN1811601A
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：CN200610008927.5
申请日：2006-01-12
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·M·M·列布雷格特斯 , J·H·W·雅各布斯 , T·尤得迪杰克
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341
摘要： 本发明公开了一种浸没光刻装置，在所述装置中，一个或多个液体分流器设置在液体限制结构所包围的间隙中。液体分流器的功能是阻止一个或多个浸没液体回流区的形成，回流区可以导致在所述间隙中的浸没液体的折射率改变，进而造成成像错误。
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公开(公告)号：CN118303134A
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN202280077315.9
申请日：2022-11-18
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： B·L·W·M·范德文 , W·P·范德伦特 , N·J·W·鲁弗斯 , E·J·比伊斯 , D·J·M·迪莱克斯 , M·W·L·H·费杰兹 , J·H·W·雅各布斯 , B·L·柯纳彭 , J·S·C·维斯特尔拉肯
IPC分类号： H05G2/00
摘要： 本发明涉及一种用于将液体目标材料供应至辐射源的设备，包括：第一贮液器；加压系统，所述加压系统被配置成对液压流体加压；以及分离装置，所述分离装置被配置成将所述液压流体与所述第一贮液器中的所述液体目标材料分离且将压力从所述液压流体传送至所述液体目标材料。本发明也涉及一种将液体目标材料供应至辐射源的相关联的方法。
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公开(公告)号：CN111837076A
公开(公告)日：2020-10-27
申请号：CN201980017251.1
申请日：2019-02-28
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 马悦 , A·T·W·肯彭 , K·M·休姆勒 , J·H·J·穆尔斯 , J·H·罗梅斯 , H·J·范德威尔 , A·D·拉弗格 , F·布里祖拉 , R·C·怀格斯 , U·P·戈梅斯 , E·内达诺维斯卡 , C·科科玛兹 , A·D·金 , R·M·杜阿尔特·罗德里格斯·努涅斯 , H·A·L·范迪杰克 , W·P·范德伦特 , P·G·琼克斯 , 朱秋石 , P·雅格霍比 , J·S·C·韦斯特拉肯 , M·H·A·里恩德斯 , A·I·厄肖夫 , I·V·福门科夫 , 刘飞 , J·H·W·雅各布斯 , A·S·库兹内特索夫
摘要： 通过气体到包含光学元件的真空室(26)中的受控引入，减少用于生成EUV辐射的系统(SO)中的一个或多个反射光学元件的反射率的劣化。该气体可以被添加到诸如氢气的另一气体流中，或者与氢自由基的引入交替。
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公开(公告)号：CN107300835B
公开(公告)日：2019-02-15
申请号：CN201710354580.8
申请日：2013-04-16
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·H·W·雅各布斯 , J·S·C·维斯特尔拉肯
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种热调节单元(100)，用以热调节光刻设备中的衬底(W)，所述热调节单元包括：热调节元件(200)，所述热调节元件包括第一层(210)、第二层(220)、定位在第一层和第二层之间的热传递部件(230)以及用于在其上定位衬底的突起(260)，第一层在使用时面对衬底并且包括具有100W/mK或更大的热导率的材料；和加强构件(110)，所述加强构件比热调节元件硬并且配置成支撑热调节元件以便减小其机械变形，其中所述热调节元件与所述加强构件是热隔离的。
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公开(公告)号：CN107367907A
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：CN201710708172.8
申请日：2013-05-17
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： S·N·L·唐德斯 , M·菲恩 , C·A·霍根达姆 , M·霍本 , J·H·W·雅各布斯 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , J·V·奥弗卡姆普 , N·坦凯特 , J·S·C·韦斯特拉肯 , A·F·J·德格罗特 , M·范贝杰纳姆
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70716 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70733 , G03F7/70858
摘要： 一种用于光刻装置的支撑装置(60)，具有物体保持件(61)和在物体保持件径向外侧的提取主体(65)。物体保持件被配置为支撑物体(W)。提取主体包括被配置为从支撑装置的顶面提取流体的提取开口(66)。提取主体与物体保持件间隔开，使得提取主体与物体保持件基本解耦。提取主体包括突起(30)，所述突起被配置为使得其围绕物体保持件，并且使得在使用中液体(32)的层保留在突起上且接触支撑在物体保持件上的物体。
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公开(公告)号：CN106873312A
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201610987008.0
申请日：2013-03-19
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： T·劳伦特 , J·H·W·雅各布斯 , H·考克 , Y·范德维基维尔 , J·范德瓦尔 , B·克拿伦 , R·J·伍德 , J·S·C·维斯特尔拉肯 , H·范德里基德特 , E·库伊克尔 , W·M·J·赫肯斯-墨腾斯 , Y·B·Y·特莱特
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供了一种用于浸没光刻设备中的传感器、光刻设备和使用浸没光刻设备的器件制造方法。所述传感器包括构件，在传感器的使用过程中所述构件接触供给至与投影系统的最终元件相邻的空间的浸没液体；变换器，配置成将刺激转换为电信号；温度调节装置，配置成使用由冷却剂供给装置所供给的热传递介质进行所述变换器的温度调节；和控制器，配置成控制所述温度调节装置以主动地控制所述变换器的温度。
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